【課題】基材と多孔質シリカ膜との密着性が高く、可視光線透過率が高い、多孔質シリカ膜を有する積層体を提供する。
【解決手段】Ｔｇが２００℃以下の透光性基材上に、屈折率が１．２０〜１．３５である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックＭＩＬ−ＣＣＣ−ｃ−４４０に記載のチーズクロスを荷重５００ｇ／ｃｍ^２で前記多孔質シリカ膜表面上を２０往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して５％未満であることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】透明性、屈折率、耐磨耗性に優れた多孔質体を提供する。
【解決手段】炭素数３〜１２のアルキル基を含有し、かつ表面の最小反射率が１％以下であることを特徴とするセラミックス多孔質体。 （もっと読む）

【課題】 メソポーラスシリカ膜の低屈折率を保ちつつ、吸湿による屈折率の変動を抑制する。
【解決手段】 メソポーラスシリカ膜の少なくとも一方の表面から深さ１０ｎｍ未満の領域である表面層にＳｉＯ_{（２−ｎ／２）}Ｘ_ｎ（Ｘはアルキル基、フッ化アルキル基およびフッ素から選ばれる少なくとも１種類以上からなる基を示す。ｎは１以上３以下の整数を示す。Ｘがアルキル基またはフッ化アルキル基の場合、その一部に不飽和結合を有していてもよい。）で表わされる構造を有し、前記表面層におけるケイ素炭素及びフッ素の合計の元素成分比が０．１以上であり、前記表面から深さ１０ｎｍ以上の領域である内部層におけるケイ素に対する炭素とフッ素の合計の元素成分比が、前記表面層における元素成分比より小さい。 （もっと読む）

【課題】光電変換装置において、新しい反射防止構造を有する光電変換装置を提供する。
【解決手段】光電変換装置において、受光面となる半導体基板の表面をウィスカー群（ナノワイヤー群）で被覆されるようにして、表面反射を低減させる。すなわち、半導体基板の受光面側に、ウィスカー状の成長表面を有する半導体層を設ける。当該半導体層は、任意の凹凸構造を有することになるので、半導体基板での表面反射を低減させ、変換効率を向上させる効果を奏する。 （もっと読む）

【課題】浸漬タクトを低下させることなく、平滑性に優れた板状半導体を作製することができる消波構造付容器を提供する。
【解決手段】本発明の消波構造付容器は、金属材料または半導体材料のいずれか一方を含有する融液に、成長基板を浸漬させるための坩堝と、該坩堝の上面に接して取り付けられた保持体と、該保持体の融液の液面側に取り付けられた支持体と、該支持体に接触して設けられた消波構造とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】空孔率を維持しつつ、膜強度が高く、低屈折率の多孔質膜の製造方法および低屈折率の反射防止膜を提供する。
【解決手段】シリカを主成分とする多孔質膜の製造方法であって、有機物、シリカ前駆体物質、アルコール、酸又は塩基からなる触媒、及び水を含有するゾル反応液を基材上に塗布して乾燥させる工程、前記基材を焼成して前記有機物を除去して基材上にシリカ多孔質膜を形成する工程、前記シリカ多孔質膜に対してＵＶオゾン処理を行う工程を有する多孔質膜の製造方法。上記の製造方法により得られた多孔質膜を有する反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】ケイ素酸化物の薄膜やケイ素酸化物コート材にマクロ孔を複数形成させる技術、およびそのようなケイ素酸化物の薄膜やケイ素酸化物コート材に関する技術を提供する。
【解決手段】水溶性ポリマーを添加したケイ酸塩溶液を支持体に塗布する工程、５０ｎｍ〜３０μｍの複数のマクロ孔を形成するために得られた塗布膜から水溶性ポリマーを除去する工程を含む、マクロ孔が形成されたケイ素酸化物薄膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】金属とリチウムとの合金化・脱合金化反応を利用したリチウムイオン二次電池用負極材に好適な、高容量で、充放電サイクル性に優れる複合粒子、その製造方法、それを用いたリチウムイオン二次電池用負極及びリチウムイオン二次電池を提供すること。
【解決手段】複合粒子を、リチウムを電気化学的に吸蔵・放出できる金属Ａと、前記金属Ａよりも導電性が高く、且つ前記金属Ａよりもリチウムの吸蔵・放出能力が低い金属Ｂと、を含有して構成し、粉体電気抵抗が圧力５０ＭＰａにおいて１×Ｅ１Ω・ｃｍ以上１×Ｅ８Ω・ｃｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】不純物汚染を十分に抑制しながら、低コストで、生産性良く気相成長を行うことができる気相成長装置及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。
【解決手段】気相成長装置１０の反応チャンバー１２内に配設されたサセプタ１７のウェーハＷの載置面が、原料ガスから生成された厚さ６〜２０μｍのポリシリコン膜で被覆され、かつ、前記気相成長装置１０を構成する部材のうち前記反応チャンバー１２内に露出した金属部材の表面が、原料ガスから生成された反応副生成物からなる膜で被覆された反応チャンバーを具備する気相成長装置とする。 （もっと読む）

