【課題】１３０℃以上の高温下に長時間、曝されても劣化しない、さらなる耐熱性を有する、耐熱性封止材用のシロキサン系組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）


（式中、Ｘは、一般式で表される特定の基。）で表されるシロキサン化合物（Ａ）および金属化合物を含む組成物。 （もっと読む）

【課題】非ハロゲン系溶媒を反応溶媒に用いることが可能であり、かつ反応生成物から酸化触媒を回収可能な、液晶性の骨格を有するエポキシ誘導体を効率よく製造する技術を提供する。
【解決手段】Ｔ８のシルセスキオキサンに有機基を介して三級アミンが導入されてなる特定の四級アンモニウム塩を用意し、この四級アンモニウム塩と、タングステン酸類及びリン酸類又はタングストリン酸等の特定のヘテロポリ酸と、過酸化水素とから酸化触媒を調製し、この酸化触媒を用いて、過酸化水素の存在下で一末端又は両末端に炭素間不飽和二重結合を有する特定のオレフィン誘導体から、このオレフィン誘導体の炭素間不飽和二重結合がエポキシ基に酸化されてなる特定のエポキシ誘導体を製造する。この酸化触媒は、エポキシ化反応後、貧溶媒による析出によって反応生成物から回収される。 （もっと読む）

【課題】成形加工性、電極接触性および機械的強度に優れた新しい固体導電材料を提供する。
【解決手段】剛直な酸化ケイ素を核とし、有機分岐鎖が当該核から伸びており、外殻層に、有機分岐鎖の末端のイミダゾリウム塩が固定化された化合物を用いる。上記化合物の核と当該核から伸びる有機分岐鎖とからなるユニットが球形を維持したまま、３次元的に規則的に配列しているので、外殻層に三次元的にイオンや電子の伝導経路が構築された固体導電材料を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】優れたサイクル特性を有する二次電池用のラジカル化合物からなる電極活物質。
【解決手段】一般式（１）ＲＳｉＯ_３／２で表される部分構造を有するラジカル化合物。（一般式（１）において、Ｒは一般式（２）で表される基を表す。）


（一般式（２）において、Ｙは含窒素複素環が５〜７員環を形成する基を表す。Ｒ¹〜Ｒ⁴は炭素数１から３のアルキル基を示す。Ｘは、アルキレン基、又はカルボニル基を表す。） （もっと読む）

【課題】高耐熱性、高耐溶剤性、高透過率及び低誘電率の層間絶縁膜の形成に好適であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような大きな現像マージンを有するポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ベース樹脂としてカルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基を有するポリシロキサン化合物、感光性成分として感光性ジアゾキノン化合物、及び有機溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物に、エポキシ基を有する環状シロキサン構造の基同士が１分子中に２〜４個のビニル基を有する化合物からビニル基を除いた残基で連結されたエポキシシロキサン化合物を含有させる。 （もっと読む）

【課題】かご型ポリシルセスキオキサンを有するポリマーの更なる物性の向上を図るため、対称性を持つ構造を制御したかご型ポリシルセスキオキサンを提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるシロキサン化合物。


〔上記式（１）中、Ｒ¹およびＲ²は、水素原子、−ＯＨ、−ＳＨ、または炭素数１〜３０の１価の有機基を示し、Ｒ¹とＲ²は互いに異なる基であり、ｍは４〜８の整数である。〕 （もっと読む）

【課題】各種不純物の含有量が少ない多面体骨格を有するアンモニウムオリゴシリケートおよび多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を得る方法、および該化合物を提供する。
【解決手段】アルキルシリケートと水酸化４級アンモニウムを溶媒中で反応させる簡便な方法により多面体骨格を有するアンモニウムオリゴシリケートが得られ、このシリル化反応により、ポリシロキサン化合物が得られる。得られた多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を用いた成形体は透明であり、耐青紫レーザー性が高く、耐光性の良好な成形体が得られる。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性、硬化性に優れた含フッ素（メタ）アクリル変性有機ケイ素化合物、これを含む硬化性組成物、及び紫外線又は電子線硬化型ハードコート組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）


