【課題】より加水分解に対して安定で容易に製造可能なシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


Ｒ¹、Ｒ²は同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ³は水素原子又はメチル基であり、Ａは下記一般式（２）


（Ｒ⁴は炭素数１〜１０の１価の炭化水素基であり、ｍは２〜３０の整数。）で示されるシロキシ基等であり、嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。 （もっと読む）

【課題】 劣化しない防汚塗料組成物の提供。
【解決手段】 一般式（Ｉ）：
【化１】


［式中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、各々独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキルまたはハロゲン基を表すが、これらは場合によりアルキル、アラルキル、アリール、ヒドロキシ、ハロゲン、アミノまたはアミノアルキル基を包含する群から独立して選択される１個以上の置換基で置換されていてもよく、
Ｒ^７は、水素、アルキル基または−ＣＯＯＲ^９（ここで、Ｒ^９はアルキル基を表す）を表し、
Ｒ^８は、水素、アルキル基または−ＣＨ_２−ＣＯ_２−（ＳｉＲ^４Ｒ^５Ｏ）_ｎ−ＳｉＲ^１Ｒ^２Ｒ^３を表し、そして
ｎは３から１２を表す］
で表されるポリオルガノシリル化カルボキシレート単量体またはその重合体を含んでなる防汚塗料組成物。 （もっと読む）

【課題】コンタクトレンズ材などとして有用な共重合体に使用される新規シリコーン化合物およびそれを用いた表面水濡れ性向上添加剤を提供する。
【解決手段】式（１）で表されるシリコーンモノマー及び該シリコーンモノマーを特定割合で含む表面水濡れ性向上添加剤。


(Ｒ：−ＣＨ₂ＣＨ(ＯＨ)ＣＨ₂−、−ＣＨ(ＣＨ₂ＯＨ)ＣＨ₂−。ｍ：1〜４、ｎ：０〜３) （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、誘電率、硬度等の諸特性に優れ、誘電率の経時変化が小さく、半導体素子デバイスなどにおける層間絶縁膜として使用するのに適した多孔質膜、およびその多孔質膜を製造する組成物を提供する。
【解決手段】多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物（Ｘ）を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】不均一系触媒である金属酸化物担持酸化ルテニウム触媒を用いた反応系で、高収率のアルキル基置換化合物を得ることのできる製造方法を提供する。
【解決手段】ベンゼン環またはヘテロ環を有するケトン化合物とビニルシラン化合物を酸化ジルコニウム又は酸化ジルコニウムを含む複合酸化物に担持したルテニウム触媒の存在下反応させる例えば、下記反応式(B3)に示したような方法によりアルキル基置換化合物を製造する。
（もっと読む）

【課題】残留触媒の量や着色を劇的に減少させた、高品質の硫黄含有有機シリコン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｓ_ｎ−Ａｌｋ−ＳｉＲ_ｍ（ＯＲ）_３−ｍを持つ硫黄含有有機シリコン化合物を生産する方法であって（式中、Ｒは独立に、１〜１２炭素原子を持つ１価の炭化水素を表し、Ａｌｋは、１〜１８炭素原子を持つ２価の炭化水素を表し、ｍは、０、１、もしくは２を表す整数であり、ｎは、２〜８の値を有する整数である）、式Ｍ_２Ｓ_ｎもしくはＭＨＳ（式中、Ｈは水素、Ｍはアンモニウムもしくはアルカリ金属、ｎは１〜８）を持つスルフィド化合物（Ａ）を、式（ＲＯ）_３−ｍＲ_ｍＳｉ−Ａｌｋ−Ｘ（式中、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、もしくはＩ、ｍは、０、１、もしくは２）を持つシラン化合物（Ｂ）および硫黄（Ｃ）と、相間移動触媒の存在下に加熱し反応させ、水相が緩衝剤もしくは塩基性化合物を含有し、生成混合物を形成するステップ（Ｉ）、該生成混合物を８０〜１００℃へと加熱するステップ（ＩＩ）、ならびに、該生成混合物から前記有機シリコン化合物を分離するステップ（ＩＩＩ）を含む方法とする。 （もっと読む）

