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Fターム[4G075AA32]の内容

物理的、化学的プロセス及び装置 (50,066) | 目的 (9,708) | 物質の製造、処理 (7,349) | 重合体の製造、処理 (184)

Fターム[4G075AA32]に分類される特許

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【課題】研磨加工の手間の負担が小さく、平滑で長寿命の非晶質マイクロチップベースプレート及びマイクロチップ、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】球状の石英ガラス粉末にアクリル樹脂系バインダーを加え、石英ガラス粉末を77重量%として混合し、加熱ニーダーを用いて140℃で1時間混練した。混練物をシート化し、粉砕してフレーク状とし、射出成形機で表面に流路となる溝2を形成した成形体10を形成した。この成形体10を大気中で500℃まで10℃/hで昇温し、500℃に2時間保持して脱脂し、脱脂体を、真空雰囲気で1300℃まで200℃/hで昇温し、1300℃に2時間保持して透光性のマイクロチップベースプレート1を得、石英ガラス製のカバー3を密着させ、1300℃で熱融着してマイクロチップ4を得た。 (もっと読む)


【課題】酸素捕集組成を活性化するための装置を提供する。
【解決手段】装置は、バンクに構成され、かつUV室に配置された複数のUV灯を含む。UV灯は、UV光が透過可能である第1の側面および第2の側面を含む。UV室に配置された一連のガイドロールが、UV灯の第1の側面および第2の側面にごく近接して膜を向けるための膜経路を画定する。UVシェードは、UV灯の第1の側面および第2の側面の回りを包むように構成され、膜が曝露されるUV光の照射量が、シェードが開いている程度を調節することによって制御されることが可能であるように、開位置、部分開位置、および閉位置の間を移動するように構成することができる。その結果、UVシェードは、UV灯をターンオフすることを必要とせずに、UV曝露を限定することが可能である。 (もっと読む)


本発明は、下側二相セクションおよび上側気相セクションを含有するカラム反応器を備えた気泡塔反応器において、反応器が、カラム反応器内の二相セクションのレベルを測定するための測定装置を備え、測定装置が、カラム反応器の外側に位置するエミッタおよび電磁放射線の検出器を備えることを特徴とする気泡塔反応器、およびそのような反応器におけるレベル測定方法に関する。
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【課題】 所望の形状を有し、かつサイズのバラツキが小さい微小構造体を、歩留まり良く、かつ、簡便安価に形成する方法を提供することを提供すること。
【解決手段】 本発明の微小構造体の製造方法は、
第1の流路にエネルギー線硬化性モノマーと重合開始剤を含む第1の液体を供給する工程と;該第1の流路を包囲するように形成された第2の流路に第2の液体を供給する工程と;該第1の流路と該第2の流路とが合流する地点で該第1の液体と該第2の液体とを層流状態で接触させる工程と;該第2の液体を接触させた該第1の液体にエネルギー線を照射する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】流体のキュアリングのために必要とされる時間の長さが都合良く減少すると同時にキュアリング反応の効率が良い紫外線キュアリング装置の提供。
【解決手段】基部部分、基部部分に形成される第1面ならびに前記第1面をほぼ取り囲む各面が第1面に関して角度をなして配置される複数の第2面が含まれる複数の面の定められる窪み部が含まれるとともに、第1面と第2面の少なくとも数面のそれぞれに少なくとも1つの発光ダイオードが含まれる流体キュアリング装置。ある実施例では、LEDは基部部分の逆転した窪み部によって定められる面上に位置する。LEDはLEDから発せられる光線がLEDからの増幅エネルギーの単一、集中区域あるいは点を提供する単一区域あるいは点に収束するよう構成される。 (もっと読む)


【課題】化学的な処理を安定して、かつ安全に行える化学処理用カートリッジおよびその使用方法を提供する。
【解決手段】化学処理用カートリッジは、基板1と、基板に重ね合わされる弾性部材2とを備える。弾性部材の裏面には、その表面側に凹んだ所定形状の凹部が形成されている。この凹部は、カートリッジ基板と弾性部材との間に空間を生み出すことで、エポキシ接着剤の主剤を収容するウェル21と、ウェル21に連通する流路22と、エポキシ接着剤の硬化剤を収容するウェル23と、ウェル23に連通する流路24と、主剤および硬化剤を混合するミキシング部25と、混合物を排出する排出路26とを構成する。化学処理用カートリッジの未使用時には、流路22、流路24および排出路26は閉じており、ウェル21およびウェル23は実質的に気密状態にある。ミキシング部25は互いに交差する複数の流路25aから構成されている。 (もっと読む)


