【課題】レジスト材料、封止材料、積層材料、接着剤、粉体塗料等に好適な（メタ）アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物およびその製造方法の提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表される篭状シルセスキオキサン化合物を、末端二重結合を有するエポキシ化合物に１０〜２００℃で付加反応させ、次いで導入されたエポキシ基に（メタ）アクリル酸を６０〜１５０℃で反応させることにより得られる（メタ）アクリロイルオキシ基含有篭状シルセスキオキサン化合物。


（式中、Ｒ¹はそれぞれ独立して炭素原子数が１〜５のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】本発明は、ハロゲン成分を含まないかご型シロキサン化合物を経済的に製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のかご型シロキサン化合物の製造方法は、反応触媒として硝酸Ｃモルの存在下、かご型ケイ酸塩化合物Ａモルとジシロキサン化合物Ｂモルとを反応させる反応工程を含み、前記モル数Ａ〜Ｃが、１＜Ｃ／（８×Ａ）≦３、および１≦（２×Ｂ）／（８×Ａ）≦５を同時に満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
完全縮合型ＰＯＳＳの骨格の再配列により、不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体を得る新規な製造方法の提供。
【解決手段】
一般式（１）



[式中、Ｐｈはフェニル基を表す。]
で示される完全縮合オクタフェニルオクタシルセスキオキサンを、水−アルコール溶媒中、アルカリの共存下、加水分解反応させることを特徴とする不完全縮合ＰＯＳＳ誘導体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】新規なシルセスキオキサン化合物およびその製造方法並びにこの化合物よりなる屈折率変換材料および光−熱エネルギー変換蓄積材料を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるシルセスキオキサン化合物は、光反応性を有する。


（式中、Ｒ¹は−ＯＳｉ（ＣＨ₃）₂−（ＣＨ₂）₃−Ｏ−ＣＨ₂ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ＯＲ²を、Ｒ²は、例えばアントラセン−１−イルカルボニル基、４−フェニルアゾフェニル基等を表す。） （もっと読む）

【課題】分子構造の制御された籠型シロキサンに任意にアルコキシル基又はシラノール基を含有させた、アルコキシル基含有籠型シロキサン化合物又はシラノール基含有籠型シロキサン化合物を提供する。
【解決手段】一般式［Ｒ¹ＳｉＯ_3/2］_n 〔但し、Ｒ¹はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であり、nは８〜１４の整数〕で表される籠型シロキサン化合物に、一般式Ｒ¹Ｒ²Ｓｉ(ＯＲ³) ₂ 〔但し、Ｒ¹及びＲ²はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であり、Ｒ³はメチル基又はエチル基である〕で表されるジアルコキシシランを非極性溶媒及び塩基性触媒の存在下で付加させて得られるアルコキシル基含有籠型シロキサン化合物であり、また、これを酸又は塩基性触媒の存在下で加水分解して得られるシラノール基含有籠型シロキサン化合物である。 （もっと読む）

【課題】かご状シルセスキオキサンのｎ＝８であるオクタシルセスキオキサンを効率よく製造する。
【解決手段】オルガノトリアルコキシシランをアルカリ性混合溶液中で加水分解、脱水縮合させてシリコーン粒子を製造する方法であって、前記アルカリ性混合溶液は、水溶性有機溶媒を７０重量％〜９８重量％、水を２重量％〜３０重量％の割合で混合した混合溶液に対し、アルカリ性物質を０．０５〜５重量％含有させることでかご状シルセスキオキサンのｎ＝８であるオクタシルセスキオキサンを製造する。 （もっと読む）

【課題】光を発する発光団で官能化されたナノ粒子を含有する発光組成物および発光素子を提供する。
【解決手段】発光組成物は、発光性の発光団で官能化されたナノ粒子、例えば、有機−無機発光性発光団官能化ナノ粒子を含有する。発光素子は、アノード、カソード、およびそのような発光組成物を含有する層を有する。一実施形態において、発光素子は白色光を発することができる。 （もっと読む）

