【課題】優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；


で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、マグネシウムイオン及び亜鉛イオン等から選択される少なくとも１種の金属イオンと、１つの金属イオンに対してキレート配位し得ない構造を有する該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】 本発明は不純物含有量の少ない精製したフェノールの製造方法、及び、該製造方法により得られる高純度フェノールを提供し、更に該フェノールを用いた高純度液晶化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 一般式（Ｉ）
【化１】


で表されるアルコキシベンゼンを加水分解することによる、一般式（ＩＩ）
【化２】


で表されるフェノールの製造方法。この製造方法により得られたフェノールを使用すると、高純度液晶化合物の製造が可能となり極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】高価な触媒や煩雑な製造工程を必要とせずに、高い収率、選択率でジカルボン酸ジエステルを製造することができ、工業的なジカルボン酸ジエステルの製造に好適なジカルボン酸ジエステルの製造方法を提供する。
【解決手段】ビニル基に直接カルボキシル基が結合した構造を有するカルボン酸エステルからジエステルを製造する方法であって、該製造方法は、芳香族スルフィン酸塩の存在下でビニル基に直接カルボキシル基が結合した構造を有するカルボン酸エステルを反応させてジエステル化する工程を含むことを特徴とするジカルボン酸ジエステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
含フッ素カルボン酸フルオライドと脂肪族アルコールのエステルを製造する場合に、副生するフッ化水素を含まない含フッ素カルボン酸エステルを工業的規模で効率的に製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
一般式（１）
Ｒ_fＣＯＦ （１）
（式中、Ｒ_fは含フッ素アルキル基を表す。）で表される含フッ素カルボン酸フルオライドと一般式（２）
ＲＯＭ （２）
（式中、Ｒは一価のアルキル基を表し、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれかを表す。）で表される金属アルコキシドを溶媒の存在下に反応させることからなる一般式（３）
Ｒ_fＣＯＯＲ （３）
（式中、Ｒ_fは一般式（１）での意義と同じ、Ｒは一般式（２）での意義と同じ。）で表される含フッ素カルボン酸エステルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高収率で共役芳香族化合物を製造する製造方法、及び高分子量の共役芳香族高分子化合物を製造する製造方法を提供する。
【解決手段】ニッケル化合物、トリフェニルホスフィン、及び下記式（ｉ）


で示されるトリアリールホスフィン（ｉ）から調製される触媒と、金属還元剤との存在下、脱離基を有する芳香族化合物をカップリング反応させる工程を有することを特徴とする共役芳香族化合物の製造方法の提供。 （もっと読む）

一般式（１）：
【化１】


［式中、ＸおよびＹは、独立して、Ｈ、アルキル基、ヘテロアルキル基、芳香族基、ヘテロ芳香族基またはアセチル基であってよく、Ｚは、Ｈ、ＯＨ、アルキル基、ヘテロアルキル基、芳香族基、ヘテロ芳香族基であってよい］で示されるクマリン化合物と、一般式（２）：
【化２】


［式中、「ａ」は、１または２であり、Ａは、アルキレン基、ヘテロアルキレン基、芳香族基、ヘテロ芳香族基であってよく、Ｂは、アルキル基（ａ＝１の場合）、アルキレン基（ａ＝２の場合）、ヘテロアルキル基（ａ＝１の場合）、ヘテロアルキレン基（ａ＝２の場合）、芳香族基、ヘテロ芳香族基、ヒドロキシル基（ａ＝１の場合）、第２級アミノ基（ａ＝２の場合）、ＯまたはＳ（ａ＝２の場合）であってよく、ここで、Ｂは価数「ａ」を有するか、または、Ｂは単独で、または、ＡおよびＢが一緒になって、脂肪族環系、ヘテロ脂肪族環系、または芳香族環系から選択される環系を形成する］で示されるアミンとの反応により得られる潜在性硬化剤は、１分子あたり少なくとも２個の１,２-エポキシ基を有するポリエポキシドを有する硬化性組成物に使用することができる。これらの硬化性組成物は良好な貯蔵安定性および接着特性を示す。
（もっと読む）

【課題】優れたマスクエラーエンハンスメントファクターを有するパターンを形成することができるフォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｃ１）で表される化合物をクエンチャーとして使用すれば、上記目的を達成できる［下記式中、Ｒ^c1は式（１）で表される基である。Ｒ^c2は少なくとも１つのニトロ基を有する芳香族炭化水素基を表す。Ｒ^c3は、式（３−１）、式（３−２）又は式（３−３）で表される基である。Ｒ^c4は、水素原子又は脂肪族炭化水素基を表す。Ｒ^c5は２価の炭化水素基を表す。Ｒ^c6〜Ｒ^c8、Ｒ^c10、Ｒ^c12〜Ｒ^c14は、それぞれ独立に、炭化水素基を表す。Ｒ^c9及びＲ^c11は、それぞれ独立に、水素原子又は炭化水素基を表す。］。
（もっと読む）

