【課題】無機微粒子分散工程を安定化させ、且つ高光沢と高いインク吸収性を有するインクジェット記録材料を提供する。
【解決手段】水系分散媒中にシリカ粉体を分散したシリカ分散液の分散方法であって、回転翼式攪拌機１を備えた分散タンク２に回流する経路を有し、その経路には外部からシリカ粉体を連続的に吸引及び分散する吸引分散機６を配置し、吸引分散機６の吐出側に流量計８を設けた連続式粉体分散方法において、その流量計８の指示値と分散タンクに備えた回転翼式撹拌機１のモーターの電流計の指示値に対し、粉体供給量を制御することを特徴とするシリカ分散液の分散方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度で凝集沈降の起こりにくいシリカ分散液を製造する方法を提供する。
【解決手段】シリカ微粒子を分散媒中に分散したシリカ分散液の製造方法において、該シリカ微粒子が平均１次粒径が３〜１５ｎｍの気相法シリカであり、水を主体とし平均分子量５万以下のカチオンポリマーを添加した分散媒にシリカ微粒子を添加、混合してシリカスラリーを作製した後、該シリカスラリーを分散機で分散することを特徴とするシリカ分散液の製造方法。 （もっと読む）

ＳｉＯ₂又はＳｉＯ₂と他の金属酸化物、特にＡｌ₂Ｏ₃との混合酸化物のナノスケール原粒子を記載する。これらは１〜２０００ｎｍ（ＺｅｔａｓｉｚｅｒＮＳ装置（Ｎａｎｏ Ｓｅｒｉｅｓ）による粒径を計測する方法により測定）の平均粒径並びに負電荷を有し、そして、生地材料の親水性化コーティングのために好都合に使用できる。親水性中間層を有さない生地材料と比較して向上したアルコール及び油に対する駆散性を有する疎水性の外層を場合により前処理した親水性材料上にここで形成することができる。ナノスケール原粒子が反応溶液中でそのままの状態で(in statu nascendi)これらの目的のために使用される場合に特に好都合である。 （もっと読む）

【課題】 葉状シリカ２次粒子のスラリーを簡便な手法によりその水スラリー中での状態を保持したまま、乾燥し、安定性の高いシリコン系化合物処理葉状シリカ２次粒子粉末を提供する。
【解決手段】 （ｉ）シリカヒドロゲル等を、アルカリ金属塩の存在下に水熱処理し、そのシリカ３次凝集体粒子を形成し、（ｉｉ）シリカ３次凝集体粒子を、水系スラリー状態で、解砕・分散化して、葉状シリカ２次粒子からなる水系スラリーを形成し、（ｉｉｉ）その水系スラリーに、シリコン系化合物水系エマルションを添加・混合してスラリー状態で処理し、（ｉｖ）乾燥し、（ｖ）これを乾式解砕することにより、極性有機溶媒及び非極性有機溶媒に対して再溶解の抑制されたシリコン系化合物処理乾燥シリカ粒子粉末とする。 （もっと読む）