（Ｒｆはフルオロアルキル又はフルオロポリエーテル構造を含む一価又は二価の基である。Ｑ¹はＳｉ原子を有する（ａ＋ｂ）価の、シロキサン、シルアルキレン、シルアリーレン構造の連結基、Ｑ²は二価炭化水素基であり、Ｒ¹〜Ｒ³は水素原子又は一価炭化水素基であり、Ｒｆが一価のときａ’は１、ａは１〜６の整数であり、Ｒｆが二価のときａは１、ａ’は２である。ｂは１〜２０の整数である。）
で表される含フッ素エポキシ変性有機ケイ素化合物に、（Ｂ）（メタ）アクリル基を有する不飽和モノカルボン酸を付加反応させることにより得られた含フッ素（メタ）アクリル変性有機ケイ素化合物。 （もっと読む）

【課題】ジシロキサン化合物等の各種不純物の含有量が少ない多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を得る方法、および該多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を提供する。
【解決手段】多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を、溶媒から晶析するという簡便な方法で目的とする化合物が得られる。得られた多面体骨格を有するポリシロキサン化合物を用いた成形体は透明であり、耐青紫レーザー性が高く、耐光性の良好な成形体が得られる。 （もっと読む）

本発明の対象は、ＰＯＳＳ修飾リガンド、及びヒドロホルミル化における触媒作用を有する組成物中でのその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】接着性および耐熱性に優れる高感度の感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリアミド誘導体１００重量部に対し、多面体オリゴマシルセスキオキサン誘導体０．１〜２０重量部、および光によって酸を発生する化合物５〜３０重量部を含む感光性樹脂組成物が開示される。 （もっと読む）

【課題】防湿性が向上された無機蛍光体粒子及びその製造方法並びに発光装置を提供する。
【解決手段】無機蛍光体粒子１０の表面の一部または全面に、架橋により硬化されたシルセスキオキサンの被覆層１２が形成されている。シルセスキオキサンは、以下の構造式で表される繰り返し単位を有し、式中Ｒは、炭素数１〜２０の有機基であり、Ｒの少なくとも一部は炭素−炭素二重結合、エポキシ基、（メタ）アクリロイル基のいずれかを含む。このシルセスキオキサンにより、無機蛍光体粒子１０の表面に緻密な層を形成し、無機蛍光体粒子１０の防湿性を向上する。
【化１】
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【課題】フェニル基にトリアルキルシリル基を有するＰＯＳＳの選択的合成と単離、及びニトロ化の提供。
【解決手段】トリアルキルシリルフェニル基を有する式（１）で表される完全縮合シルセスキオキサンを、トリアルキルシリルフェニル基を有するトリアルコキシシランから合成及び単離する。


トリアルキルシリル基をニトロ基に変換すれば、更に他の機能性官能基の導入を可能にする。 （もっと読む）

【課題】安全且つ容易に原子状水素を包接させることができる包接化合物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】籠状ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンを放電状況下に介在させることで籠状ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンに原子状水素を包接させる。放電により、籠状ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンが励起され、籠状ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンの置換基中の水素が脱離して水素イオンとなる。この水素イオンが籠状ポリヘドラルオリゴメリックシルセスキオキサンに入り込んだ後、電子と再結合することによって原子状水素が包接された包接化合物が得られるものと考えられる。 （もっと読む）

光活性成分とアミン官能性との両方を含み、多面体オリゴマーシルセスキオキサンに結合された光開始剤化合物であって、光開始剤が式（１）または（１’）によって表され、その際、ｎは２ｍであり； ｍは２〜３０の整数であり； ｎ’＋ａの合計は４〜６０の整数であり； ｎ’は偶数の整数であり； ａは偶数または奇数の整数であり； 且つ、例えば種々のＡはＣ₁〜Ｃ₁₂−アルキルまたは光活性成分Ｑ１であるか、式（２）の基であり； Ｅは例えば直接結合であり、Ｌは直鎖または分枝鎖のＣ₁〜Ｃ₃−アルキレン、好ましくはプロピレンであり； Ｒ₁およびＲ₂は例えば光活性成分ＱまたはＣ₂〜Ｃ₂₀−アルキルであり； Ｑは例えば式（４）の基であり； Ｚ₂は例えば、非置換または１つまたはそれより多くのＯＲ₆によって置換されたＣ₁〜Ｃ₆−アルキレンであり； 且つ、Ｒ₆、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃およびＲ₁₄は例えば水素である、光開始剤化合物が、低移動性光開始剤として特に適している。
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リン含有シルセスキオキサンは、式［Ｒ^１３ＳｉＯ_１／２］ｍ［Ｒ^２ＳｉＯ_３／２］ｎ［Ｒ^３ＳｉＯ_３／２］ｐ［（Ｒ^４Ｏ）_２ＰＯ（ＣＨ_２）_ｘＳｉＯ_３／２］ｑ（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４はそれぞれ、独立してヒドロカルビル基を表し；ｘは、１〜８の整数を表し；ｍは、１．５未満の正の数であり；ｎ及びｑは、０超かつ１未満の正の数であり；ｐは、０以上かつ１未満の数である）により表される。更に、（ｎ＋ｐ）／ｑは、０．５〜９９の範囲であり、（ｎ＋ｐ＋ｑ）＝１である。リン含有シルセスキオキサンを含む硬化性及び硬化した組成物を開示する。 （もっと読む）