【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｘは炭素原子または窒素原子を示し、Ｙは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基等を示し、Ｘが窒素原子の場合にはＹは存在しない。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、６〜１１族の第４〜５周期に属する金属から選択される少なくとも１種の金属と、該金属に二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】 Ｎ−シクロプロピル−３−アミノ−２−ヒドロキシヘキサン酸アミド塩酸塩の結晶多形を制御しつつ、工業的に有利なＮ−シクロプロピル−３−アミノ−２−ヒドロキシヘキサン酸アミド塩酸塩の製造法を提供することにある。
【解決手段】 Ｎ−シクロプロピル−３−アミノ−２−ヒドロキシヘキサン酸アミド塩酸塩結晶を、所定の有機溶剤を用いた晶析工程に付す。これにより、結晶多形を制御した、Ｎ−シクロプロピル−３−アミノ−２−ヒドロキシヘキサン酸アミド塩酸塩を製造できる。 （もっと読む）

【課題】モダフィニル多相形、その製造法、医薬組成物及びモダフィニル多相形を含む治療方法を提供する。
【解決手段】物理化学的条件（例えば、結晶化溶媒、温度、濃度、ろ過法等）を変化させながら、結晶化によって出発医薬物質の製造及び処理を改善することで、ＣＲＬ４０４７６形ＩＩＩ、ＣＲＬ４０４７６形ＩＶ、ＣＲＬ４０４７６形Ｖ、ＣＲＬ４０４７６形ＶＩ及びＣＲＬ４０４７６形ＶＩＩと呼ばれる、モダフィニルラセミ化合物の５種の新規な多相形、並びにモダフィニル溶媒和物。 （もっと読む）

【課題】ニトリル、カルボン酸、カルボン酸エステルの工業的な製法の提供。
【解決手段】金属触媒の存在下、一般式（１）


（式中、Ｒは、シアノ基、カルボキシル基又はエステル基を表し、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ、置換基を有していても良い、反応に関与しない基を表す、なお、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに結合して環を形成していても良い）で示される酢酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、一般式（２）


（式中、Ｒ、Ｒ^１及びＲ^２は、前記と同義である）で示される、ニトリル化合物、カルボン酸化合物又はカルボン酸エステル化合物の製法。 （もっと読む）

アリールエーテルオリゴマーを含有するアリール組成物。これらの組成物は、Ｕｌｌｍａｎｎエーテル反応により１種以上のジブロモベンゼンと１種以上のジヒドロキシベンゼンの反応により調製されてもよい。該オリゴマーは、２つ以上のベンゼン環を有してもよく、末端ハロゲン−例えば臭素（Ｂｒ）−又はヒドロキシル（ＯＨ）基を含んでもよい。これらのオリゴマーは、臭素化されて熱可塑性ポリマー用の難燃剤組成物を形成してもよい。 （もっと読む）

本発明は、放射性標識化カルボキシレートの製造方法に関するものであり、カルボキシレートの少なくとも1種の前駆体分子は導電性塩を含む溶媒中で調製され、放射性標識化二酸化炭素を含む少なくとも1種の反応体が溶媒中に供給され、前駆体分子は放射性標識化二酸化炭素と電気化学的に反応して放射性標識化カルボキシレートを形成し、かつ前駆体分子を反応させる場合に放射性標識化二酸化炭素は溶媒中に完全に溶解されている。本発明は、さらに、放射性標識化カルボキシレートを電気化学的に合成するための放射性標識化二酸化炭素(二酸化炭素は、合成の間、溶媒中に完全に溶解されている)の使用、および放射性標識化カルボキシレートを電気化学的に合成する(放射性標識化二酸化炭素を反応させる)ための微小構造体の使用に関する。
（もっと読む）

【課題】溶媒中または溶媒混合物中に溶液の形態で、容器に圧力下で貯蔵されるアセチレンの精製方法を提供する。
【解決手段】ゼロでない量の液体不純物を含むガス状アセチレンの流れを提供するために、容器からの取り出しでアセチレンを減圧する少なくとも１つの工程（ａ）と、工程（ａ）で生成された前記流れから前記液体不純物を分離する少なくとも１つの工程（ｂ）と、固体担体に残留液体不純物を吸着させることにより、工程（ｂ）からのガスの前記流れを精製する少なくとも１つの工程（ｃ）とを含む。さらに、前記方法を実施するためのプラント。 （もっと読む）

