【課題】ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる１種又は２種以上の樹脂から形成された内壁表面を有する容器へのイソプロピルメチルフェノールの吸着又は収着を有効に防止して、良好な泡質と優れた低刺激性を兼ね備えながらも、殺菌効果に優れた洗浄剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）Ｎ−アシル酸性アミノ酸又はその塩、（Ｂ）イソプロピルメチルフェノール、及び（Ｃ）ジプロピレングリコールを特定量で含有し、かつ（Ｄ）エタノール及びイソプロパノールの合計含有量が２質量％以下であり、或いは（Ｄ）エタノール又はイソプロパノールを含有せず、成分（Ｂ）の含有量に対する成分（Ｃ）の含有量が特定の関係にある洗浄剤を、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエチレンテレフタレートからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂から形成された内壁表面を有する容器に充填してなる洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】洗浄力を低下させることなく、従来以上に濯ぎ性に優れた、安定性の良い濃縮タイプの衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）で表される非イオン性界面活性剤、（Ｂ）陰イオン性界面活性剤、（Ｃ）水混和性有機溶剤５〜４０質量％、及び（Ｄ）水を含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計量が３５〜５５質量％であり、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の質量比〔（Ａ）成分／（Ｂ）成分〕が７０／３０〜９０／１０であり、ＪＩＳＫ3362：1998記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが６.５〜１０．０である衣料用液体洗浄剤組成物。Ｒ¹−Ｙ−（ＥＯ）_n−Ｒ²（Ｉ）（式中、Ｒ¹は炭化水素基であり、−Ｙ−は−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ¹−Ｙ−は総炭素数８〜２２である。ＥＯはエチレンオキシ基を表し、ｎは平均付加モル数を表し、ｎは１４〜３０の数である。Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。） （もっと読む）

【課題】ポリエステル系繊維ニットに含まれている油剤やワックス等の油分をよく除去して、染色処理と同時に難燃剤を用いる難燃処理を行う際にも、難燃剤に由来するカス汚れを低減することができる精練剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明によれば、
（Ａ）スチレン化フェノールアルキレンオキサイド付加物と共に、
（Ｂ）（i）数平均分子量２００〜１５００の範囲のポリエチレングリコールと、
（ii）一般式（Ｉ）
【化１】


（式中、Ｒ^１及びＲ^２は同一又は異なっていてもよく、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｎは１〜４の整数を示す。）
で表わされるオリゴエチレン誘導体とから選ばれる少なくとも１種を含むことを特徴とするポリエステル系繊維ニット用精練剤組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】バインダー樹脂等の樹脂添加物の溶解性が高く、吸湿性が低い、電子部品パターン形成用溶剤組成物として好適なジプロピレングリコールジアルキルエーテルを提供する。
【解決手段】本発明のジプロピレングリコールジアルキルエーテルは、その２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数５〜１０の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基であることを特徴とする。前記ジプロピレングリコールジアルキルエーテルは電子部品パターン形成用溶剤組成物、特に、カラーフィルタパターン印刷用溶剤組成物として使用することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】衣料の衿や袖口汚れ等の頑固な皮脂汚れに対して高い洗浄効果を有する塗布用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（ａ１）で示される非イオン界面活性剤、（ｂ）陰イオン界面活性剤、（ｃ）陽イオン界面活性剤を含有する塗布用洗浄剤組成物であって、（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）＝４０〜９０質量％であり、（ａ）／〔（ｂ）＋（ｃ）〕質量比が０．５〜５であり、（ｂ）／（ｃ）質量比が０．３〜２．５である塗布用洗浄剤組成物。Ｒ−Ｏ−［（ＥＯ）m／（ＰＯ）n］−Ｈ（ａ１）〔式中、ＲはＣ８〜２０の炭化水素基、ＥＯはエチレンオキシ基、ＰＯはプロピレンオキシ基、ｍ及びｎは平均付加モル数であり、ｍは１４〜２２、ｎは１〜５である。“／”はＥＯとＰＯはランダム付加体でもブロック付加体でも何れでも良く、ＥＯとＰＯの付加順序は問わない。〕 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力、衣料への香料成分の吸着力に優れ、原液は低泡性且つ消泡性に優れ、その一方で洗浄濃度の希釈液は高起泡性であり、更に水で組成物を希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）エチレンオキシ基と炭素数３〜５のアルキレンオキシ基とを特定条件で含む特定の非イオン界面活性剤、（ｂ）陰イオン界面活性剤、（ｃ）陽イオン界面活性剤、（ｄ）シリコーン、（ｅ）ＬｏｇＰが３以上である香料化合物及び（ｆ）水混和性溶剤を、それぞれ特定比率で含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属を電気科学的腐食から保護しながら、良好な洗浄結果を生じる、多金属マイクロエレクトロニックデバイスのための良好な洗浄組成物を提供すること。
【解決手段】本発明は、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄するために適切なマイクロエレクトロニックフォトレジスト洗浄組成物、および引き続いて水を使用するすすぎ工程が存在する場合に、実質的または有意なあらゆる電気化学的腐食を起こさずに、多金属マイクロエレクトロニックデバイスを洗浄することに関する。本発明はまた、このような多金属マイクロエレクトロニックデバイスを、本発明の組成物を用いて洗浄するための方法に関する。 （もっと読む）

