触媒
【課題】
【解決手段】金属イオンＭに対して錯体形成した式（Ｉ）の配位子を含む錯体。
【化１０２】
（式中、Ｒ1はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ1基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合環を形成してもよく；
Ｒ2はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、あるいは置換されていてもよいヘテロシクリル基であり；
インデニル基の６員環に結合するＲ3は、−（Ｓｉ（Ｒ5）2）p−、ここでｐは１もしくは２、または−（Ｃ（Ｒ5）2）n−、ここでｎは２以上の整数であり；
Ｒ4はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ4基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合炭素環を形成してもよく；
Ｒ5はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基であるか、あるいは２個のＲ5は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員環を形成してもよく；
ａは０〜３であり；
ｂは０〜３であり；
ｃは０〜４である。）
【解決手段】金属イオンＭに対して錯体形成した式（Ｉ）の配位子を含む錯体。
【化１０２】
（式中、Ｒ1はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ1基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合環を形成してもよく；
Ｒ2はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、あるいは置換されていてもよいヘテロシクリル基であり；
インデニル基の６員環に結合するＲ3は、−（Ｓｉ（Ｒ5）2）p−、ここでｐは１もしくは２、または−（Ｃ（Ｒ5）2）n−、ここでｎは２以上の整数であり；
Ｒ4はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、あるいは隣接する炭素原子上の２個のＲ4基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合炭素環を形成してもよく；
Ｒ5はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基であるか、あるいは２個のＲ5は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員環を形成してもよく；
ａは０〜３であり；
ｂは０〜３であり；
ｃは０〜４である。）
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属イオンＭに対して錯体形成した式（Ｉ）の配位子を含む錯体。
【化９６】
［式中、Ｒ1はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、または隣接する炭素原子上の２個のＲ1基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合環を形成してもよく；
Ｒ2はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、または置換されていてもよいヘテロシクリル基であり；
インデニル基の６員環に結合するＲ3は、−（Ｓｉ（Ｒ5）2）p−（ここでｐは１もしくは２）、または−（Ｃ（Ｒ5）2）n−（ここでｎは２以上の整数である）であり；
Ｒ4はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、または隣接する炭素原子上の２個のＲ4基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合炭素環を形成してもよく；
Ｒ5はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基であるか、または２個のＲ5は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員環を形成してもよく；
ａは０〜３であり；
ｂは０〜３であり；
ｃは０〜４である。］
【請求項２】
金属イオンＭに対して錯体形成した式（ＩＩ）を含む錯体。
【化９７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、ａ、ｂ、およびｃは上に定義のとおりであり、Ｒ7は−Ｃ（Ｒ5）2−であるが、ただし、Ｒ7はインデニル環の５または６位に結合する。）
【請求項３】
Ｍが４〜６族の金属のイオンである、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項４】
ＭがＺｒまたはＨｆである、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項５】
式（Ｖ）の配位子を含む、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【化９８】
（式中、Ｒ4およびｃは上に定義のとおりであり、Ｒ1'は水素またはＣ1-6アルキルであり、Ｒ2'は水素またはＣ1-6アルキルであり、Ｒ3'はＳｉＭｅ2またはＣＨ2ＣＨ2である。）
【請求項６】
Ｒ4がメチルまたはｔｅｒｔブチルであるか、２個のＲ4基が一緒になってインデニル環を形成するか、または４個のＲ4基が一緒になってフルオレニル環を形成する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項７】
１個のＲ4基がＣ1-6アルキルを表わし、他の２個のＲ4基が一緒になって置換されていてもよい６員縮合炭素環を形成する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項８】
インデニル配位子の５位に置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項９】
インデニル配位子の２位に置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１０】
インデニル配位子の５位にｔｅｒｔ−ブチル置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１１】
インデニル配位子の２位にメチル置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１２】
下記の構造を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【化９９】
【請求項１３】
下記の錯体。
【化１００】
【請求項１４】
（ｉ）式（Ｉ）または（ＩＩ）の少なくとも１種の配位子により配位された金属イオンを含む錯体、および
（ｉｉ）共触媒、
を含むオレフィン重合触媒。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の錯体を含む、担持触媒。
【請求項１６】