【課題】 ＦｅＰｔ合金の素地にＳｉＯ_２等の酸化物を含む高密度の磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式：（Ｆｅ_ｘＰｔ_{（１００−ｘ）}）_{（１００−ｙ）}（ＳｉＯ_２）_ｙ、ここで４０≦ｘ≦６０（単位：モル％）、５≦ｙ≦３０（単位：モル％）で表される組成を有する焼結体からなるターゲットであって、その組織が、ＳｉＯ_２相と、ＦｅとＰｔとの固溶体からなるＦｅＰｔ合金相と、ＳｉＯ_２相とＦｅＰｔ合金相との界面において、Ｓｉ、Ｏ、ＦｅおよびＰｔの各元素が相互に拡散することによって形成するＳｉ、Ｏ、ＦｅおよびＰｔを含有する相互拡散相と、で構成されている。 （もっと読む）

【課題】スプレーコート法により、良好な多孔質構造を有し、膜欠陥や膜表面荒れといった外観上の問題がなく、低屈折率性等の機能性、耐久性に優れたシリカ系多孔質膜を安定に製造する。
【解決手段】アルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも１種のアルコキシシラン化合物と、界面活性剤と、炭素数１〜３の低級アルコールと、沸点１２５〜１８０℃で２０℃又は２５℃の蒸気圧が２．０ｋＰａ以下の有機溶媒と、水とを含むシリカ系組成物を霧状に噴出させることにより、透光基材上にシリカ系前駆体を製膜する製膜工程、及び、該シリカ系前駆体を加熱してシリカ系多孔質膜とする加熱工程を含むシリカ系多孔質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】極めて高いバリア性能、ＵＶカット性、密着性に優れるバリア性フィルムを提供し、それを用いた有機光電変換素子や有機ＥＬ素子の様な有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルムとして、樹脂基板の両面上にガスバリア層が、それぞれ、紫外線カット層と、酸化珪素層および酸化窒化珪素層から選ばれる少なくとも１種の層とをこの順に設けてあることを特徴とするガスバリア性フィルム及び有機電子デバイス。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、優れた熱伝導性及び絶縁性を有する複合シートを提供する。
【解決手段】 本発明の複合シートは、黒鉛化合物を薄片化してなる薄片化黒鉛を含む薄片化黒鉛層１と、層状珪酸塩を含む層状珪酸塩層２とが積層一体化してなることを特徴とするので、複合シートの厚み方向には絶縁性を有し、複合シートの面に沿った方向には高い熱伝導性を有すると共に、全体として無機成分が多いために耐熱性が高く、線膨張率も低く、更に、複合シートの機械的強度も高く且つ優れた屈曲性も有している。 （もっと読む）