【課題】芳香族アミン化合物を選択的に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、芳香環を有し且つこの芳香環を構成する炭素原子にハロゲン原子が結合しているハロゲン化芳香族化合物を、アジド化合物、金属若しくはこの金属を含む化合物、塩基性有機化合物及び極性溶媒の存在下に加熱して反応させて、上記ハロゲン原子がアミノ基に置換されてなる芳香族アミン化合物を製造する方法である。 （もっと読む）

フッ素化ビス（アシル）含有化合物及びフッ素化（Ｉ）（式中、Ｒ^１、Ａｒ、Ｌ、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒｆ、ｎ、ｐ、及びｑは、特許請求の範囲に定義された通りである）、及びフッ素化ビス（アシル）含有化合物から形成されるフッ素化ポリエステルについて記載する。より具体的には、フッ素化ビス（アシル）は、２個のアシル基に結合している芳香環に加えて、ペルフルオロアルキルスルホンアミド基を含む少なくとも１個の第３の基を有する。前記フッ素化ビス（アシル）含有化合物から形成されるフッ素化ポリエステルを用いて、多くの他のポリエステルに比べて比較的屈折率の低い低エネルギー表面を提供することができる。式Ｒｆ^１−Ｌ^２−Ｈの化合物と式Ｗ−ＣＨ_２−Ａｒ^２−ＣＨ_２−Ｗの化合物とを反応させることによって、式Ｒｆ^１−Ｌ^２−ＣＨ_２−Ａｒ^２−ＣＨ_２−Ｗ（式中、Ａｒ^２、Ｒｆ^１、Ｌ^２、Ｒ^６及びＷは、特許請求の範囲に定義された通りである）の一置換アリーレン化合物を調製する方法。
（もっと読む）

【課題】２−フルオロアクリル酸エステルの工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】２−フルオロプロピオン酸エステルをラジカル開始剤の存在下に「窒素−臭素結合を有する臭素化剤」と反応させることにより（臭素化）２−ブロモ−２−フルオロプロピオン酸エステルに変換し、引き続いて塩基と反応させることにより（脱臭化水素化）２−フルオロアクリル酸エステルを製造することができる。本発明の製造方法は、極低温条件を必要とせず、さらに高価な反応剤を量論的に用いる必要もない。よって、安いコストで目的とする２−フルオロアクリル酸エステルを製造することができる。
この様に、本発明は、従来技術の問題点を全て解決した、２−フルオロアクリル酸エステルの工業的な製造方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】ある物質を含む混合物中からその物質を蒸留により分離する方法を提供する。
【解決手段】一層以上の滞留層１中でフラッディング点以上となるに比表面積が選ばれた一層以上の滞留層と、フラッディング点未満となるように比表面積が選ばれた一層以上の分離層２とを有する構造化充填材を、選択性溶媒を添加する抽出蒸留を使用して、ある物質を含む混合物中からその物質を蒸留により分離する方法を実施するために、蒸留塔中における分離効果を有する充填物として利用する。 （もっと読む）

【課題】２−フルオロアクリル酸エステルの工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】３−アミノ−２−フルオロプロピオン酸エステル類を塩基の存在下に第四級アンモニウム塩化剤と反応させることにより、２−フルオロアクリル酸エステルを製造することができる。さらに、原料基質である３−アミノ−２−フルオロプロピオン酸エステル類は、３−ヒドロキシ−２−アミノプロピオン酸エステル類を有機塩基の存在下にスルフリルフルオリド（ＳＯ₂Ｆ₂）と反応させることにより、高い位置選択性で工業的にも格段に容易に製造することができる。本発明は、従来技術の問題点を全て解決した２−フルオロアクリル酸エステルの工業的な製造方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】
極めて高純度な（メタ）アクリル酸エステル化合物を効率よく得ることができる（メタ）アクリル酸エステル化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】
第１の溶媒中、塩基の存在下、式（ＩＩ）で示される化合物と、式（ＩＩＩ）で示される化合物を反応させることにより、前記式（Ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物を含む反応液を得る工程（Ｉ）、得られた反応液から、前記式（Ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物を単離する工程（ＩＩ）、及び、単離した前記式（Ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物を第２の溶媒に溶解させた溶液を、吸着剤により処理する工程（ＩＩＩ）を有することを特徴とする、式（Ｉ）で示される（メタ）アクリル酸エステル化合物の製造方法。
【化１】


（式中、Ａは水素原子又はメチル基を表し、ｎは１〜１０の整数を表し、Ｒ^１はシアノ基等を表し、Ｒ^５は炭素数１〜６のアルキル基等を表す。） （もっと読む）