【課題】水道水中のケイ素成分が少ない場合でも、優れた洗浄力と泡立ちを有し、かつすすぎ性の良好な浴室用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分：水溶性ケイ酸塩をケイ素換算で０．０００００５〜０．０５質量％と、（Ｂ）成分：炭素数８〜１８の脂肪酸又はそのアルカリ金属塩と、（Ｃ）成分：（Ｂ）成分以外の界面活性剤と、（Ｄ）成分：金属イオン封鎖剤と、（Ｅ）成分：特定の溶剤と、（Ｆ）成分：水とを特定比で含有し、２５℃でｐＨ７〜９であることよりなる。 （もっと読む）

【課題】溶剤臭の制効果に優れた特定のブチルカルビトール系溶剤を含有し、且つ洗浄力とスプレー時の起泡性に優れた硬質表面用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ブチルカルビトールからなる溶剤であって、該溶剤中の主成分以外の分子量５０〜３００の物質の含有量が、ヘッドスペースＧＣ−ＭＳ分析において、前記溶剤のピークエリアに対する前記主成分以外の物質のピークエリアの比が０．５％以下となる量であるブチルカルビトール系溶剤を０．１〜２０質量％、（Ｂ）陰イオン界面活性剤〔（Ｂ３）成分を除く〕、非イオン界面活性剤及び、アシル化アミノ酸から選ばれる界面活性剤を０．１〜２０質量％含有し、（Ａ）と（Ｂ）の質量比が（Ａ）／（Ｂ）で１．５〜２．８の範囲にある、硬質表面用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】金属配線を有する半導体回路素子の製造工程において生じるフォトレジスト残渣およびポリマー残渣を除去する除去液組成物、ならびにそれを用いた残渣の除去方法、特に含窒素有機ヒドロキシ化合物、アンモニア、フッ素化合物を含有せず、残渣除去成分として金属酸化物を主成分とする残渣の除去性に優れる融点が２５℃以上の脂肪族ポリカルボン酸を含有し、洗浄装置の液を吐出するノズルや洗浄槽およびチャンバーの周辺に溶液が付着後、水の蒸発により脂肪族ポリカルボン酸が再結晶することを抑制することが可能なフォトレジスト残渣およびポリマー残渣除去液組成物、ならびにそれを用いた残渣の除去方法を提供する。
【解決手段】融点が２５℃以上の脂肪族ポリカルボン酸を含有するフォトレジスト残渣およびポリマー残渣除去液組成物において、２０℃での蒸気圧が１７ｍｍＨｇ以下で構造内に水酸基を有する水と混和可能な有機溶剤を含有する前記除去液。 （もっと読む）

【課題】光造形樹脂成形体に残留する未反応樹脂に対する溶解性、洗浄性に優れ、しかも光造形樹脂成形体に対する攻撃性が低く、安全で取扱性に優れる光造形樹脂成形体用の洗浄剤を提供すること。特に、狭い隙間部や複雑な形状などからなる微細部を有する光造形樹脂成形体の洗浄に好適なものを提供する。
【解決手段】特定一般式で表わされるグリコールエーテル系化合物のうち少なくとも1種（Ａ）および水（Ｂ）を含有することを特徴とし、好ましくは、前記（Ａ）成分および水（Ｂ）の含有比（（Ａ）／（Ｂ）比）が重量比で９８／２〜９０／１０で（Ａ）／（Ｂ）とする光造形樹脂成形体用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】対象物上で発泡後あるいは泡状に付着した後で、泡が弾けるように破泡し、薬剤による化学的な作用だけでなく、物理的な作用を加えて対象物に効果を発揮しやすい発泡性エアゾール製品を提供すること。
【解決手段】起泡剤、水溶性溶剤、水、油分を含有する水性原液と、液化ガスとからなるエアゾール組成物を含有する発泡性エアゾール製品であって、対象物上で発泡後あるいは泡状に付着した後で、弾けるように破泡するフォームを形成する発泡性エアゾール製品である。 （もっと読む）

