【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）糖、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、並びに、（成分ｅ）有機酸、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする半導体基板洗浄用の洗浄組成物。前記洗浄組成物を用いた洗浄方法、及び、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 水溶性汚れおよび油性汚れの各種汚れが付着した衣料等を効率よく洗浄でき、且つ、衣料類の収縮を起こさず、高速に乾燥でき、さらに安全性も確保できるドライクリーニング用洗浄剤組成物およびそれを用いた衣料のドライクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 ジエチレングリコールジエチルエーテル、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノール、および水を含んでなる洗浄剤組成物で衣料を処理する。ジエチレングリコールジエチルエーテルおよび３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールの配合比は、夫々１０〜９９容量％、９０〜１容量％が好ましく、洗浄剤組成物総量に対して水の含有量は１５〜７５容量％が好ましい。さらに、他の多価アルコール誘導体、エステル類、エーテル類等を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】湿潤および浸透効果に優れるため、配向膜基板上に存在する汚染物質に対する洗浄効果に優れた洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄液組成物は、アルカリ化合物を含まない洗浄液組成物であって、組成物の総重量に対して、Ｃ１〜Ｃ５の低級アルコール０．１重量％〜１５重量％、水溶性グリコールエーテル化合物０．１重量％〜１５重量％、有機リン酸０．０１重量％〜１０重量％、アゾール系化合物０．００１重量％〜１０重量％、および残量の水を含む。 （もっと読む）

【課題】極めて優れた洗浄力を有し、バイコンティニュアスミクロエマルション相を有する洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】下記成分（Ａ）（Ｂ）（Ｃ）（Ｄ）（Ｅ）を含有する洗浄剤組成物であって、該洗浄剤組成物が２５℃においてバイコンティニュアスミクロエマルション相であることを特徴とする洗浄剤組成物。
（Ａ）両性界面活性剤
（Ｂ）アニオン界面活性剤
（Ｃ）炭素数８〜１８のモノ脂肪酸アミド誘導体及び／又はモノ脂肪酸グリコールエステル誘導体
（Ｄ）分子内に２個以上の水酸基を有する水溶性アルコール
（Ｅ）水 （もっと読む）

【課題】インクジェット記録装置及びインクカートリッジの液体流路の洗浄を充分に行なうことができ、洗浄後のインク再充填性に問題を起こさない洗浄液兼充填液、並びにこれを収容したカートリッジの提供。
【解決手段】インクジェット記録装置及びインクカートリッジの液体流路の洗浄液兼充填液であって、水溶性有機溶剤、水、と例えば、下記式で表される少なくとも１種の化合物を含有するインクジェット記録装置及びインクカートリッジ用洗浄液兼充填液。


（Ｒ１，Ｒ３は、水素、低級アルコキシ基、又は低級パーフルオロアルコキシ基、Ｒ２，Ｒ４は、低級パーフルオロアルキル基を表す。ｍは１〜２５、ｎは０〜１０、ｐ、ｑ、ｒはそれぞれ１〜１０の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】 脂肪酸と陽イオン性界面活性剤及び高濃度の非イオン性界面活性剤を用いた組成物において、低温安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 下記一般式（１）に示される非イオン性界面活性剤（A)３０〜６５重量％と
【化１】


［式中R^１は直鎖状のアルキル基であり、nはエチレンオキサイドの平均付加モル数を表す］
脂肪酸及びその塩（B)と陽イオン性界面活性剤（C)とハイドロトロープ剤（D)と（E)成分として、下記の一般式（２）
【化２】