オリゴヌクレオチド及びポリペプチドなどの高分子を合成するシステム及び方法を記述する。システムは、合成操作を実行するために反応部位の配列とステーション配列を提供することにより、連続的に分子を合成可能である。先の配列の反応部位は、互いに関連した一定の順序及び一定の間隔で配置されうる。同様に、ステーションは、互いに関連した一定の順序及び一定の間隔で配置されうる。2つの配列は互いに関連して移動でき、ステーションは各反応部位で反応計画の所望のステップを実行する。ステーションの相対的位置及び相対的移動のスケジュールは、反応部位がステーションの全ての配列と交わるサイクルを完了したときに反応計画が終了するように、反応計画の反応ステップの順序と継続時間とに相関している。
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少なくとも2つの一定の間隔で配置された電極(13、14)を有する放電空間(11)の中の放電プラズマを制御するための方法及び構成。ガス又はガス混合物が放電空間(11)の中に注入され、ACプラズマ付勢電圧を電極(13、14)に印加するため、電極(13、14)を付勢するための電源(15)が用意される。少なくとも1つの電流パルスが発生し、プラズマ電流及び変位電流を引き起こす。プラズマを制御するための手段が用意され、フィラメント放電などの低い動的抵抗対静的抵抗比を有するプラズマ変化に関連した局所的電流密度変化を制御するために変位電流変化率を適用するように構成される。こうした急速な変化をパルス発生回路(20)を使用して抑制することによって、均一なグロー放電プラズマが得られる。
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本発明は、加工物、特に中空体加工物のプラズマ処理の方法に関する。この方法によれば、反応室内で処理区域が少なくとも部分的に排気され、処理区域内、特に加工物の中空体内にプロセスガスが導入され、放射される電磁エネルギーを用いて処理区域に導入されたプロセスガスでプラズマが点火される。本発明は、プラズマ処理中に、処理区域の両端間を通ってプロセスガスが流れることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 被照射物が大型、または大型でかつ曲面もしくは凹凸面を有する場合に、設備コストおよびイナーティングコストを低減して電子線を照射することができる電子線照射装置を提供すること。
【解決手段】 電子線照射装置100は、被照射物Aに電子線を照射する電子線照射部1と、被照射物Aに対して電子線照射部1を走査させる走査機構3と、電子線照射部1に設けられ、電子線照射部1と被照射物Aとの空間を囲繞する囲繞部材2と、囲繞部材2で囲繞された空間に窒素ガスを供給する窒素ガス供給機構4とを具備し、窒素ガス供給機構4により囲繞部材2で囲繞された空間に窒素ガスを供給した状態で、走査機構3により電子線照射部1を走査させながら、電子線照射部1から被照射物Aに電子線を照射する。 (もっと読む)


【課題】ノズル装置から窓箔への空気吹き出しに伴う結露水の発生を従来より抑制でき、ひいては、窓箔等の結露水付着による腐食等を抑制できる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線照射装置本体の電子線照射窓部における窓箔に冷却用空気を吹きつけるノズル装置12が冷却用空気供給装置4に連通接続されており、装置4は、冷却用送風機41及び除湿機43を含む。送風機41は除湿機43から供給される空気をノズル装置12へ供給でき、除湿機43は、冷媒を圧縮機で圧縮して凝縮器で凝縮させ、膨張機構を介して蒸発器へ導く冷媒回路と、外部から空気を吸引し、蒸発器に接触通過させて除湿機吐出口43bから吐出する除湿機送風機とを含む。 (もっと読む)


【課題】従来の電子線照射装置と比べると、コンパクト化、低価格化が可能である電子線照射装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバ20と、真空チャンバ20内に設置された電子線源10とを含み、真空チャンバ20の開口枠部21に電子線照射窓部30を備えており、電子線照射窓部30は、窓枠部材31と、窓枠部材31の電子線透過用開口部312を覆う窓箔33と、窓箔押さえ部材32とを有し、窓箔押さえ部材32は、窓箔33に冷却用ガスを吹きつけるためのノズル322を有している電子線照射装置であって、窓枠部材31内部に、ノズル322に連通し、該ノズルへ冷却用ガスを供給するダクト部5が一体的に形成されている電子線照射装置A。 (もっと読む)


【課題】 電子線照射装置の運転状態を制御することによって、搬送装置上の被照射物の特性変化を防止できる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 電子源4から引き出される電子を、加速電源26から出力した加速電圧Vaによって加速して電子線52として電子線照射領域56に取り出す電子線加速装置2を備える。搬送装置30は、被照射物50を、電子線照射領域56内で搬送する。X線測定部32は、被照射物50に電子線52が照射されることによって発生する制動X線を検出し、その強度を測定する。X線量計測部は、加速電圧Vaが出力され、かつ搬送装置30が停止した待機状態時における制動X線の強度を、単位時間当たりのX線量に変換する。制御部は、単位時間当たりのX線量の積算値と所定の閾値とを比較して、前者が後者以上のとき加速電源26の出力を停止する。 (もっと読む)