【課題】低浴比の濯ぎ条件下でも、衣料に優れた柔軟性をもたらす衣料の処理方法の提供。
【解決手段】下記工程１〜工程３からなる衣料の処理方法。
工程１：下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、アミン又はその酸塩、及び陰イオン性界面活性剤を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比＝１．６〜２０の洗浄剤組成物を用いて、浴比３〜１５の条件下で衣料を洗浄する工程
工程２：工程１で使用した洗浄水を衣料から脱水する工程
工程３：工程２で得られた衣料を、柔軟剤組成物と浴比３〜２０の条件下で接触させる工程
（Ａ）：式Ｒ^１−Ｘ−〔（ＥＯ）_ｎ／（ＰＯ）_ｍ〕−Ｒ^２の非イオン性界面活性剤
（Ｒ^１は炭化水素基、Ｘは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−、Ｒ^１−Ｘ−の炭素数は８〜２２、ｎは５〜２５、ｍは０〜５、Ｒ^２はＨ又は炭素数１〜３の炭化水素基）
（Ｂ）：式Ｒ^３−Ｏ−〔（ＥＯ）_ｎ１／（ＰＯ）_ｍ１〕−Ｈの非イオン性化合物
（Ｒ^３は炭素数１〜３の炭化水素基、ｎ１は５〜２５、ｍ１は０〜５） （もっと読む）

【課題】化学繊維を素材とする繊維製品に使用しても、香りが長期にわたって持続する着香剤組成物の提供。
【解決手段】下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分、（Ｃ）成分、（Ｄ）成分及び水を含有し、
（Ａ）／（Ｂ）質量比が１／１００〜９／１００、（Ｃ）／（Ｂ）質量比が２０／１００〜１２０／１００、（Ｄ）／（Ｂ）質量比が１／１００〜２５／１００である着香剤組成物。
（Ａ）：香料アルコールとケイ酸とのエステル化合物
（Ｂ）：下記一般式（２）で表されるアルキレンオキサイド付加化合物
Ｒ^４−Ｚ−〔（EO）_ｐ／（PO）_ｑ〕−Ｒ^５ （２）
〔式中、Ｒ^４は炭化水素基、Ｚは−Ｏ−又は−ＣＯＯ−であり、Ｒ^４−Ｚ−の総炭素数は２〜２２である。ｐは２〜１０、ｑは０〜５、Ｒ^５は水素原子又は炭素数１〜３の炭化水素基である。〕
（Ｃ）：シリコーン化合物
（Ｄ）：カチオン性基含有高分子重合体 （もっと読む）

【課題】 パターン形成性に優れたインプリントを行うためのメンテナンス液を開示する。
【解決手段】エステルおよび／またはエーテル官能基を有する化合物を含有するインプリントを行うためのインクジェット装置のメンテナンス液。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層のみならず、シリコンの洗浄により腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水に、洗浄剤と、塩基性化合物と、酸性有機化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された洗浄組成物であって、さらに高分子化合物を含有させた洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイの画面の表面を帯電しにくくするとともに、その画面の表面に油性分を付着しにくくし、さらに、その画面の表面を損傷しにくいとともに、その表面に抗菌性を与えることができる、水溶性抗菌ワックスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】水溶性抗菌ワックスは、ディスプレイの画面の表面に塗布されて使用される水溶性抗菌ワックスであって、植物性抗菌剤及び界面活性剤を精製水に混合してなる水溶性抗菌剤原液と、シリコンエマルジョンと洗浄液と安定剤と洗浄付与剤と希釈剤とを混合してなる水溶性シリコン原液とを含み、別々に配合された前記抗菌剤原液と水溶性シリコン原液とを精製水に混合してなる。 （もっと読む）

【課題】室温でもポリイミドを良好に除去することができ、アルミニウム及びアルミニウム合金配線の腐食防止効果にも優れるだけでなく、長期間使っても析出の問題がないポリイミド除去用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】組成物の総重量に対し、（Ａ）０．１〜１０重量％の下記化学式１で示される第４級アンモニウム水酸化物、（Ｂ）５０〜９０重量％のグリコールエーテル系化合物、（Ｃ）７〜３０重量％のグリセリン、及び（Ｄ）残量の水を含むポリイミド除去用洗浄剤組成物を提供する。
［化学式１］
［Ｎ−（Ｒ）_４］^＋・ＯＨ⁻
前記式で、Ｒは炭素数が１〜５のアルキル基である。 （もっと読む）