異なるクロロモノシラン生成プロセスからの廃棄物を単一の再生プロセスにおいて混合し、反応させる。有用なモノシラン種を単一の再生プロセスで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】エチレンおよびα−オレフィンの取り込み効率が高く、高分子量のゴム成分を重合することができるメタロセン錯体およびそれを用いたオレフィンの重合方法を提供する。
【解決手段】インデニル環の４位に置換されていてもよいフェニル基を有し、インデニル環の２位にフリル基等の置換基を有し、二つのインデニル環の１位が炭素原子、珪素原子等で連結されている、Ｔｉ、ＺｒまたはＨｆのメタロセン錯体、該メタロセン錯体を含むことを特徴とするオレフィン重合用触媒、および該オレフィン重合用触媒を使用して、オレフィンの重合または共重合を行うことを特徴とするオレフィンの重合方法。 （もっと読む）

【解決手段】Ｃ_p−Ｏ−Ｃ_q（但し、ｐ、ｑは炭素数を表わし、２≦ｐ≦６、２≦ｑ≦６であり、各炭素鎖には酸素原子と共役する不飽和結合を含まない）結合を含有する炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状の酸素含有炭化水素鎖で結合された２個以上のケイ素原子を含有し、かつ該２個以上のケイ素原子はいずれも１個以上の水素原子又は炭素数１〜４のアルコキシ基を有するプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物。
【効果】従来、疎水性を向上させようとした場合には成膜速度に犠牲を払ってきたが、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜形成用有機シラン化合物によれば、膜の疎水性と誘電率特性を確保した上で、成膜速度の低下を抑制することができる。
また、本発明のプラズマＣＶＤ法によるＳｉ含有膜の成膜方法を多層配線絶縁膜の成長方法として利用することにより、配線信号遅延の少ない半導体集積回路を安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】新規メルカプトシランカップリング剤、例えば、タイヤの製造を意図するゴム組成物において補強用無機充填剤とジエンエラストマーをカップリングさせるのに特に使用し得るメルカプトシランカップリング剤を提供する。
【解決手段】本発明は、下記の一般式Iを有するブロックトメルカプトシランに関する：
(HO)_２ R^１ − Si − Z − S − C (= O) − A
(式中、R^１は、１〜１８個の炭素原子を有する、線状または枝分れであるアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Aは、水素；または、１〜１８個の炭素原子を有する、線状または枝分れであるアルキル、シクロアルキルまたはアリールから選ばれる一価の炭化水素系基を示し；
Zは、１〜１８個の炭素原子を含む二価の結合基を示す)。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性にも優れた光硬化可能なフッ素化合物の提供。
【解決手段】環状シロキサン構造を備えた含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレートであって、例えば、下記式で表される化合物である。


(Ｒｆは下記式（４）で表されるパーフルオロポリエーテル残基であり、


式（４）中、ｊ、ｋ、ｌ及びｍはＲｆの分子量が２００〜６０００となる範囲において、０〜５０の整数であり、XはＦもしくはトリフルオロメチル基である。） （もっと読む）

【課題】脂肪族アミノ基を有し、蒸留精製が可能で、発生するアルコール量を削減することができる有機ケイ素化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、Ｒ¹及びＲ²は炭素数１〜１０の置換又は非置換の脂肪族１価炭化水素基であって、Ｒ¹とＲ²が結合してこれらが結合する窒素原子と共に環を形成してもよく、各々同一又は異なっていてもよい。また、Ｒ¹及びＲ²はヘテロ原子を含んでもよい。Ｒ³及びＲ⁴は炭素数１〜１０の置換又は非置換の１価炭化水素基で、各々同一又は異なっていてもよい。ｎは０〜２の整数である。）で示されるアミノ基を有する有機ケイ素化合物。
【効果】アミノ基を有する有機ケイ素化合物を用いることにより、高分子材料の紫外線領域を含んだ透明性を保持しながら、高い機械的特性や耐熱性を付与することができる。 （もっと読む）