【課題】 帯電量分布がシャープで帯電量の均一性が高く、汎用性及び帯電の立ち上がり性に優れ、環境依存性が小さく、耐久性に優れ、トナーに用いられた場合のトナーの定着性やオフセット性に悪影響を与えない荷電制御剤及びそれを含有するトナーの提供。
【解決手段】 フェノール性水酸基を有する化合物１又は２分子以上と金属アルコキシド１又は２分子以上との反応により得られる金属化合物を有効成分とする荷電制御剤及びその荷電制御剤を含有する静電荷像現像用トナー。 （もっと読む）

【課題】α，β―ジオール基を有するシルセスキオキサンを提供すること。また、シルセスキオキサンとヒドロキシアルキルセルロースを含有してなる有機無機ハイブリッド樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（Ａ）で表される籠型構造体シルセスキオキサンと、一般式（Ｂ）で表される部分開裂籠型構造体シルセスキオキサンとを含んでなる組成物。
（ＲＳｉＯ_３／２)_ｌ ・・・（Ａ）
（ＲＳｉＯ_３／２）_ｍ（ＲＳｉＯ_２Ｈ）_n ・・・（Ｂ）
［一般式（Ａ）及び（Ｂ）中、ｌは４以上の任意整数、ｍは４以上の任意整数、ｎは１以上の整数を表し、ｎ／(ｌ＋ｍ)は０．０３〜０．２である。
各Ｒは同一でも異なっていてもよく、炭素数１〜１０のアルコキシ基またはアリールオキシ基、炭素数１〜２０の飽和炭化水素基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基、ケイ素数１〜１０のケイ素原子含有基、及びα，β−ジオールを有する基から選択される基を表す。但し、１つの分子内で少なくとも１つはα，β−ジオールを有する基であり、α，β−ジオールを有する基が複数の場合、互いに同一でも異なっていても良い。］ また、シルセスキオキサンを含有するヒドロキシアルキルセルロース。 （もっと読む）

【課題】分子構造が明確となっている剛直なシロキサン骨格を有するかご型シルセスキオキサンを収率よく取得する方法を提供する。
【解決手段】一般式ＲＳｉ（ＯＲ’）_３（式中、Ｒはアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、またはアルケニル基を表し、Ｒ’はＨまたはアルキル基を表す）で表される３官能性シランまたはその低次縮合体を、水溶性溶媒中で、脂肪族アミンを触媒として用いて、反応させる。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線の照射によって効率よく回路形成を行うことができる電気基板材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）、式（２）および式（３）に例示されるシルセスキオキサン骨格を含む重合体からなる合成樹脂成形体の表面に金属微粒子が付着した材料にレーザー光線を照射して電気回路基板を作製する。


式（１）、式（２）および式（３）において、それぞれのＲは独立してフェニル、シクロペンチル、シクロヘキシル、炭素数が１〜１０のパーフルオロアルキルまたはｔ−ブチルであり、それぞれのＲ¹は独立して炭素数１〜４のアルキルまたはフェニルである。 （もっと読む）

【課題】従来安定した分散ができなかった複数種の溶質分子を含む溶媒においても、安定して目的の溶質分子を分散させることが可能なナノ粒子複合体を提供すること。
【解決手段】親水基と両末端のフルオロアルキル基を有する鎖状オリゴマー部位と、３次元シリカネットワーク部位とから成り、次式
【化１９】


（式中のＸは親水基であって、それぞれ独立してＯＨ基、ＮＣＯ基、ＮＨ_２基、ＮＨＲ基（Ｒ：アルキル基）又はＯＣＹ基（Ｙ：親水基）、Ｒ_Ｆは炭素数２〜１０個で、分子量１１９〜１０００のフルオロアルキル基、３Ｄ‐ＳＮは３次元シリカネットワーク部位、Ｂはそれぞれ独立してＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ、ＮＨ−Ｃ＝Ｏ又はＮＲ−Ｃ＝Ｏ（Ｒ：アルキル基）を示す。ｎは１≦ｎ≦１０、ｍは１≦ｍ≦ｎを示す。）で表される構造を有するホスト分子と、これに包摂されたゲスト分子を含有することを特徴とするナノ粒子複合体である。 （もっと読む）

【課題】ホスト分子としての機能を有しゲスト分子の分散性や表面配向性を改善し得るナノ粒子、及びこれにゲスト分子を包接させたナノ粒子複合体を提供すること。
【解決手段】ナノ粒子は、親水基と両末端のフルオロアルキル基を有する鎖状オリゴマー部位と、３次元シリカネットワーク部位と、フッ素又はケイ素を有する有機鎖とから成る。
【化１】