【課題】流路の成型に費やす手間及び時間が少なくて済むと共に強度に優れた構造のマイクロリアクタを提供する。
【解決手段】温度制御流体により熱交換を行いながら反応させるマイクロリアクタ1において、被反応流体を導入するための第1入口ポート22と、反応済流体を導出するための第1出口ポート32と、温度制御流体を導入するための第2入口ポート42と、温度制御流体を導出するための第2出口ポート52と、第1薄型基板67と第2薄型基板66とを交互に順次積層した薄板積層体6とを有し、第1薄型基板は、第1入口ポートと第1出口ポートとに連通可能に設けられ0.5mm幅以下の第1スリット67cを有し、第2薄型基板は、第2入口ポートと第2出口ポートとに連通可能に設けられ第1薄型基板に重ね合わせた状態で第1スリットに連通しない位置に形成された第2スリット66cを有する。 (もっと読む)


【課題】 紫外線を照射する光源の数にかかわりなく、容易に照射強度を設定できる紫外線照射装置および紫外線照射システムを提供する。
【解決手段】 制御部は、時間毎の総照射強度を接続されている照射部の数で除算し、その商を照射部のそれぞれ対して均等に分配する。総照射パターンにおけるパルスの総照射強度が「400%」とすると、照射部のそれぞれにおける照射強度は、「100%」となる。照射部は、互いに同期して紫外線を照射するので、最大で400%の総照射強度をもつ総照射パターンを実現できる。 (もっと読む)


【課題】紫外線照射処理装置において、厚みのある処理対象物品を扱う場合でも、可及的に酸素濃度を低くする。
【解決手段】不活性ガスを噴射するノズル17と、紫外線照射対象位置LPに向けて紫外線を照射する紫外線照射部LSと、処理対象物品WKを前記紫外線照射対象位置LPへ搬送する搬送手段TMとが備えられた紫外線照射処理装置において、前記搬送手段TMは、搬送体BTを巻回して物品搬送のための往路と帰還のための復路で循環回転させる搬送コンベア12にて構成され、前記搬送コンベア12の周囲を覆う外部カバー体13と、前記外部カバー体13の内部空間に配置されて前記紫外線照射対象位置LPを含む前記往路の前記搬送体BTの周囲を覆う内部カバー体14とが設けられ、前記ノズル17が前記内部カバー体14の内部空間に不活性ガスを噴射するように配置されている。 (もっと読む)


パイプ反応器を用いるポリエステル化方法及びそのための装置を提供する。特に、逆流又は順流方式で、更には層別流を含む形態で稼動させるエステル化パイプ反応器を含む方法および装置であることを特徴とする。
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【課題】 有機材料に効率的に電子線照射を行って架橋等の改質処理が行えるとともに分解生成物を抑制して照射室等システムの健全性阻害を防止し、被照射物の内部に分解生成物が留まり品質劣化が生じることも防止できる電子線照射システム及び電子線照射方法。
【解決手段】 電子線照射システム及び電子線照射方法を、電子線照射を出射する電子線照射装置と、被照射物として有機材料を搬入・搬出するためのコンベアと、被照射物に対して第1の所定の範囲の温度に加熱して電子線照射を行う照射室と、照射室に接続し電子線照射後の被照射物を第2の所定の範囲の温度に加熱する揮発室とを有し、第1の所定の範囲の温度は電子線照射を受けた被照射物から放出する分解生成物の量が照射室の健全性を阻害する有意量とならない範囲の温度とし、第2の所定の範囲の温度は有機材料内に残留する分解生成物が放出される範囲の温度とするように構成した。 (もっと読む)


管状重合反応装置及びこの装置を用いた方法は、連鎖移動剤とモノマーからポリマーへの高い転化率を提供する管状反応器に沿って細長く配置されている多くのモノマー供給口を含む、改善された重合を提供する。本発明は、そのような管状重合反応装置で作られたポリマー及び低い曇り値、0.92g/cm3以上の密度及び/又はカルボニル基の末端を有するポリマーを含む方法に関係する。この装置及び方法は、モノマー濃度と、移動剤の濃度の間の依存性を切り離し、あるいは、減らすことができる。他の態様におけるこの依存性の切り離しは、各種の利点を導く。
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【課題】 高い精度で寿命管理を行なうことのできる指標を有する紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】 制御部4は、光源用電源部6から照射部2のそれぞれへ供給する電流値を受けて、所定の制御周期毎に積算する。そして、制御部4は、積算した電流値にUV光源16の電圧降下量を乗算し、UV光源16の照射エネルギーを算出する。さらに、制御部4は、照射部2の記憶部18から読み出した照射エネルギーの累積値に算出した照射エネルギーを加算し、その加算後の値で記憶部18が格納する照射エネルギーの累積値を更新する。また、制御部4は、算出したUV光源16の照射エネルギーおよび照射エネルギーの累積値などを表示部8に表示させる。 (もっと読む)


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