【課題】酸処理やイオン交換処理等の特別な後処理をする必要がなく、また、アルカリ金属を始めとして金属不純物含有量が極めて少ないｐＨ５〜８の中性コロイダルシリカを容易に製造することができる中性コロイダルシリカの製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノシリケートとして易加水分解性オルガノシリケートを用い、また、加水分解触媒として特定の加水分解触媒を用い、この加水分解触媒を、少なくとも反応終了時の反応混合物中におけるシリカ（Ｂ）に対する加水分解触媒（Ａ）の割合｛触媒残存モル比（Ａ／Ｂ）｝が０．０１２以下となるように、添加して反応させ、酸処理及びイオン交換処理を行うことなくｐＨ５〜８の中性コロイダルシリカを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 水溶性珪酸塩の水溶液に対して珪酸液を添加して、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ［Ｍはアルカリ金属、第３級アンモニウム、第４級アンモニウムまたはグアニジンから選ばれる］（モル比）が３０〜６５の範囲の混合液を調製し、該混合液に６０〜２００℃の温度で、再度珪酸液を断続的または連続的に添加することによりシリカゾルを調製し、該シリカゾルをｐＨ７〜９の範囲にて、６０〜９８℃で加熱する。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 アルカリ滴定法により測定される平均粒子径が３〜２５ｎｍの範囲にあるシリカ微粒子が分散した、ｐＨが２〜８の範囲にあるシリカゾルに、該シリカゾルのシリカ固形分１００重量部に対して、ポリ金属塩化合物を０．０１〜７０重量部添加し、５０〜１６０℃で加熱することにより製造する。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。得られる異方形状シリカゾルは、平均粒子径が４〜２５ｎｍの範囲にあり、短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 ガラスハードディスク、その他の基板に対する研磨特性に優れる。
【解決手段】 動的光散乱法により測定された平均粒子径（Ｄ１）が４０〜７０ｎｍの範囲にあり、ＢＥＴ法により測定された平均粒子径（Ｄ２）が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、異形度（Ｄ１／Ｄ２）が１．５５〜４．００の範囲にある非球状シリカ微粒子が分散してなる異方形状シリカゾルであって、該異方形状シリカゾルの動的光散乱法により測定された粒子径分布において３０〜７０ｎｍの粒子径範囲Ａと７１〜１５０ｎｍの粒子径範囲Ｂにそれぞれ粒子径分布のピークがあり（但し、両ピークに相当する粒子径の差の絶対値が５０〜１００ｎｍの範囲にある場合に限る。）、該粒子径範囲Ａに存在する粒子の体積％と該粒子径範囲Ｂに存在する粒子の体積％の比が６０：４０〜９５：５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤の除去工程を省いて、細孔表面が有機化合物で覆われた多孔質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤を使用し、シリカ源として安価なアルカリ珪酸塩を用いた強酸性反応系において、金属元素の種類と添加方法を制御することにより、特に高次規則構造の形成を６０℃以上の温度で熟成し、反応生成固体を乾燥することにより、細孔表面が界面活性剤もしくはこれに由来する有機基または有機分子に覆われた、薄板状あるいは繊維状の有機無機多孔質シリカとする。 （もっと読む）

【課題】 ゲル分や粗大粒子の混入が無いシリカ微粒子分散液を効率良く生産することができるシリカ微粒子分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】 平均二次粒子径が１μｍ以下のシリカ微粒子を含有するシリカ微粒子分散液を、フィルター本体にろ過助剤をプレコートしたプレコートフィルターでろ過するろ過工程を有する製造方法としている。 （もっと読む）

【課題】分散性及び分散後の分散安定性を良好に保持すると共に、分散径が小径で微粒のシリカ粒子を高濃度に含みつつ低粘度での分散を可能とする。
【解決手段】５質量％水溶液の状態でｐＨ３未満の水溶性ジルコニウム化合物を用いて、固形分濃度が２０質量％以上の気相法シリカが分散されている。 （もっと読む）

本発明は表面を除染するために使用し得る吸引可能ゲルに関し、かつこのゲルの使用にも関する。除染は、例えば放射能除染であってよい。
本発明のゲルは、コロイド溶液からなる。それは、ゲルの全重量に対して5から25wt%の無機粘度改良剤、ゲルの全重量に対して0.01から0.2wt%の界面活性剤、および特に好ましくは、ゲルの全重量に対して厳密に0.1wt%未満の量の界面活性剤、ゲル1リットル当たり0.5から7molの無機酸または塩基、および場合によりゲル1リットル当たり0.05から1molの、強酸媒質中で1.4Vを超える標準酸化還元電位E₀を有する酸化剤またはこの酸化剤の還元型を含み、その残余は水である。それは除染されるべき表面に噴霧により適用することができ、乾燥後、乾燥残渣の形態で吸引またはブラッシングにより除去することができる。 （もっと読む）

