【課題】カビ胞子を殺す効果と洗浄効果を有するカビ防除洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）カチオン界面活性剤、（ｂ）両性界面活性剤、（ｃ）非イオン界面活性剤、（ｄ）グリコールエーテル系溶剤、並びに水を含有することを特徴とする液状カビ防除洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属の混入や露光などの過酷な条件下においても過酸化水素を安定に配合でき、ガス発生レベルで過酸化水素分解を抑制すると共に、長期保存後も液の黄変化や分離など、品質劣化を起こさない、過酸化水素と高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）過酸化水素、（Ｂ）特定の非イオン界面活性剤、（Ｃ）有機ポリホスホン酸又はその塩、（Ｄ）特定のヒドロキシフェニル化合物、（Ｅ）（Ｅ１）炭素数８〜２２の脂肪酸又はその塩及び（Ｅ２）カルボキシ基を有する構成単位を有する高分子重合体から選ばれる１種以上のカルボン酸系化合物、並びに水を含有し、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３．０〜６．０である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】浴室等に発生したピンク色及び／又は紅色を呈する汚れを除去する手段を提供する。
【解決手段】（ａ）特定のカチオン界面活性剤、（ｂ）炭素数が８〜２２のアルキル基を有する両性界面活性剤、（ｃ）ベンジルアルコール等の特定の有機化合物を、それぞれ所定範囲の量で含有し、（ａ）／（ｂ）の質量比が０．３０〜８であり、（ａ）／（ｃ）の質量比が０．０５０〜３５である硬質表面用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】洗浄成分をより高濃度化することができるため搬送性等に優れ、使用時には、所望の濃度の希釈液体洗剤を容易に得ることができる濃縮液体洗剤を提供すること。
【解決手段】
水で希釈して使用する濃縮液体洗剤であって、第一の相と第二の相とを含み、上記第一の相と上記第二の相とは非相溶性であり、水で所定の倍率に希釈すると、上記第一の相と上記第二の相とは相溶性を示して、均一に分散された一相の液体となることを特徴とする濃縮液体洗剤。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板、電極または配線上に存在する有無機汚染物またはパーティクルを除去することが可能な平板表示装置用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】本発明の平板表示装置用洗浄剤組成物は、組成物の総重量に対して、第４級アンモニウム塩化合物０．０１〜１０重量％、グリコールエーテル化合物０．０１〜１０重量％、リン酸エステル化合物０．０１〜１０重量％、グリセリン化合物０．０１〜５重量％及び接触角低下剤０．０１〜１重量％を含有し、残部が水からなる。 （もっと読む）

【課題】自然界へ排出された場合でも影響が極めて低く、また洗浄力に優れたスクラブ剤及びその製造方法を提供すること、並びに前記スクラブ剤を含有する洗浄力に優れた洗剤を提供すること。
【解決手段】生分解性プラスチック及び天然植物性粉体を含有するスクラブ剤であって、溶融又は溶解された生分解性プラスチックと天然植物性粉体との混合物を硬化させてなることを特徴とする生分解性スクラブ剤、ならびに該生分解性スクラブ剤を含有する皮膚洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】使用時における冷水への希釈溶解性に優れ、かつ防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）過酸化水素、（Ｃ）ラジカル捕捉剤０．０１〜３質量％、（Ｄ）特定の非イオン性化合物、及び（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／２０〜１００／１、（Ａ）／（Ｄ）成分が１００／１〜１００／３０、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが５〜８である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】使用時における冷水への希釈溶解性に優れ、かつ防臭性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）特定の非イオン性界面活性剤３０〜７０質量％、（Ｂ）過酸化水素、（Ｃ）ヒドロキシカルボン酸及び／又はその塩、（Ｄ）特定の非イオン性化合物、及び（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）質量比が１００／２０〜１００／１、（Ａ）／（Ｃ）質量比が１０００／１〜１０００／３０、（Ａ）／（Ｄ）質量比が１００／１〜１００／３０、ＪＩＳ Ｋ３３６２：２００８記載の２５℃で測定する組成物のｐＨが５〜８である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体製造における大型のメタル等の洗浄において、プラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去する高い洗浄力を発揮し、部材の剥離や変色を抑制し、さらには必要によりメタル材料の表面荒れをも抑制しうる半導体基板用洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄組成物により、エッチング工程及び／又は前記アッシング工程において半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣を洗浄除去する洗浄工程を含む半導体素子の製造方法であって、該洗浄組成物は、水と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、有機溶媒とを組み合わせて含有し、ｐＨが１．５〜５．０に調整されたことを特徴とする半導体素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高活性の酵素を含有し、高濃度の界面活性剤の存在下でも該酵素の安定化が図られ、高い洗浄力を有する液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤（Ａ）を４０質量％以上と、バチルス属由来で、かつ、１０℃での酵素活性値が３５℃での酵素活性値の６％以上であるプロテアーゼ（Ｂ）と、一般式（ｃ１）で表される水混和性有機溶剤（Ｃ）と、キレート剤（Ｄ）とを含有する液体洗浄剤。但し、（Ｂ）成分の酵素活性値は、ミルクカゼインを基質として測定される値である。式（ｃ１）中、Ｒ^１は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、フェニル基又はベンジル基である。ｍはＰＯの平均繰返し数、ｎはＥＯの平均繰返し数を表し、ｍは０〜３の数、ｎは０〜３の数であり、１≦ｍ＋ｎ≦６である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、ＥＯとＰＯとは混在して配列してもよい。
［化１］
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【課題】高温時及び低温時において粘度が安定な洗浄料であり、特に、一旦高温環境に置かれた後、低温環境に保管されても、適切な粘度状態を保つことの出来る洗浄料の提供。
【解決手段】（Ａ）高級脂肪酸塩から選ばれる一種又は二種以上、（Ｂ）ベタイン系両性界面活性剤、（Ｃ）平均重合度２００〜１５４０のポリエチレングリコール、（Ｄ）ＨＬＢ＝４以下のモノステアリン酸グリセリル、（Ｅ）脂肪酸塩を含有した自己乳化型モノステアリン酸グリセリルを配合した洗浄料。脂肪酸アルカリ塩を洗浄基剤とした洗浄料において、高温時、低温時は勿論、高温時から低温時等の過酷な温度変化下においても、適切な粘度が保たれた洗浄料。 （もっと読む）