第１工程で担体を共触媒と接触させ、次いで第２工程で共触媒処理された担体に錯体を添加した、請求項１５に記載の担持触媒。
【請求項１７】
上に定義する触媒のオレフィン重合における使用。
【請求項１８】
少なくとも１種のオレフィンの重合方法であって、前記少なくとも１種のオレフィンを上に記載の触媒と反応させることを含む方法。
【請求項１９】
下記の式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物。
【化１０１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、ａ、ｂ、およびｃは、上に定義のとおりである。）
【請求項１】
金属イオンＭに対して錯体形成した式（Ｉ）の配位子を含む錯体。
【化９６】
［式中、Ｒ1はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、または隣接する炭素原子上の２個のＲ1基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合環を形成してもよく；
Ｒ2はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、または置換されていてもよいヘテロシクリル基であり；
インデニル基の６員環に結合するＲ3は、−（Ｓｉ（Ｒ5）2）p−（ここでｐは１もしくは２）、または−（Ｃ（Ｒ5）2）n−（ここでｎは２以上の整数である）であり；
Ｒ4はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基、Ｎ（Ｒ5）2、シリル、シロキシ、置換されていてもよいヘテロアリール基、置換されていてもよいヘテロシクリル基であるか、または隣接する炭素原子上の２個のＲ4基は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員縮合炭素環を形成してもよく；
Ｒ5はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素、置換されていてもよいＣ1-20ヒドロカルビル基であるか、または２個のＲ5は一緒になって、置換されていてもよい５〜８員環を形成してもよく；
ａは０〜３であり；
ｂは０〜３であり；
ｃは０〜４である。］
【請求項２】
金属イオンＭに対して錯体形成した式（ＩＩ）を含む錯体。
【化９７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、ａ、ｂ、およびｃは上に定義のとおりであり、Ｒ7は−Ｃ（Ｒ5）2−であるが、ただし、Ｒ7はインデニル環の５または６位に結合する。）
【請求項３】
Ｍが４〜６族の金属のイオンである、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項４】
ＭがＺｒまたはＨｆである、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項５】
式（Ｖ）の配位子を含む、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【化９８】
（式中、Ｒ4およびｃは上に定義のとおりであり、Ｒ1'は水素またはＣ1-6アルキルであり、Ｒ2'は水素またはＣ1-6アルキルであり、Ｒ3'はＳｉＭｅ2またはＣＨ2ＣＨ2である。）
【請求項６】
Ｒ4がメチルまたはｔｅｒｔブチルであるか、２個のＲ4基が一緒になってインデニル環を形成するか、または４個のＲ4基が一緒になってフルオレニル環を形成する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項７】
１個のＲ4基がＣ1-6アルキルを表わし、他の２個のＲ4基が一緒になって置換されていてもよい６員縮合炭素環を形成する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項８】
インデニル配位子の５位に置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項９】
インデニル配位子の２位に置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１０】
インデニル配位子の５位にｔｅｒｔ−ブチル置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１１】
インデニル配位子の２位にメチル置換基を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【請求項１２】
下記の構造を有する、先行する請求項のいずれかに記載の錯体。
【化９９】
【請求項１３】
下記の錯体。
【化１００】
【請求項１４】
（ｉ）式（Ｉ）または（ＩＩ）の少なくとも１種の配位子により配位された金属イオンを含む錯体、および
（ｉｉ）共触媒、
を含むオレフィン重合触媒。
【請求項１５】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載の錯体を含む、担持触媒。
【請求項１６】
第１工程で担体を共触媒と接触させ、次いで第２工程で共触媒処理された担体に錯体を添加した、請求項１５に記載の担持触媒。
【請求項１７】
上に定義する触媒のオレフィン重合における使用。
【請求項１８】
少なくとも１種のオレフィンの重合方法であって、前記少なくとも１種のオレフィンを上に記載の触媒と反応させることを含む方法。
【請求項１９】
下記の式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の化合物。
【化１０１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、ａ、ｂ、およびｃは、上に定義のとおりである。）
【公表番号】特表２０１０−５３６９０５（Ｐ２０１０−５３６９０５Ａ）
【公表日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５２２２４１（Ｐ２０１０−５２２２４１）
【出願日】平成２０年８月２７日（２００８．８．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／００７００７
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０２７０７５
【国際公開日】平成２１年３月５日（２００９．３．５）
【出願人】（５００２２４３８０）ボレアリス テクノロジー オイ (39)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２２年１２月２日（２０１０．１２．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月２７日（２００８．８．２７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００８／００７００７
【国際公開番号】ＷＯ２００９／０２７０７５
【国際公開日】平成２１年３月５日（２００９．３．５）
【出願人】（５００２２４３８０）ボレアリス テクノロジー オイ (39)
【Ｆターム（参考）】
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