【課題】従来のコロイダルシリカよりも製造が容易で、製造コストが低く、金属不純物による汚染が少なく、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる新規なコロイダルシリカを提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液を原料としたコロイダルシリカのシリカ粒子をコアとし、その粒子表面をテトラアルコキシシランのアルカリ触媒を用いた加水分解によるシリカからなる厚さ１〜１０ｎｍのシェルで被覆したコア・シェル型シリカ粒子を含有することを特徴とするコロイダルシリカである。 （もっと読む）

ａ）５０〜７５質量部の水において、ｂ）３０〜５００ｍ^２／ｇのＢＥＴ表面積を有する２５〜５０質量部のシリカ粒子と、ｃ）ｂ）の質量部の１種以上のアミノ官能性有機珪素化合物からの１００〜３００ｕｇ／ｍ^２のＢＥＴ表面積のシリカ粒子と、を反応させることによって得られる分散液であって、前記アミノ官能性有機珪素化合物は第４級アミノ官能性有機珪素化合物であり、該化合物は成分Ａとして少なくとも１種のハロアルキル官能性シランと成分Ｂとして第３級アミンとを規定された量の水の存在下で反応させて且つ得られた加水分解アルコールを少なくとも部分的にこの系から除去することによって得られる、前記分散液。 （もっと読む）

【課題】 高アルカリ性のケイ酸ナトリウム水溶液からアルカリ性分を除去し、ｐＨを自由に変動できるケイ酸水溶液を製造する方法、及びその装置
【解決手段】 電解槽は陽極室、及び陰極室と隔膜（陽イオン交換膜等）で仕切られた室を設け、各室に電極板を配備する。陽極室にはケイ酸ナトリウム水溶液を供給ポンプにより、また、陰極室には陽極室に供給される水溶液の電気伝導度を同等にした塩化ナトリウム水溶液、またはケイ酸ナトリウム水溶液等を供給ポンプを用いて循環供給する。陽極電極板、及び陰極電極板に電解電流を印加することにより、陽極室のケイ酸ナトリウム水溶液のＮａイオンが陽イオン交換膜を通り陰極室に移行する。この操作によって、脱アルカリ性のケイ酸水溶液を生成することができる。 （もっと読む）

ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 （もっと読む）

本発明は、シラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体の製造方法であって、水性媒質中において、ａ）エポキシ官能性を含む、少なくとも１種のシラン化合物と、ｂ）エポキシ官能性を有しない、コロイドシリカ粒子を改質することが可能な少なくとも１種のシラン化合物と、ｃ）コロイドシリカ粒子とを、任意の順序で混合して、ａ）およびｂ）に由来するシラン化合物を含有するシラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体を形成するステップを含む方法に関する。本発明はまた、前記方法によって得ることが可能な分散体にも、またコーティング用途におけるその分散体の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】優れた研磨性能を発揮し、かつ、長時間の研磨に供しても、研磨レートの低下が最小限に抑制された研磨用組成物を提供する。
【解決手段】水系分散媒に、真球度が０．９以上、１．０以下の範囲にある球状シリカ粒子と真球度が０．３以上、０．９未満の範囲にある非球状シリカ粒子とが分散してなり、非球状粒子に対する球状粒子の重量比が２／９８〜３５／６５の範囲にある研磨用組成物である。球状粒子の平均粒子径が２０〜１５０ｎｍの範囲にあり、非球状粒子の平均粒子径が５〜１００ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）

【課題】Ｓｉその他の各種の物質中の不純物を従来に比べて極めて低温で効率的に、しかも簡単な操作で除去することができ、高純度物質を低コストで容易に大量に製造することができる高純度物質の製造方法を提供する。
【解決手段】高純度物質の製造方法は、Ｂ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐｏ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｃ、Ｒｅ、ＲｕおよびＯｓからなる群より選ばれた少なくとも一種の元素と少なくとも一種の不純物とからなる原料物質を、自己解離定数ｐＫ_apが１４より大きい有機溶媒に強塩基を溶解した溶液中に浸漬することにより溶解する工程を有する。有機溶媒としてはメタノールやエタノールなど、強塩基としてはＫＯＨやＮａＯＨなどを用いる。例えば、原料物質としてＰやＢなどを不純物として含有するＳｉ、有機溶媒としてメタノール、強塩基としてＫＯＨを用いてＳｉ（ＯＨ）₄ を製造する。 （もっと読む）