（式中のＲ’はそれぞれ独立してＨ又はアルキル基、Ｘは親水基であってそれぞれ独立してＯＨ基、ＮＣＯ基、ＮＨ_２基等、Ｒ_Ｆは炭素数２〜１０個で分子量１１９〜１０００のフルオロアルキル基、３Ｄ‐ＳＮは３次元シリカネットワーク部位、Ｂはそれぞれ独立してＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ等、ＥはＯ、Ｏ＝Ｃ−Ｏ、ＮＨ−Ｃ＝Ｏ等、Ｇは［（ＣＨ_２Ｏ）_ｌ−［Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ］_ｋ−（ＣＨ_２Ｏ）_ｌ］等を示す）で表される構造を有する。 （もっと読む）

【課題】かご状シルセスキオキサン、特にｎ＝８のＴ−８シルセスキオキサンを高い選択率で簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】アルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法において、溶媒および塩基存在下、１当量のＳｉ−Ｈ結合を有するかご状シルセスキオキサンと、３０〜４０当量のアルコールとを２０〜３０℃で反応させるアルコキシ基を有するかご状シルセスキオキサンの製造方法。 （もっと読む）

本開示は、メルカプタン官能性およびヒドロカルビル官能性および／またはヘテロカルビル官能性を有する、有機官能性シランおよび有機官能性シランの混合物に関する。これらのシランは、使用のあいだに揮発性有機化合物（ＶＯＣ）の発生を削減するか除去し、充填剤入りエラストマー材料の加工を助け、充填剤入りエラストマーの最終用途の特性を高める。本開示はこのシランの組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】長い稼働寿命、優れた電子的特性を有し、かき傷が無いまたは少ない画像形成部材を提供する。
【解決手段】光導電体は、必要に応じた支持基材と、光発生層と、少なくとも１つの電荷輸送成分と少なくとも１つのシラノールとを含む少なくとも１つの電荷輸送層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】オレフィン重合用メタロセン触媒の提供。
【解決手段】下記の一般式で表されるメタロセン化合物。
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本発明は、染料で官能化されたシルセスキオキサンクラスター、その製造方法、および着色剤としてのその使用、またはその塩に関し、該化合物（官能化されたクラスターまたはナノ粒子）は、一般式（Ｉ）（式中、ＣＡＧＥは、式（ＩＡ）で示される部分であり、Ｄは、発色団部分であり、他の記号は、本明細書において定義したような意味を有する）を特徴とする。
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本発明は、液体状の、ナノ粒子状の、官能化された、疎水性の、ケイ酸テトラアルキルエステルと、式Ｐ−（ＣＨ₂）_n−Ｓｉ（ＯＲ）₃［式中、Ｐ、Ｒおよびｎは相互に独立して以下の意味を有する：Ｐは１の重合可能なＣＨ₂＝ＣＨ基、ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｏ基、スチリル基、（メタ）アクリル基、（メタ）アクリルアミド基、または１の重付加可能なＳＨ基を表し、Ｒはメチル、エチル、またはプロピルを意味し、かつｎ＝３〜１５である］の官能化されたトリアルコキシシランとの共縮合体を含む歯科材料に関し、ケイ酸テトラアルキルエステルと、ω位で官能化されたアルキルトリアルコキシシランとの共縮合によって、および引き続いたトリメチルシリル基による末端基の官能化によって製造可能である。さらに本発明は、充填複合材料、固定セメント、または被覆用の材料のための、歯科材料の使用に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の表面保護膜または層間絶縁膜材料用途として、現像工程でアルカリ現像液が使用でき、低いキュア温度により、残留応力が低く、優れた耐熱性、機械特性等を発現するポジ型感光性レリーフパターン形成材料を提供する。
【解決手段】同一分子内に籠型シルセスキオキサン構造含有基とフェノール性水酸基の両方の基を含有するアルカリ可溶性物質（Ａ）、及び溶解抑止剤（Ｂ）を含有することを特徴とするアルカリ現像性のポジ型感光性レリーフパターン形成材料。 （もっと読む）