【課題】ジャストインタイムで加水分解物を生産できる金属アルコキシドの加水分解物製造装を提供する。
【解決手段】前記金属アルコキシドと水と反応触媒とからなる原料の供給部と、前記原料が導入される複数のスタティックミキサーと前記複数のスタティックミキサーを連設する配管とからなり、前記スタティックミキサーは、前記配管によって前記原料がアップフローで流れるように連設されることを特徴とする。撹拌性に優れ、連設するスタティックミキサーの配管数を調整して、ジャストインタイムで金属アルコキシドの加水分解物を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子へ生体分子等を結合させるために有用なアミノ基を粒子表面に有し、かつ前記アミノ基がシリカ粒子表面に吸着することにより前記生体分子等との反応性が低下することを防止したシリカ粒子の製造方法、前記シリカ粒子、及びそれを用いた複合粒子を提供する。
【解決手段】水／アルコール混合溶媒に分散させたシリカ粒子の分散液に、下記一般式１で表されるシランカップリング剤と酸とを含有させ、前記シリカ粒子の表面にアミノ基を少なくとも１つ有するアルキル基Ｒ^１を共有結合させる工程を含んでなる粒子表面にアミノ基を有するシリカ粒子の製造方法。
一般式１
Ｒ^１−Ｓｉ（ＯＲ^２）_３
（式中、Ｒ^１はアミノ基を少なくとも１つ有するアルキル基を表し、Ｒ^２はアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】外殻部が有機基を有するケイ素化合物により構成され、平均細孔径が８ｎｍ以下のメソ細孔構造を有する、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子、及びその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】〔１〕外殻部がメソ細孔構造を有するコアシェル構造のシリカ粒子であって、該外殻部の平均厚みが５〜７００ｎｍであり、該粒子の平均粒子径が０．０５〜１０μｍであり、該外殻部が有機基を有するケイ素化合物により構成され、その内部に水不溶性物質（ａ）を包含してなり、かつ該メソ細孔の平均細孔径が１〜８ｎｍである、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子、及び〔２〕水不溶性物質、第四級アンモニウム塩、及び有機基を有しかつ加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源を含有する分散液を調製し、１０〜１００℃で撹拌して、第四級アンモニウム塩とシリカを含む複合体を析出させ、該複合体から第四級アンモニウム塩を除去する、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】テトラアルコキシシランの加水分解により得られた活性珪酸水溶液と、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、イミダゾール、メチルイミダゾール、ピペリジン、モルホリン、アルギニンおよびヒドラジンのいずれか１種類以上である窒素含有塩基性化合物によって製造されるコロイダルシリカであって、該コロイダルシリカが非球状のシリカ粒子を含有し、さらに２５℃におけるｐＨが８．５〜１１．０であることを特徴とする半導体ウエハ研磨用コロイダルシリカ。非球状のシリカ粒子は、透過型電子顕微鏡観察によるシリカ粒子の長径／短径比が１．２〜２０であって、長径／短径比の平均値が３〜１５である非球状の異形粒子群シリカ粒子であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】シリカをコア材としながら、負帯電量が高く、且つ、吸湿性が格段に低減されているために帯電保持性能、帯電特性の安定性に優れる粒子および該粒子の製造方法の提供。
【解決手段】シリカとその表面に形成されてなるフッ素含有ポリマーを含む表面層からなる粒子であって、シリカの比表面積Ｓｓが、理論表面積Ｓｓ_０に対する比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下であり、且つ、粒子の摩擦帯電極性が負であり摩擦帯電量の絶対値が５０μｃ／ｇ以上であることを特徴とする粒子。該粒子は、アルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下であるシリカを製造する工程と、該シリカにフッ素含有ポリマーを含む表面層を形成させる工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポリマー基板などの可撓性基板に対してシリンダー状またはラメラ状の相が垂直方向に配向したミクロ相分離構造を有するブロック共重合体の層を備える構造体、および該構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】可撓性基板上２０に金属酸化物層２２、シランカップリング剤によって形成される層２４、２種以上の互いに非相溶であるポリマー鎖が結合してなるブロック共重合体より形成され、ミクロ相分離構造を有する層１４をこの順で備え、前記ミクロ相分離構造の一方の相が前記基板に対して垂直方向に配向したラメラ状またはシリンダー状１２である構造体。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ研磨における第１段研磨において、ディッシングの悪化を抑えつつ、研磨残りがなく、第２段研磨において、ファングを改善できるＣＭＰ用研磨組成物を提供すること。
【解決手段】下記一般式（１）、（２）および（３）で表される少なくとも１種の基により表面改質されていることを特徴とする表面改質コロイダルシリカ、およびこれを含むＣＭＰ用研磨組成物。 （もっと読む）

