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Fターム[4G072BB09]の内容

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Fターム[4G072BB09]に分類される特許

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【課題】太陽電池用などに用いられるシリコンシートにおいて、そのシリコンシートを用いた太陽電池のさらなる高効率化を図ること。
【解決手段】本発明は、表裏の2つの主面の両主面に凹凸を有するシリコンシートであって、上記2つの主面の凹凸の大きさが異なるシリコンシートである。また本発明は、上記のシリコンシートを有する太陽電池であって、凹凸が大きい面が金属電極で被覆されてなることを特徴とする太陽電池にも関する。 (もっと読む)


【課題】太陽電池に用いる電極として利用可能な新たな半導体電極、半導体電極を用いた太陽電池、及び半導体電極の製造方法を提供する。
【解決手段】太陽電池1は、半導体電極10と、対向電極20と、電解質30と、封止材40とを有する。半導体電極10は、光透過性を有し、光が入射する入射面11aを有する。対向電極20は、半導体電極10に対向して配設される。電解質30は、半導体電極10と対向電極20との間の空間に配設される。封止材40は、空間に配設される電解質30を封止する。半導体電極10は、透明電極12を有する。透明電極12は、光透過性を有し入射面11aを有する基板11において、入射面11aの反対の表面に配設される。透明電極12は、基板11が接合される表面の反対面に金属酸化物層13が配設される。金属酸化物層13は、金属酸化物の微粒子14と、ケイ素微粒子15とを含む。 (もっと読む)


【課題】 屈折率が低く、耐摩耗性に優れ、水に対して安定なシリカ多孔質体、および、それを用いた光学用途積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系組成物からシリカ多孔質体を製造する製造方法であって、該組成物が、下記(A)〜(E)を含み、該組成物中の全アルコキシシラン類由来の珪素原子に対する水の割合(mol/mol)が10以上50以下であって、該組成物を膜厚が0.05〜0.5μmになるように膜化し、100℃〜200℃で加熱した後、更に300℃〜700℃で加熱する。
(A):下記(a)及び/又は(b)
(a)少なくともテトラアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるテトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種、並びにテトラアルコキシシラン類以外のアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなる他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種
(b)該テトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種及び他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種の部分縮合物
(B):水
(C):有機溶媒
(D):触媒
(E):有機ポリマー (もっと読む)


【課題】P型ドープシリコン前駆体を効率よく生成する。
【解決手段】シクロペンタシラン溶液11に、ドーパントをラジカル化するための第1の波長の光と、シクロペンタシランをラジカル化するための第2の波長の光を含む紫外線15を高圧水銀ランプ14から照射し、同時にドーパントガス16としてのジボランガスをシクロペンタシラン溶液11に供給することにより、シクロペンタシランの重合体にドーパントが結合したP型ドープシリコン前駆体を生成する。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では薄箔素子の変形や断線が起こり、また、シリコンの変形や空気の混入などが起こっていた。圧力が収縮率の違う物に均一にかかっていた為である。
【解決手段】平面状にマス目を付け、マス目を潰して圧力を分散し収縮を少なくする。この構造により素子への圧力を弱め、シリコンの収縮を抑え空気を抜く事や変形や断線を抑える事が出来る。シリコンにて薄箔を圧着する製造方法を構成している。 (もっと読む)


金属酸化物前駆体、溶媒およびエポキシドの混合物からゾルを製造すること、およびゾルから金属酸化物材料を調製することにより調製される誘電体酸化物材料。種々の形態において、混合物は、共溶媒、1以上の追加の金属酸化物前駆体、水、またはガラス形成酸化物の前駆体、またはこれらの任意の組合せをも含み得る。調製された誘電体酸化物材料は、κ値が高く、漏電が少なく、誘電正接値が低い薄膜の形態であり得る。
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【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム2を結晶成長させた(S10)後に、熟成(S11)、脱水し(S12)、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ(S13)、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする(S14)。このようにして作製したシリカコーティング粒子3を洗浄した(S15)後に、水に分散させて(S16)、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム2を溶解させて流出させることによって(S17)、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子4が形成され、乾燥した(S18)後に、加熱工程において400℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって(S19)、低密度シリカナノ中空粒子1が製造される。 (もっと読む)


