本発明は、新規なグアニジン構造を有する化合物に関し、特にシリル化グアニジン構造を有する非毒性化合物に関する。 （もっと読む）

【課題】十分な育毛効果を維持しつつ、薬効成分の使用量を少なくすることにより、副作用の恐れの少ない安価な育毛剤用添加剤及びそれを配合した育毛剤組成物を提供する。
【解決手段】一般式（ＩＩ）で表される育毛剤用添加剤およびそれを配合した育毛剤組成物など。
【化１】


（式中、Ｒ^２は炭素原子数１〜５のアルキル基またはアリール基であり、Ｒ^４は炭素原子数６〜３０のアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】低誘電率材料に適した、殊にＰＥＣＶＤ装置に適した新規な有機シロキサン化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】１，３，５−トリイソプロピル−１，３，５−トリビニルシクロトリシロキサン、または１，３，５−トリイソプロピル−１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトライソプロピル−１，３，５，７−テトラビニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタイソプロピル−１，３，５，７，９−ペンタビニルシクロペンタシロキサン等の新規な有機シロキサン化合物。 （もっと読む）

【課題】密着複層型回折光学素子の回折効率を向上させることを可能とする、低屈折率と高分散とを高水準で同時に実現した光学材料を提供する。
【解決手段】Ｒ^１１〜Ｒ^１３、Ｒ^２１〜Ｒ^２３、Ｒ^３１〜Ｒ^３３、Ｒ^４１〜Ｒ^４３、Ｒ^５１〜Ｒ^５３、Ｒ^６１〜Ｒ^６３、Ｒ^７１〜Ｒ^７３、およびＲ^８１〜Ｒ^８３のうちの少なくとも１つが下記式（２）：


（式（２）中、Ｘは炭素数１〜３のアルキル基であり、ｍおよびｎはそれぞれ独立に０〜５の整数である。）で表される基であり、残りの基のうちの少なくとも１つが（メタ）アクリロキシアルキル基であり、さらにその残りの基がそれぞれ独立に水素原子、水酸基、または炭素数１〜３のアルキル基である、ことを特徴とするかご型ポリシルセスキオキサン誘導体を含む光学材料用樹脂前駆体組成物。 （もっと読む）

【課題】分子構造の制御された籠型シロキサンに任意にアルコキシル基又はシラノール基を含有させた、アルコキシル基含有籠型シロキサン化合物又はシラノール基含有籠型シロキサン化合物を提供する。
【解決手段】一般式［Ｒ¹ＳｉＯ_3/2］_n 〔但し、Ｒ¹はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であり、nは８〜１４の整数〕で表される籠型シロキサン化合物に、一般式Ｒ¹Ｒ²Ｓｉ(ＯＲ³) ₂ 〔但し、Ｒ¹及びＲ²はビニル基、アルキル基、フェニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基又はオキシラン環を有する基であり、Ｒ³はメチル基又はエチル基である〕で表されるジアルコキシシランを非極性溶媒及び塩基性触媒の存在下で付加させて得られるアルコキシル基含有籠型シロキサン化合物であり、また、これを酸又は塩基性触媒の存在下で加水分解して得られるシラノール基含有籠型シロキサン化合物である。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、有機合成時の試薬として利用され、反応性に優れる水素化塩化ジルコノセン化合物の製造方法を提供することにある。
【解決手段】 水素化塩化ジルコノセン化合物を製造する方法であって、二塩化ジルコノセン化合物と水素化剤とを０℃以下で反応させる方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱安定性に寄与するノルボルナン骨格が加水分解性シリル基と放射線重合性官能基との連結部位に組み込まれている有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（A）ノルボルナン骨格、（B）（A）に直結した加水分解性シリル基、および（C）（A）に直接または炭素原子および／もしくはヘテロ原子を介して結合した放射線重合性官能基、を有する放射線重合性官能基含有有機ケイ素化合物；ならびに（D）ノルボルナン骨格、（E）（D）に直結した加水分解性シリル基、および（F）（D）に直結した、ヘテロ原子を含み又は含まないハロアルキル基、を有するハロアルキル基含有有機ケイ素化合物と、放射線重合性官能基を有する有機酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩からなる群より選択される少なくとも１種の放射線重合性官能基を有する塩とを50〜150℃において反応させることを含む、前記有機ケイ素化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 歯科の分野における金属材料と樹脂材料間の接着において、長期接着耐久性と接着操作の簡易性に優れた歯科用接着剤を提供する。
【解決手段】 （ａ）重合性単量体、（ｂ）カルボキシル基含有重合性単量体、（ｃ）光重合開始剤及び（ｄ）一般式（１）（Ｒ^１)_ｎＳｎ（ＸＲ^２)_ｍ〔ｎおよびｍは１、２または３の整数で、ｎ＋ｍ＝４を表す〕、一般式（２）（［Ｒ^３］_３Ｓｎ）_２Ｘまたは一般式（３）−(［Ｒ^４］_２ＳｎＸＲ^５Ｘ)_ｐ−〔ｐは平均値が２〜４の大きさの数値を表す〕〔上記式中、；Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ炭素原子数１〜１８個の直鎖状または分岐状のアルキル、アルケニルまたはアリール基、Ｒ^５は同様のアルキレンまたはアルケニレン基であり、ＸはＯまたはＳ原子を表す〕で表される特定の錫化合物、を含んでなる歯科用接着剤。 （もっと読む）