【課題】シリカベースド無機材料の新たな表面処理法およびそれに用いる表面処理剤を提供することを課題とする。
【解決手段】γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシランおよびγ−グリシジルプロピルトリメトキシシランからなる群から選ばれるシランカップリング剤と１，２−ビス（トリメトキシシリル）エタンとを、重量比９０：１０から６５：３５の範囲内で混合したシラン処理剤と、塩酸溶液とを用いてシリカベースド無機材料を表面処理することにより、接着耐久性に優れた表面処理ができる。 （もっと読む）

【課題】新規な無機酸化物粒子分散体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の無機酸化物粒子分散体の製造方法は、無機酸化物からなる粒子と、表面修飾剤を含む溶液を湿式媒体ミルで撹拌する方法である。ここで、無機酸化物は、Si,Ti,W, V, Y, Ag, Mg, Al, Fe, Ni, Ce, Co, Mo, Au, Pt, Ta, Lu, Zr, Cu, Zn, Pd, Cd, Cr, Pb, Mnから選ばれるいずれか１種の酸化物、またはいずれか２種以上の組み合わせの酸化物であることが好ましい。また、表面修飾剤は、カップリング剤または界面活性剤であることが好ましい。また、水の添加において、カップリング剤に含まれるアルコキシ基のモル数に対する水のモル数の比は、0.1〜5の範囲内にあることが好ましい。また、湿式媒体ミルは、ビーズミルであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
以上より、本発明の目的は、金属が添加された多孔体シリカ（ＫＩＴ−５）およびその製造方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、高濃度の金属が添加された多孔体シリカ（ＫＩＴ−５）およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
所定の空間群からなる多孔構造をもつ多孔体シリカであって、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＣｏおよびＧａからなる群から選択される金属元素が添加されてなることを特徴とする、多孔体シリカとその製造方法として、界面活性剤Ｆ１２７と、酸と、水と、ケイ素源並びにＡｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＣｏおよびＧａからなる群から選択される金属元素を含む金属源とを混合する工程と、 前記混合する工程によって得られた原料混合物を加熱して、ケイ化する工程と、 前記ケイ化する工程によって得られたケイ化物を焼成する工程とからなることを特徴とする、方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、不活性化された反応性基によって、すなわち特定の可逆的にブロックされたイソシアネート基によって官能化されており、その不活性化を外部の影響によって逆転することができる粒子に関する。 （もっと読む）

【課題】均質なメソ細孔構造を有し、粒子径が均一な中空構造又はコアシェル構造を有するメソポーラスシリカ粒子の効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】中空構造又はコアシェル構造を有し、外殻部がメソ細孔構造を有するメソポーラスシリカ粒子の製造方法であって、水不溶性物質（ａ）を及び水を含有する分散液（Ａ）に、陽イオン界面活性剤及び非イオン界面活性剤から選ばれる１種以上の界面活性剤（ｂ）とシリカ源（ｃ）とを経時的に添加して反応を行う工程を含む、メソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、表面修飾二酸化ケイ素粒子またはシリカゾルであって、その水性シリカゾルが、少なくとも１種のアルコキシシランを含む少なくとも１種の第１の修飾剤と、ハロゲンシラン、シロキサンおよびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも１種の第２の修飾剤とを使用して反応されて、ここで、その第１または第２の修飾剤を使用する反応の前に水分が除去されて、生成され得る表面修飾二酸化ケイ素粒子またはシリカゾルに関する。 （もっと読む）