モールドシートに亘って圧力差が適用され、半導体ウエハ(例えばシリコン)がその上に形成される。圧力差の緩和がウエハを取り外すことを可能にする。モールドシートは、メルトよりも冷たい。熱は、形成ウエハの厚み方向のみに拡散される。液固界面はモールドシートにほぼ平行である。凝固体の温度は幅方向に亘ってほぼ均一であり、その結果、低ストレス及び転位密度並びに高品質の結晶性を提供する。モールドシートは、それを通過するガス粒を可能にする必要がある。水平、垂直又はその中間のいずれかのメルト頂部への全領域接触、モールドシートへのメルトの部分領域横断、並びに、モールドのメルトへのディッピングによって、メルトがシートに導入されうる。多くの手段によって粒サイズを制御可能である。 (もっと読む)


【課題】従来のポリマー材料を用いたプロトン伝導体では、耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に課題があり、さらに、100℃を越える温度では、プロトン伝導体として安定に作動させることが困難なため、燃料電池の電解質に用いた場合に高温で安定に作動することができなかった。
【解決手段】少なくとも下記(1)式のアニオン基を有し、150℃、相対温度100%におけるプロトン伝導度が0.1S/cm以上であることを特徴とするプロトン伝導性シリカ。
【化1】


(ただし、XはC2m(m=1〜10)、C2m(m=1〜10)、CCl2m(m=1〜10)、CBr2m(m=1〜10)、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アンスリル基から選ばれる置換基である。) (もっと読む)


【課題】例えばEtOHのように分子サイズの小さな液体からも、水分を良好に選択除去できる水分除去方法を提供する。
【解決手段】Heガス透過流量FHeとSFガス透過流量FSF6との比:FHe/FSF6が100〜10000であるとともに、SFガス透過流量FSF6が1×10−11 〜1×10−8 mol/(m・Pa・sec)である無機材質膜10を使用する。この方法は、特に液体がエタノール、イソプロピルアルコールなどの分子サイズが0.36nm以上のものである場合に効果的である。 (もっと読む)


【課題】可燃性溶媒を用いることなく、基板上に無機膜を安全かつ低時間、超低電力で製膜できる、工業的に極めて有利な無機膜の製膜方法を提供する。
【解決手段】泳動電着法により基板表面に無機膜を製膜する方法において、電着浴の溶媒としてハイドロフルオロエーテルを用いた無機膜を製膜する。
ハイドロフルオロエーテルとしては、好ましくは下記一般式(I)で示されるフルオロエーテルを用いる。
R1−O−R2 (I)
(R1およびR2は、炭素数1〜6のアルキル基または炭素数1〜6のフルオロアルキル基であり、かつR1およびR2の少なくとも一方は炭素数1〜6のフルオロアルキル基である。) (もっと読む)


【課題】低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】膜の表面および内部に存在する細孔が直径2nm以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が5H以上であり、分光エリプソメータを用いて波長655nmの光を膜表面に対して入射角75度にて入射させた際の屈折率が1.33以下である多孔質シリカ膜であり、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる工程を含む方法により製造する。 (もっと読む)