【解決手段】下記一般式（１）
［（ＲＯ）ｘ（Ｍｅ）ｙ（Ｐｈ）ｚＳｉ−］₂ （１）
（式中、Ｒは置換又は非置換の炭素数３以上のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。Ｍｅはメチル基、Ｐｈはフェニル基である。ｘ＝１〜３、ｙ＝０〜２、ｚ＝０〜２の整数で、ｘ＋ｙ＋ｚ＝３を満たす値を表す。）
で示される構造を有するアルコキシジシラン。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なアルコキシジシラン類を工業的有利に効率よく提供することができる。 （もっと読む）

【解決手段】Ｓｉ−Ｈ基を持つケイ素化合物を鉄錯体触媒の存在下、有機溶媒中で光照射又は加熱することを特徴とするＳｉ−Ｓｉ結合を有する化合物の製造方法。
【効果】本発明によれば、フォトレジスト材料、プレセラミックス材料、あるいは導電性材料用の素材などとして有用なＳｉ−Ｓｉ結合を有する化合物を工業的有利に効率よく製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物、およびその（チオ）フェノキシフェニルシラン組成物の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物を開示する。本発明の（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物の製造方法も開示し、本方法は精製工程をさらに含む。高輝度発光装置用の封入剤の調製への使用に好適な高純度（チオ）フェノキシフェニルフェニルシラン組成物もさらに開示する。 （もっと読む）

【課題】CVDプロセス条件の下でのTOMCATSタイプ・シロキサンの重合を排除又は抑制すること。
【解決手段】（a）電子材料の加工でシリコン酸化物の化学気相堆積プロセスにおいて用いられる1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンなどのシクロテトラシロキサンを重合に対して安定化させるためのものであって、そのようなシクロテトラシロキサンに有効な量の酸化防止重合抑制剤を加えることを含む方法、及び（b）シリコン酸化物の化学気相堆積プロセスにおいて前駆物質として用いられる、重合に対して安定化された、1,3,5,7-テトラメチルシクロテトラシロキサンなどのシクロテトラシロキサンと酸化防止剤とを含む組成物。 （もっと読む）

【課題】高温高湿下や低温低湿下でプリント作製しても、環境の影響を受けずに帯電が十分に行え、帯電後はスムーズな転写が行える様にして、良好な色調のカラー画像形成が行えるトナーを提供する。
【解決手段】少なくとも樹脂と着色剤とを含有してなるトナーで、フタロシアニン環が１つ存在する化合物と、フタロシアニン環が２つ以上存在する化合物とを含有する。 （もっと読む）