【課題】特異な形状を有するシリカ粒子の製造方法であり、徐放性が向上したシリカ複合重合体粒子を提供することを課題とする。
【解決手段】重合性ビニル系モノマーを、ポリアルコキシシロキサンオリゴマーと特定のシラノール基形成性シラン化合物の存在下で水系懸濁重合させて重合体成分を得、焼成することで、特異な形状のシリカ粒子を得ることができる。５０〜３００ｍ²／ｇの比表面積を有し、かつ表面に多数のヒダを有するシリカ粒子により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 優れた難燃性を有すると同時に、耐酸性にも優れ、かつ、電子部品用材料としての用途に要求される溶出不純物濃度を確保することができる被覆水酸化マグネシウム及びその安定した製造方法を提供する。
【解決手段】 水不溶性のケイ素化合物を用いて形成した被覆層を表面に有しする被覆水酸化マグネシウムであり、被覆層を含む水酸化マグネシウム中のナトリウム及びカリウムの含有量の合計が１０ppm以下である被覆水酸化マグネシウムが好ましい。 （もっと読む）

支持体及び、カリウム及びナトリウムを除く、各痕跡金属不純物２００ｐｐｂ以下を有する多数のコロイド状シリカ粒子を含み、残留アルコール２ｐｐｍ以下（この際、カリウム及びナトリウムを除く、痕跡金属の累積濃度は、約０．５〜約５ｐｐｍの範囲にある）及び粒子を懸濁させるための溶媒を含む組成物（この際、組成物は超純度コロイド状シリカ分散液である）を接触させる（この際、接触は、支持体を平坦化させるために十分な温度及び時間で実施される）段階を包含する、支持体の表面の化学機械研磨法。
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【課題】エラストマー混合物中の補強剤として特に好適である沈降シリカ及び該沈降シリカの製造法を提供する。
【解決手段】以下の物理化学的パラメータ：孔径分布の相対幅γ ４．０〜１０．０（ｇ ｎｍ）／ｍｌ、ＢＥＴ表面積 ９０〜３２０ｍ²／ｇ、ＣＴＡＢ表面積 １００〜２００ｍ²／ｇ、シアーズ数Ｖ₂ ２５〜４０ｍｌ／（５ｇ）、シアーズ数Ｖ₂／ＣＴＡＢ比 ０．１６〜０．２８ｍｌ／（５ｍ²）を特徴とする沈降シリカであり、粉末の形か又はほぼ球状粒子（ミクロ顆粒）の形か又は顆粒として存在する。 （もっと読む）

【課題】 二次粒子径が小さく透明度の高いシリカ微粒子分散液を効率良く生産することができるシリカ微粒子分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】 反応釜に活性珪酸を供給し、加熱してシード液を得るシード液生成工程と、 前記反応釜中のシード液にアルカリを添加する凝集停止工程と、前記反応釜中のシード液に活性珪酸を添加する成長工程とを有し、前記反応釜内の液体を、熱交換器を備える循環路に循環させることにより加熱するシリカ微粒子分散液の製造方法であって、前記循環路を前記液体が循環する際の最大レイノルズ数を５０００００以下としている。 （もっと読む）

【課題】 二次粒子径が小さく透明度の高いシリカ微粒子分散液を効率良く生産することができるシリカ微粒子分散液の製造方法を提供する。
【解決手段】 液体が収容される反応釜と、前記反応釜中の液体に対して活性珪酸水溶液を添加する活性珪酸供給手段と、前記反応釜中の液体にアルカリを添加するアルカリ供給手段と、前記反応釜に両端が接続された循環路と、該循環路中に接続された熱交換器と、前記循環路中に接続された循環ポンプとを備えたシリカ微粒子分散液の製造装置であって、前記循環ポンプが容積式ポンプからなる。 （もっと読む）

【課題】 クロムを含まない燐酸塩をベースとする絶縁処理において、耐蝕性、耐焼鈍性、被膜張力等の優れた方向性電磁鋼板製品と処理剤を提供する。
【解決手段】 次のＩ）、II）およびIII ）を含有するクロムを含まない電磁鋼板用絶縁被膜剤。Ｉ）燐酸塩 １００質量部、II）コロイダルシリカをＳｉＯ₂固形分に換算して３５〜１００質量部、III ）Ｆｅ，Ａｌ，Ｇａ，ＴｉまたはＺｒから選ばれる１種または２種以上の金属元素を含有するコロイド状化合物の分散液を、金属元素に換算して０．１〜２０質量部。 （もっと読む）