【課題】色素を含有する濃縮タイプの液体洗浄剤において、高い洗浄力を有すると共に、被洗物への色素染着が抑制された液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を４０質量％以上と、色素（Ｂ）１５０ｐｐｍ（質量基準）以下と、尿素又はその誘導体（Ｃ）０．５〜１２質量％とを含有する液体洗浄剤。該液体洗浄剤においては、一般式（ｄ１）で表される有機溶剤（Ｄ）をさらに含有することが好ましい。式（ｄ１）中、Ｒ^７は水素原子、ヒドロキシ基、又は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍはＰＯの平均繰返し数、ｎはＥＯの平均繰返し数を表し、ｍは０〜２の数、ｎは０〜３の数であり、１≦ｍ＋ｎ≦５である。ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基を表し、ＥＯとＰＯとは混在して配列してもよい。
［化１］
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【課題】クレンジング機能を十分に発揮させる量の油性成分や界面活性剤が配合されていたとしても、十分に増粘してジェル状とすることができるとともに、製剤安定性、使用感およびメイク除去効果に優れるジェル状クレンジング用化粧料の提供。
【解決手段】（Ａ）非イオン性界面活性剤、（Ｂ）油剤、（Ｃ）合成ヘクトライト、（Ｄ）（メタ）アクリル酸アルキルコポリマー、並びに、（Ｅ）下記（ａ）と（ｂ）からなるコポリマーおよびクロスポリマーの群から選ばれる少なくとも１種を含有してなるジェル状クレンジング用化粧料とする。
（ａ）（メタ）アクリル酸および／又は（メタ）アクリル酸アルキル
（ｂ）イタコン酸ポリオキシエチレンアルキルエーテル、（メタ）アクリル酸ポリオキシエチレンアルキルエーテル又はネオデカン酸ビニル （もっと読む）

【課題】電子部品などのアルミ使用部材やガラス使用部材等を切削・研磨した後に残る切削片、研磨材や研磨片などのパーティクル除去性に優れた水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ヒドロキシカルボン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、（ｂ）配位子数が１０個以下である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％、及び（ｃ）配位子数が１１個以上である有機ホスホン酸およびこれらの塩からなる群より選ばれた少なくとも１種０．１〜２５重量％を含有するものとする。 （もっと読む）

【課題】低臭気で、粘着ラベルを除去した後に水で洗浄する際、廃液による環境への負荷が少ないだけでなく、剥離性に優れた粘着ラベル剥離剤組成物を提供する。
【解決手段】グリコールエーテル系水溶性有機溶剤を２０重量％以上と、水とを含有する粘着ラベル剥離剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 砥粒や研磨屑に対する洗浄性が非常に高い電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 フラボノイド化合物（Ａ）および水を必須成分として含有する電子材料用洗浄剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】非有毒かつ環境に優しいクリーニング組成物、従来の高有機含有量系クリーニング組成物に比肩するクリーニング効率を有するクリーニング組成物を提供すること。
【解決手段】Ａ半導体基材がアルミニウムを含む用途におけるフォトレジストおよびエッチング後／アッシング後残留物除去のための水に富んだヒドロキシルアミン調合物。クリーニング組成物は、約２〜約１５ｗｔ％のヒドロキシルアミン；約５０〜約８０ｗｔ％の水；約０．０１〜約５．０ｗｔ％の腐食防止剤；約５〜約４５ｗｔ％の、：ｐＫａ＜９．０を有するアルカノールアミン、水混和性溶媒、およびそれらの混合物からなる群から選択される成分を含む。そうした組成物の使用は、一方で両方の材料を含む基材でアルミニウムを保護しながら、Ａｌ基材での効率的なクリーニング能力、最小限のケイ素エッチングを示す。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、優れた防汚効果と頑固な油汚れに対する高い洗浄効果を持ち、高ｐＨタイプでありながら長期保存安定性が良好な洗浄剤組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の油汚れ用洗浄剤組成物は、（Ａ）成分としてＮ，Ｎ−ジアリル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアンモニウム塩モノマー由来のユニットを３０〜１００モル％含有する（共）重合体；（Ｂ）成分としてアルカリ剤；（Ｃ）成分として一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ^２は、炭素数２又は３のアルキレン基を表し、ｎは、１〜６の数を表す。）
で表される水溶性有機溶剤；及び水を含有する組成物であって、組成物中に（Ａ）成分が０．０１〜１０質量％、（Ｃ）成分が０．１〜１５質量％、且つ組成物のｐＨが１１以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも１個有する有機酸０．０５〜５０重量％、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の錯化剤０．０１〜３０重量％、〔III〕炭素数１〜５の飽和脂肪族１価アルコール、炭素数３〜１０のアルコキシアルコール、炭素数２〜１６のグリコール、炭素数３〜２０のグリコールエーテル、炭素数３〜１０のケトン及び炭素数２〜４のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも１種の有機溶媒０．０５〜５０重量％を含んでなる洗浄剤。 （もっと読む）