【課題】新規パイ共役電子系化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物。


一般式(I)中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³およびＡ⁴は、それぞれ独立に、アルキル置換ヘキサヒドロインダセン基を表し、ｎは１以上の整数を表す。ｎが２以上の場合、複数存在するＡ³、Ａ⁴は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定性を損わず共平面性の実現などの構造制御がなされたケイ素-ケイ素二重結合化合物と、その安定化方法の提供。
【解決手段】下記の構造式で表される化合物。
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工業的に適切な重合条件下で担持重合触媒中の成分として使用されるときに、インデニルリガンドの２つの利用可能な２位のいずれかにおける任意のα−分岐置換基を必要とせずに、ポリプロピレンまたはプロピレン／エチレンコポリマーなどの高モル質量ホモポリマーまたはコポリマーを提供する、特定のメタロセン化合物が提供される。一方のインデニルリガンドの２位の置換基は、水素、メチル、またはα位で分岐していない任意の他のＣ_２−Ｃ_４０炭化水素を含む任意のラジカルであってよく、他方のインデニルリガンドの２位の置換基は、任意のＣ_４−Ｃ_４０炭化水素ラジカルであってよい（ただしこの炭化水素ラジカルがβ位で分岐する）。このメタロセン形態によって、高い融点、非常に高いモル質量のホモポリプロピレンおよび非常に高いモル質量のプロピレン系コポリマーが提供される。本発明のメタロセンを含む触媒の活性／生産性レベルは並外れて高い。 （もっと読む）

【課題】有機合成化学において有用な新規化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物。


一般式(1)中、ＡおよびＢは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、リチウム原子、−ＭｇＸ（Ｘは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す）で表される１価の基またはシリル基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁸は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の飽和または不飽和の炭化水素基を表す。但し、Ｒ¹〜Ｒ⁸が同時にメチル基になることはなく、Ｒ¹〜Ｒ⁸が同時にエチル基になることもない。 （もっと読む）

本発明は、特にブロックまたは非ブロックイソシアネートまたはイソチオシアネート成分をポリオールまたはポリチオールで架橋してポリウレタン（ＰＵ）を形成するための、ルイス酸型触媒によって触媒される重付加または重縮合反応における触媒として好適である有機金属潜伏性触媒化合物を提供する。 （もっと読む）

式(R₃SiO)_nR_(3-n)Si-X-Aを有する、アスコルビン酸のエステル誘導体を含むオルガノシロキサン類について開示しており、式中、Rは1〜6個の炭素原子を含むアルキル基であり、nは1〜3であり、Xは二価の有機連結基であり、かつAはアスコルビン酸のエステル誘導体である。アスコルビン酸のエステル誘導体を含むオルガノシロキサンの調製方法及び該方法によって調製される製品についても開示している。本開示に係る化合物及び組成物は、ケラチン組織に局所的に適用したときに組織を淡色化させるのに有用である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】金属イオンＭに対して錯体形成した式（Ｉ）の配位子を含む錯体。
【化１０２】


（式中、Ｒ¹はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ_1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ⁵）₂、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ¹基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合環を形成してもよく；
Ｒ²はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ_1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ⁵）₂、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、あるいは置換されていてもよいヘテロシクリル基であり；
インデニル基の６員環に結合するＲ³は、−（Ｓｉ（Ｒ⁵）₂）_p−、ここでｐは１もしくは２、または−（Ｃ（Ｒ⁵）₂）_n−、ここでｎは２以上の整数であり；
Ｒ⁴はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ_1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ⁵）₂、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ⁴基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合炭素環を形成してもよく；
Ｒ⁵はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ_1-20ヒドロカルビル基であるか、あるいは２個のＲ⁵は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員環を形成してもよく；
ａは０〜３であり；
ｂは０〜３であり；
ｃは０〜４である。）
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