【課題】スキンローション、制汗剤、ヘアケア製品のようなパーソナルケア組成物において、滑らかさ及び／又は無機成分の視覚マスキングを高め、副生物や触媒残渣などの不純物を含まないフェニルトリメチコーンの使用方法。
【解決手段】アラルキルアルキルシロキサンの使用方法は、パーソナルケア組成物の一成分として、そのパーソナルケア組成物の輝き、滑らかさ及び無機成分の視覚マスキングのような特性の１以上を高めるのに有効オな量で環状のアラルキルシロキサンを添加することからなる。 （もっと読む）

本発明は、式（１）の部分を含む化合物、および有機エレクトロルミネッセンスデバイスにおけるその使用、およびこの種の化合物を具備する有機エレクトロルミネッセンスデバイスに関する。 （もっと読む）

【課題】低い光損失と共に高い屈折率値を有する改善されたゾル−ゲル組成物およびその調製法を提供すること。
【手段】本明細書では、光パターン化可能ゾル−ゲル前駆体およびその調製法が記載される。ゾル−ゲル前駆体は、熱的に安定であり、高い屈折率および低い光損失値を有する組成物を形成する。該前駆体を使用して、通信波長の領域の光導波路用途に理想的に適したゾル−ゲル組成物を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】金属酸化物の製造法および金属酸化物コーティング法の提供。
【解決手段】次式Ｉの化合物を加水分解して金属酸化物を製造する。


式中、ＭはＡｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ等であり、ＸはＯ_1/2又はＯＲであり、Ｒはアルキルであり、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は各々独立にＨ、アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₁₀アルキル等である。式Ｉの１種以上の化合物で基材を被覆してから上記化合物を加水分解すること及び／又は上記化合物を約５０〜約４５０℃に加熱することによって、１種以上の金属酸化物を含有する物品を製造する。 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１）


［Ｒ¹、Ｒ²は、同一又は異なるα位又はβ位に炭化水素基を有する炭素数３〜１０の１価の分岐状炭化水素基又は炭素数３〜１０の１価の環状炭化水素基、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基、又は一般式（２）


（Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹は同一又は異なる炭素数１〜２０の置換又は非置換炭化水素基である。）
で示されるシロキシ基であり、Ｒ⁶は水素原子又はメチル基である。］
で示される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物。
【効果】本発明により提供される嵩高い置換基を有するシロキシ基含有シリル（メタ）アクリレート化合物は加水分解速度が遅く、またアルキルメタクリレートと共重合させたポリマーは殺生物剤を微量添加、もしくは無添加で表面への水中生物の付着抑制を図ることができるため、船底塗料などの加水分解性自己研磨型ポリマーの原料として有用である。 （もっと読む）

ビスアミノシラシクロブタンと、窒素供給ガス、酸素供給ガスおよびこれらの混合物から選択した原料ガスとの反応ガス混合物の熱重合によるシリコン含有薄膜の生成方法。堆積膜は窒化ケイ素、炭窒化ケイ素、二酸化ケイ素または炭素ドープ二酸化ケイ素であってもよい。これら膜は、半導体デバイスにおける誘電体、不動態化膜、バリア膜、スペーサ、ライナおよび／またはストレッサとして有用である。
（もっと読む）

【課題】広い電位窓を有し、電気化学的安定性が高く、また、シリコーン等の有機材料にも親和性の高いイオン液体を提供すること
【解決手段】トリエチル（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）アンモニウム塩、ビス（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）エチルメチルアンモニウム塩、N−メチル−N−（ペンタメチルジシロキサニルプロピル）ピロリジニウム塩、N−メチル−N−（ヘプタメチルトリシロキサニルプロピル）ピロリジニウム塩、N−メチル−N−（トリメチルシリルメチル）ピロリジニウム塩等の特定の構造を有する第４級アンモニウム塩をイオン液体として使用する。 （もっと読む）

【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、さらに、光硬化可能なフッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される、含フッ素アクリレートもしくは含フッ素α置換アクリレート。


［式（１）中、ａは１〜４、ｂは０〜３、ｃは１〜４、ｅは２〜８の整数、dは０又は１、Ｒ^１はポリアルコキシアルキレン、Ｒ^２は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基等、Ｒｆはパーフルオロポリエーテル残基、Ｚは２価の有機基を表す。］ （もっと読む）