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】別途のミーリング工程なしでセラミック粉末粒子を満遍なく分散させセラミック粉末らを満遍なく分散させるために必要な多くの工程を画期的に改善することができ、セラミックスラリー製造において粉砕工程が要らなくなるので、セラミック粉末の結晶性に損傷なしに、セラミック粉末粒子を均一に分散させることができ、高品質のセラミックスラリーを製造することができる。
【解決手段】洗浄されたセラミック粉末表面に親核性作用基を形成させる段階、及び上記親核性作用基が形成されたセラミック粉末表面にアジリジン同等体を連鎖重合反応させ末端にアミン基を有するポリマー層でコーティングする段階、とを含むことを特徴とするセラミック粉末コーティング方法、上記セラミック粉末を分散溶媒に酸と一緒に添加して正電荷を形成させ分散性を向上させる方法、上記方法により製造されたセラミック粉末及びセラミックスラリーを提供する。 （もっと読む）

本発明は、トナー粒子の表面処理および静電像の乾式現像に用いる現像剤に関する。
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【課題】粒子成長に必要な塩以外の金属成分を含まず、低粘度で安価であり、且つバインダー力や塗料等の補強効果に優れるシリカゾルを提供することにある。
【解決手段】分鎖状シリカ粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルにおいて、
上記分鎖状シリカ粒子は、微粒子が、他の材質からなる接合部を介することなく、微粒子同士が直接結合し一定方向に伸長した主鎖部と、該主鎖部の途中から枝分かれした、少なくとも一箇所の枝分かれ部を有するシリカゾル。 （もっと読む）

【課題】緻密な外部および複数の孔を有する内部から構成された低屈折率のシリカ粒子を提供することを課題とする。また、従来よりも簡便な低屈折率のシリカ粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明に係るシリカ粒子分散液は、（ア）５ｎｍ〜２００ｎｍのメジアン径（ｄ_５０）を有するシリカ粒子であって、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２Ｂ法により測定した屈折率が、１．３５〜１．４２であるシリカ粒子と、（イ）分散媒と、を含むことを特徴とする。本発明に係るシリカ粒子分散液の製造方法は、^２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル法により測定されたスペクトルにおいて、化学シフト−９４ｐｐｍ〜−１０３ｐｐｍに発現するピークのシグナル面積をＱ３とし、化学シフト−１０３ｐｐｍ〜−１１５ｐｐｍに発現するピークのシグナル面積をＱ４とした場合、Ｑ４／Ｑ３の値が０．５〜５．０であるシリカ粒子未処理体を水熱処理する工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面に疣状突起を有する球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾルであって、特に、ナトリウムなどの含有割合が低レベルにある球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾル、および、その様なシリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の疣状突起を有する球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾルであって、該球状シリカ微粒子のＢＥＴ法により測定された比表面積を（ＳＡ１）とし、画像解析法により測定される該シリカ微粒子の平均粒子径（Ｄ２）から換算した比表面積を（ＳＡ２）としたときの表面粗度（ＳＡ１）／（ＳＡ２）の値が、１．９〜５．０の範囲にあり、該平均粒子径（Ｄ２）が１０〜２００ｎｍの範囲にあり、ナトリウム含有割合が１００質量ｐｐｍ以下の範囲にあることを特徴とするシリカゾル。 （もっと読む）

油及び35ミクロン以下の平均粒径を有する金属酸化物粒子を含む金属酸化物の粒状物の分散物であって、該分散物は、該分散物の合計重量を基準にして１０重量％未満の、水及び水混和性溶媒を含む、前記の分散物。 （もっと読む）