【解決手段】画像解析法により測定される平均粒子径（Ｄ１）が１０〜１００ｎｍの範囲にあり、比表面積が３００〜７００ｍ²／ｇの範囲にあり、見掛け嵩密度（ＡＢＤ）が０
．０５〜０．１５ｇ／ｍｌの範囲にあるシリカ微粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルおよびその製造方法。
【効果】本発明に係るシリカゾルの分散質であるシリカ微粒子は、粒子径に比して、比表面積が大きく、多数の針状突起を有した特異な構造を有するものであり、触媒担体、研磨材、補強剤または充填材など各種用途に適用することが期待される。また、本発明に係るシリカゾルの製造方法は、このようなシリカ微粒子が分散してなるシリカゾルを効率的に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】良好なインク受容層面を有するインクジェット記録媒体を、急速乾燥して製造するのに適した表面改質シリカ分散液の製造方法およびインクジェット記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】乳酸および少なくとも一種のアミノオルガノシランを含む処理液と、非晶質シリカを接触させることによりシリカ表面を改質することを特徴とする表面改質シリカ分散液の製造方法であり、更にこの表面改質シリカ分散液を含有するインク受容層用塗液を、支持体上に塗布乾燥しインク受容層を形成するインクジェット記録媒体の製造方法である。乳酸はインク受容層用塗液の凝集を招くことなく、厚い乾燥膜厚を急速乾燥して塗布するのに適した塗液を調製することを可能とさせる。 （もっと読む）

【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層を形成する段階において、コア・シェル粒子同士の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子分散体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題は、重合体粒子およびアニオン系界面活性剤を含有する水系の分散媒中で、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を加水分解縮合させることにより、シリカ系被覆層を有するコア・シェル粒子を形成する工程、および前記工程により得られたコア・シェル粒子を加熱することにより重合体粒子を分解する工程を含むことを特徴とする。
Ｒ^１_ｄＳｉ（ＯＲ^２）_４−ｄ …（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は独立して１価の有機基を表し、ｄは０〜３の整数を表す。）
シリカ系中空粒子の製造方法により達成される。 （もっと読む）

【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記課題は、コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水及びアルコールの混合分散媒中に、無機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含むことを特徴とするシリカ系中空粒子の製造方法により達成される。また、前記無機酸は、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸から選ばれる少なくとも一種であることができる。そして、前記コア粒子が炭酸カルシウム粒子であることができる。 （もっと読む）

本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
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【課題】球状で，ナノレベルの微小な粒子径を有し，粒度分布が極めて狭く，低屈折率で且つ屈折率の調節が可能なシリカガラス微粒子及びその製法を提供すること。
【解決手段】アルコキシシランを原料として，その加水分解反応及び重合反応により球状微粒子の形態に作製され，次いで焼成されてなるものである，平均粒子径が５ｎｍ以上１０００ｎｍ未満の範囲にあり，かつ屈折率が１．３５〜１．４４であることを特徴とする球状シリカガラス微粒子。 （もっと読む）

【課題】イオン性界面活性剤または高分子量非イオン性界面活性剤のような特定の鋳型を使用する必要がなく、特別の装置も必要ない多孔質シリカ相を形成可能な塗布液及びその製造方法と多孔質シリカ薄膜が形成される基材が平板なものに限定されることがない多孔質シリカ相の形成方法等を提供する。
【解決手段】多孔質シリカ相を形成可能な塗布液は、ＴＥＯＳとＴＥＯＳの重合のための触媒である酢酸とＴＥＯＳの溶解性を高めるための所定のアルコール類とシリカ相に細孔を形成するための添加物である所定の低分子量ジオール類と塗布液調製用の水とを備えている。所定の低分子量ジオール類としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール又は１，４−ブタンジオールとすることが好適である。多孔質シリカ相の形成方法は、上記塗布液中にガラス基板または試験管等の基材を浸漬させることにより、所定の基材に多孔質シリカ相を形成させる。 （もっと読む）