【課題】繊維体にゾル溶液を簡単且つ確実に含浸することができるエアロゲルシート製造装置を提供する。
【解決手段】ゾル溶液Ｓを、繊維体Fに含浸させるためのエアロゲルシート製造装置Ａであって、ゾル溶液Ｓが貯留される貯留容器１と、前記貯留容器１に貯留されたゾル溶液Ｓを、前記繊維体Fの上方から供給する第一供給部２と、前記繊維体Fを移動させる送り部３１を備えた移動用レール３と、前記移動用レール３における前記第一供給部２よりも下流に配置され、タンク８１内に貯留された熱加水分解性化合物Ｙを、前記繊維体に噴出させる第二供給部８と、からなり、前記移動用レール３における前記第一供給部２と前記第二供給部８との間には、前記ゾル溶液Ｓを貯留すると共に、当該ゾル溶液Ｓに前記繊維体Ｆが浸漬される深さを有する貯水部４が形成され、当該貯水部４を通った繊維体Ｆに前記第二供給部８から熱加水分解性化合物Ｙが噴出されるようにしている。 （もっと読む）

【課題】 気相成長した半導体膜の面内の特性のばらつきを抑制する。
【解決手段】 気相成長装置１００は、基板４４の表面に半導体膜を成長させる。気相成長装置１００は、気相成長室３８と、攪拌室２と、連通路１４と、調整装置１を有する。気相成長室３８は、基板４４が載置される載置台３４を有する。攪拌室２は、複数の原料ガスを攪拌して混合原料ガス１０を生成する。連通路１４は、気相成長室３８と攪拌室２を連通する。調整装置１は、混合原料ガス１０を気相成長室３８内に対して導入する導入量を調整する。 （もっと読む）

【課題】基板にシリコン薄膜を形成する際、従来のプラズマ処理装置に比べて純度の高いシリコン薄膜を形成することのできる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】薄膜形成装置は、減圧状態の成膜空間を形成する成膜容器と、前記成膜空間に原料ガスを供給する原料ガス供給部と、前記原料ガスが供給された前記成膜空間で、電磁波を用いてプラズマを生成させるプラズマ生成素子と、を有する。前記プラズマ生成素子は、前記成膜空間と隔壁で隔てられた空間に設けられ、前記隔壁の前記成膜空間に接する表面には、シリコンを主成分とする隔壁基材が設けられている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡単かつ効率的に、薄片径の揃った、また、表面が平坦な薄片状物質を得ることができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機金属化合物を含み微粒子を分散させた塗布液を表面粗さＲａが６０〜２００ｎｍである基材上に塗布し、該基材を乾燥することで、基材上に前記微粒子を含む有機金属化合物由来の薄膜体を形成し、前記乾燥工程中、及び／または、乾燥工程後に、前記薄膜体中の微粒子またはその近傍を起点として前記薄膜体にクラックを生じせしめた後に、前記基材から薄膜体を剥離すること。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＨＣｌ_３からＳｉを生成する際の反応効率を向上させる。
【解決手段】Ｈ_２とＡｒ等のキャリアガスをパルス熱プラズマ発生装置であるプラズマ発生部に導入して水素ラジカルを含むプラズマを発生させ、当該プラズマをＳｉＨＣｌ_３と反応させる。Ｈ_２をＳｉＨＣｌ_３と反応させる従来技術で優先的に起こるＳｉＣｌ_４生成反応が抑止され、Ｓｉを効率よく生成することができる。 （もっと読む）

【課題】充放電時の体積変化による影響を緩和して、良好な充放電サイクル特性を発現することが可能なリチウムイオン二次電池用負極活物質を提供する。
【解決手段】少なくともシリコンと酸素とを構成元素中に含む物質からなるリチウムイオン二次電池用の負極活物質であって、厚みが３０〜５００ｎｍであり、かつ、平均長径／厚みの比が１０〜１００である鱗片状の粉末からなり、酸素含有量が５〜３８ｗｔ％であるようにした。 （もっと読む）

【課題】局所的な凝集が発生せず分散安定性に優れた被膜用シリカゾルを提供し、また耐擦傷性、耐薬品性が良好な被膜を形成し得る組成物を提供し、さらに前記組成物を硬化させて形成する被膜、及び樹脂積層体を提供する。
【解決手段】（ａ−１）中空シリカ微粒子４０〜９０質量％と、（ａ−２）特定のシラン化合物６０〜１０質量％と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第１の工程、固形分濃度が３５質量％以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第２の工程、加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を３０質量％〜８０質量％とする第３の工程、前記混合物中、縮合反応させる第４の工程を有する被膜用シリカゾルの製造方法。 （もっと読む）