［ただし、ＡＯ^１はオキシアルキレン基の１種または２種以上の混合物で、Ｒ^２
はアルケニル基、Ｒ^３ はアルキル基、mはオキシアルキレン基の平均付加モル数である。］
で示されるアルケニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体で、この加水分解物及びこの塩を含有し、残りが水である液体洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】接合されるべき表面を効率的に調製し、そして目に見える残留物を増加させることなく、ＰＣＢ表面と、部品のリード線／端子と、溶融ろうとの間の表面張力を減少させることにより、ろう球およびろうブリッジの数を減少させる、ろう接用フラックス組成物の提供。
【解決手段】ろう接用フラックスは、溶媒、この溶媒中の活性剤、およびカチオン性界面活性剤および非イオン性界面活性剤を含む。このろう接用フラックスは、基板（例えば、プリント回路基盤上に、ろうが塗布される前に適用され得る。減少したミクロろう球、少ない残留物、少ない固形物、および未洗浄性能（ｎｏ−ｃｌｅａｎ ｃａｐａｂｉｌｉｔｙ）を提供するフラックスが本明細書中に記載される。１つの実施形態において、溶媒はアルコール（例えば、イソプロピルアルコール）である。カチオン性界面活性剤は、４級アンモニウムフルオロアルキル界面活性剤であり得る。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を高濃度で配合する液体洗浄剤組成物において、洗浄力、衣類等繊維製品の消臭性、及び保存安定性に優れる、液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】界面活性剤（Ａ）を３５〜８５質量％、ハイドロトロープ剤（Ｂ）を０．１〜５質量％、過酸化水素（Ｃ）を０．３〜１０質量％、水混和性溶剤（Ｄ）を２〜４０質量％、並びに水を含有し、界面活性剤（Ａ）として、特定二種の非イオン界面活性剤（ａ１）、（ａ２）と陽イオン界面活性剤（ａ３）とをそれぞれ特定範囲で含有し、（ａ３）／（Ｂ）質量比が０．１〜３であり、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８の８．３項に記載の２０℃におけるｐＨが３〜７である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体基板のタングステンの腐食を抑制でき、かつ、半導体基板上のプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣の除去性に優れた洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）アミン化合物、（成分ｃ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、（成分ｅ）有機酸、並びに、（成分ｆ）水溶性有機溶剤、を含み、ｐＨが６〜９であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣及び／又はアッシング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法及び洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄時には豊かな泡立ちを示すが、すすぎ時には瞬時にヌルツキがなくなり、少量の水ですすぎが完了する手洗い用食器洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）スルホコハク酸ジ若しくはモノアルキルエステル又はその塩（一つのアルキル基の炭素数は５〜１８）、（ｂ）炭素数８〜２１の炭化水素基と、硫酸エステル塩基又はスルホン酸塩基とを有する陰イオン界面活性剤〔但し（ａ）を除く〕、及び（ｃ）アルキルグリセリルエーテル（アルキル基の炭素数は６〜１８）を含有する手洗い用食器洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】乾燥した尿汚れに対する洗浄力に優れ、かつトイレットペーパーを使用してもトイレットペーパーが破れることなく清掃でき、洗浄時に硬表面にべたつき・ヌルつきを与えることなく、さらに拭き跡を残さない、ｐＨ安定性に優れたトイレの洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）ラウリン酸アミドプロピルベタイン等の両性界面活性剤 ０．３〜３質量％、
（Ｂ）エタノール １５〜２５％、及び
（Ｃ）エチレンジアミンテトラ酢酸又はその塩 ０．７〜２．２％
を含有し、ｐＨが６．５〜７．５であるトイレ用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】頑固な油汚れの洗浄に効果があり、汚れの再付着防止性能が高く、且つ製品安定性の高い洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸性基及び／又はアニオン性基と、カチオン性基及び／又はアミノ基とを含有する両性ポリマー、（Ｂ）カルボン酸型両性界面活性剤、（Ｃ）ノニオン界面活性剤、（Ｄ）アルカリ剤および（Ｅ）水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）＝１／０．２〜１／１００（質量比）の割合であることを特徴とする硬質表面用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】水による希釈前後において扱い易い濃縮洗浄剤組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）両性界面活性剤、（Ｃ）５〜１５質量％の１価又は２価のアルコール、（Ｄ）８〜１８質量％のＩＯＢ０．