【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが0.5〜20nmである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数(SR)と全珪素のモル数(ST)の比SR/STが0.001〜0.9であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】液相プロセスを用いて、安全かつ所望な膜厚の良質な膜を形成することができる高次シラン組成物を提供すること。
【解決手段】上記高次シラン組成物は、高次シラン化合物および溶媒を含有する組成物であって、前記溶媒が、二重結合を1つまたは2つ有し、アルキル基を有さず、炭素および水素のみから構成され、屈折率が1.40〜1.51であり、比誘電率が3.0以下であり、そして分子量が180以下である環状炭化水素を含有してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】350〜650℃程度の高温環境下であっても白色化が抑制される塗膜を形成できる耐熱塗料を提供する。
【解決手段】シリコーン樹脂および/またはエポキシ樹脂と、黒色顔料とを含む耐熱塗料において、前記黒色顔料として、マンガンおよび銅を含み、前記黒色顔料中のマンガンの含有量が、MnO換算で25〜45質量%であり、前記黒色顔料中の銅の含有量が、CuO換算で5〜25質量%であり、前記黒色顔料中のケイ素の含有量が、SiO換算で3質量%以下である黒色顔料を用いる。 (もっと読む)


【課題】350〜650℃程度の高温環境下であっても塗膜の白色化および色むらが抑制される鞍乗り型車両のマフラーおよび該マフラーを備えた鞍乗り型車両を提供する。
【解決手段】内部に触媒9を有し、かつ表面の少なくとも一部に黒色顔料を含む塗膜(図中の斜線部)が形成された、鞍乗り型車両のマフラー5において、前記黒色顔料として、マンガンおよび銅を含み、前記黒色顔料中のマンガンの含有量が、MnO換算で25〜45質量%であり、前記黒色顔料中の銅の含有量が、CuO換算で5〜25質量%であり、前記黒色顔料中のケイ素の含有量が、SiO換算で3質量%以下である黒色顔料を用いる。 (もっと読む)


【課題】高透過率かつ高導電性を有し、表面が平坦であり耐熱性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜および前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子において、Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Fe、Co、Ni、Al、In、Snの金属あるいは前記金属を2種類以上含む合金を加熱焼成して得られる酸化ケイ素ゲル体膜を主成分とし、金属微粒子で構成される網目状構造物が内包されたことを特徴とする透明導電性膜及び透明導電性膜積層基板である。 (もっと読む)


【課題】基材の面粗度に関係なく、優れた耐食性を十分に発揮できる複合膜、およびその形成方法を提供する。
【解決手段】基板20上に設けられた、シリカと樹脂を含有するコーティング膜11と、該コーティング膜11上に設けられたシリカ膜12とを備えたことを特徴とする複合膜10、および基材20上に、ポリシラザンと、樹脂と、ポリシラザンとは反応せず、かつポリシラザンが溶解する溶媒とを含有する混合液を塗布し、乾燥させてコーティング膜11を形成するコーティング膜形成工程と、前記コーティング膜11上に、ポリシラザン溶液を塗布し、乾燥させてポリシラザン膜を形成するポリシラザン膜形成工程と、前記ポリシラザン膜中のポリシラザンをシリカに転化して、シリカ膜12を形成するシリカ膜形成工程とを有することを特徴とする複合膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】シリコン基板の鏡面加工面上にジグ跡のない高品質の酸化膜を有する酸化膜付きシリコン基板の製造方法及び酸化膜付きシリコン基板を製造する際に用いられる熱処理装置を提供する。
【解決手段】エッジ面取り加工が施されたシリコン基板を、少なくとも対向する側板と、該側板間に連結される溝を有する複数の支持棒とを具備するホルダに保持して、酸化性雰囲気下で熱処理することで表面に酸化膜を形成する酸化膜付きシリコン基板の製造方法において、前記シリコン基板の保持は、前記ホルダに具備された前記支持棒の溝と、前記シリコン基板の最外周端部及び面取り加工部の少なくとも一方とを接触させることのみで為すことを特徴とする酸化膜付きシリコン基板の製造方法。 (もっと読む)


自己組織化シリカ縮合物、さらにはコーティング組成物におけるその使用が記載されている。自己組織化シリカ縮合物は、中鎖状〜長鎖状トリアルコキシシラン化合物の加水分解により形成可能である。自己組織化シリカ縮合物を含有するコーティング組成物は、改良された耐引掻き性および耐擦傷性を有するコーティングを提供しうるとともに、優れた上塗り付着性を有しうる。 (もっと読む)


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