【課題】本発明は、大きさが揃った薄片状物質を提供しやすい製法を提供することを課題とする。
【解決手段】薄片状金属酸化物の製法において、塗布液を微滴化する工程、微滴化された塗布液を基材に吹き付けて基材上に塗布液を塗着させる工程、塗着された塗布液を乾燥させて薄片状物質の前駆体を形成する工程、及び該前駆体を基材から剥離させる工程を有するものとし、微滴化される塗布液は、塗布液中に８〜４０重量％の固形分と残部の溶媒とを有し、該溶媒は沸点が１３０℃以上の有機溶媒と酸性水溶液とを含有し、前記固形分は金属酸化物オリゴマーを有し、該金属酸化物オリゴマーはポリスチレン換算の重量平均分子量で５００〜５００００とすること。 （もっと読む）

本発明は、凝集体サイズを表面積に関連付ける特定の式を満たす凝集体サイズ及び表面積を有する凝集体を含むヒュームドシリカ、並びに液体媒質中に分散された際に特定の粘度、べき法則指数、及び／又は弾性率特徴を示す凝集体を含むヒュームドシリカ提供する。本発明は、シリカ前駆物質を可燃性ガス流と混合し、該流動を燃焼させ、燃焼ガス流及びヒュームドシリカ粒子を生成することによりそのようなヒュームドシリカを調製するプロセスも提供し、該プロセスでは、ドーパントが導入され、燃焼ガス流及びヒュームドシリカ粒子の時間／温度プロファイル又は履歴が、急冷後凝集体成長を可能にするように調整され、及び／又は追加的シリカ前駆物質が、燃焼ガス流に導入される。
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疎水性ケイ酸を、ｐＨ０〜６で水相に分散し、次の工程において、塩基を添加することにより、ケイ酸分散体のｐＨを７〜１２に調整する、疎水性ケイ酸の水分散体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、超微粒子の機能を大いに活用できる積層構造体を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、超微粒子が凝集してなる超微粒子膜層と該膜層を支持する支持膜層からなる積層構造体であり、該支持膜層は超微粒子膜層に塗布液が塗布及び乾燥されて形成されるものであり、該塗布液は有機置換基とシロキサン結合を含む有機無機ハイブリッド物質（前駆体）からなるものであること、もしくは前駆体が有機溶媒に溶解されてなるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、比較的高い塗膜強度と比較的低い比誘電率を有し、さらには表面平坦性や耐クラック性などに優れたシリカ系塗膜にパターニングを施す方法および該方法から得られるシリカ系塗膜に関する。
【解決手段】 パターニング特性を備えたシリカ系塗膜をパターニングする方法であって、（１）特定のシリカ系塗膜形成用塗布液を基板上に塗布する工程、（２）前記工程で基板上に形成された塗膜を乾燥する工程、（３）前記工程で乾燥された塗膜上にパターニング用マスクを載置する工程、（４）前記工程でマスキングされた塗膜上に紫外線を照射する工程、（５）前記工程で紫外線を照射された塗膜を加熱する工程、（６）前記工程で加熱された塗膜を現像液に浸漬する工程、および（７）前記工程で現像液に浸漬された塗膜を洗浄する工程を含むことを特徴とするシリカ系塗膜のパターニング方法および該方法から得られるシリカ系塗膜。 （もっと読む）

【課題】 金平糖状シリカ系ゾルを効率的に製造する。
【解決手段】 シリカゾルまたは珪酸アルカリ水溶液を含むシード液に、強酸の存在下、下記１）および２）の条件で珪酸液を含むフィード液を添加してシリカ粒子を成長させる。
１）シード液に含まれるシリカ１００質量部に対し、フィード液に含まれるシリカが５０〜２５００質量部
２）フィード液に含まれるアルカリの当量数（Ｅ_A）と強酸の当量数（Ｅ_S）の比（Ｅ_A／Ｅ_S）が０．４〜８の範囲 （もっと読む）