８〜１．１で分子量が５００以下のノニオン性界面活性剤、（Ｅ）４５質量％以下の水、を含み、（Ａ）及び（Ｂ）の合計が４０〜６０質量％、配合比（Ｃ）：（Ｄ）が３．５：１〜１：２．５である液状洗浄剤組成物であって、前記組成物を（Ａ）及び（Ｂ）の濃度が１５質量％となるまで希釈した際の粘度が３０℃において３００ｍＰａ・ｓ以上であることを特徴とする濃縮液状洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】同じ洗浄液を長時間使い続けても液晶パネルに不具合を生じることなく、かつ、液晶汚れに対する洗浄力に優れた液晶除去用洗浄剤組成物及び液晶パネルの洗浄方法を提供する。
【解決手段】式（１）［Ｒ^１はＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３、Ｒ^２はＣＨ_３、ＯＣＨ_３又はＣＨ_２ＯＣＨ_３を示す。］で表される芳香族化合物と、水と、式（２）で表される化合物及び炭素数７〜２２のアルキル基又はアルケニル基を有するＨＬＢが１１以上のアルキレンオキサイド付加型ノニオン界面活性剤からなる群から選択される少なくとも一種と、特定の化学構造を有する窒素誘導体化合物１質量％以上とを含有する液晶除去用洗浄剤組成物。
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【課題】衣料等の洗濯において、優れた洗浄力を有し、起泡性と濯ぎ性の両方に優れた洗濯用の液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、（Ｂ）アルキルベンゼンスルホン酸塩、（Ｃ）脂肪酸及び／又はその塩、（Ｄ）ｐＫａが８．０以上の化合物、並びに水を含有し、（Ａ）／（Ｂ）の質量比が８５／１５〜３０／７０であり、〔（Ａ）＋（Ｂ）〕／（Ｃ）の質量比が８５／１５〜３０／７０であり、〔（Ａ）＋（Ｂ）〕／（Ｄ）の質量比が８５／１５〜４０／６０であり、非イオン界面活性剤の含有量が２質量％以下であり、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８記載の２５℃で測定するｐＨが９．０〜１０．５である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】衣料等の洗濯において、優れた洗浄力を有し、起泡性と濯ぎ性の両方に優れた洗濯用の液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の両性化合物、（Ｂ）特定のポリエーテル化合物、（Ｃ）非石鹸系陰イオン界面活性剤、（Ｄ）脂肪酸及び／又はその塩、並びに水を含有し、ＪＩＳ Ｋ３３６２：１９９８記載の２５℃で測定するｐＨが８以上である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有し、洗浄力及び保存安定性に優れ、水で希釈する際のゲル化形成等による溶解性の低下のない衣料用液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭素数８〜２２の炭化水素基を１つ有し、アルキレンオキシ基の平均付加モル数が１６〜３５（但し１４モル以上はエチレンオキシ基である）であるポリオキシアルキレンアルキル（又はアルケニル）エーテル型非イオン界面活性剤、（ｂ）炭素数８〜２２の炭化水素基を有し、少なくとも炭素数３及び／又は４のアルキレンオキシ基を有するポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、（ｃ）水混和性有機溶剤を、それぞれ特定比率で含有する衣料用液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】５７〜９５重量％の（成分ａ）水、１〜４０重量％の（成分ｂ）第２級水酸基及び／又は第３級水酸基を有するヒドロキシ化合物、（成分ｃ）有機酸、並びに、（成分ｄ）第４級アンモニウム化合物、を含有し、ｐＨが５〜１０であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有する液体洗浄剤組成物において、洗浄力、低温保存安定性に優れ、衣料の仕上がり性を損なわない液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）炭化水素基が７〜２２の非イオン界面活性剤、或いは炭化水素基が７〜２２の非イオン界面活性剤と陰イオン界面活性剤及び／又は陽イオン界面活性剤とからなる界面活性剤３０〜７５質量％、並びに（ｂ）下記一般式（１）で表される数平均分子量２００〜２０００の化合物を含有する液体洗浄剤組成物。
ＨＯ−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_a−（ＡＯ）_o−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_b−（ＡＯ）_p−（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_c−Ｈ （１）
（式中、ＡＯは炭素数３〜５のアルキレンオキシ基を示し、“−”はＣ₂Ｈ₄Ｏ基及びＡＯ基がブロック結合していることを示す。ａ、ｂ、ｃ、ｏ、ｐは平均付加モル数であり、ｂ＝３〜２０、ｃ＝３〜２０、ａ＋ｂ＋ｃ＝５〜３０であり、ｏ＝１〜５、ｐ＝１〜５、ｏ＋ｐ＝２〜６である。） （もっと読む）