【課題】嵩高い置換基を有するビニル化合物から誘導される構造単位の共重合比が高いオレフィン重合体の重合用触媒として有用な遷移金属錯体を提供すること。
【解決手段】
式［１］


（式中、Ｍは元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、Ａは元素周期律表の第１６族の原子を表し、Ｊは元素周期律表の第１４族の原子を表す。）
で示されるシクロペンタジエニル環の一方に飽和炭化水素環が縮環した遷移金属錯体、及び該遷移金属錯体から調製されるオレフィン重合用触媒、ならびに該オレフィン重合用触媒を用いたオレフィン重合体の製造方法の提供。 （もっと読む）

【課題】高収率で高純度の有機無機ハイブリッド材料として有用なかご型有機基修飾金属酸化物を効率良く得る製造方法を提供する。また、上記のかご型有機基修飾金属酸化物を必要によりナノメートルサイズでしかも単分散な微粒子として連続的かつ短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】有機基修飾金属酸化物前駆体液と水性媒体とを流路に導入し、該流路中で加熱加圧下において前記両液を混合して、かご型有機基修飾金属酸化物を生成させる、かご型有機基修飾金属酸化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】汚れが付き難い、目立ち難い、及び、拭き取り易いという３つの要求のバランスが取れた表面を与える表面処理剤を提供することを目的とする。
【解決手段】下記式（１）で示されるパーフルオロポリエーテル残基含有ポリオルガノシロキサン及びそれを含む表面処理剤である。



［式（１）中、Ｒｆは２価のパーフルオロポリエーテル残基、ＱはＲｆ基とＺとを連結する２価の基、Ｚはシロキサン結合を３個以上有する３〜１１価のポリオルガノシロキサン残基、Ｒは炭素数８〜４０の１価の有機基、ｎは１〜８の整数、Ａは下記式（２）に示した基であり、ｋは１〜９の整数、但し、ｎ＋ｋ＝（Ｚの価数−１）である。



（式（２）中、Ｒ’は炭素数１〜４のアルキル基、又はフェニル基、Ｘは加水分解性基であり、ａは２又は３、ｂは２〜１０の整数である。）］ （もっと読む）

【課題】光学的及び電気的特性に優れた耐熱性絶縁膜を形成することのできる感光性組成物及びこの感光性組成物に用いられるアルカリ可溶性シルセスキオキサン並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）間移動触媒を含有する有機溶媒層と水性溶媒層との二層状態を作り、前記有機溶媒層に一般式（１）：ＲＳｉＸ₃（式中、Ｒは、Ｃ₁〜Ｃ₅の脂肪族炭化水素基、シクロヘキシル基、Ｃ₂〜Ｃ₅のアルケニル基、又はアリール基を表し、Ｘは塩素、臭素又は沃素を表す。）で表されるトリハロシランを滴下し、有機溶媒層及び界面にて制御された反応を行うことによりポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が２０００以下のシルセスキオキサンを製造し、（Ｂ）得られたシルセスキオキサンをアシル化剤を用い、例えばフリーデル−クラフツ反応によりアシル化することによりアシル化されたシルセスキオキサンを製造する。得られたシルセスキオキサンとキノンジアジド感光剤、あるいは光酸又は塩基発生剤とにより感光性組成物を製造し、これを基体上に塗布し、露光後現像し、硬化することにより、耐熱性絶縁パターン膜を形成する。 （もっと読む）