【解決手段】環状構造を含む３級エステル型酸不安定基及び／又はアセタール型酸不安定基を有する繰り返し単位を含み、酸によってアルカリ現像液に可溶になる高分子化合物と、酸発生剤及び／又は酸と、アミノ基を有する化合物を発生させる光塩基発生剤と、必要により添加され、酸発生剤より発生する酸を中和することによって不活性化させるクエンチャーと、有機溶剤とを含むレジスト材料を基板上に塗布、露光、ベーク、アルカリ水現像によってネガパターンを得るパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、未露光部と過露光部がアルカリ現像液に不溶で、中間の露光量部分だけ現像液に溶解するデュアルトーンの特性を有することができる。 （もっと読む）

【課題】母粒子表面に樹脂微粒子を固着させてなる表示用粒子において、所望の組成を有する樹脂微粒子を短時間で製造する方法を提供する。
【解決手段】重合性モノマー及び架橋性モノマーを含む重合成分を重合させて樹脂微粒子を形成後、重合を停止させる樹脂微粒子作製工程を有し、得られる樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマー由来の構成単位の割合が２０ｍｏｌ％以上であり、重合成分に占める架橋性モノマーの割合をＡ₁ｍｏｌ％、目標組成の樹脂微粒子における重合成分由来の構成単位全体に対する架橋性モノマーに由来する構成単位の割合をＡ₂ｍｏｌ％とすると、樹脂微粒子作製工程で不等式（１）を満たす間に重合を停止させる樹脂微粒子の製造方法。
（Ａ₁／Ａ₂）×７４−２７≦前記重合成分の重合転化率
≦（Ａ₁／Ａ₂）×９０−２０ （１） （もっと読む）

【課題】フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される繰り返し単位、下記一般式（２）で表される繰り返し単位及び下記一般式（３）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物（Ａ）を含有する、化学増幅ポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】 ノズルからの吐出性及び活性光線照射による速硬化性に優れる高速印刷可能なインクジェット印刷インク用重合性化合物及びインク組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるインクジェット印刷インク用重合性化合物（Ａ）；並びに該重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｃ）、着色剤（Ｄ）及び必要により他の重合性化合物（Ｂ）を含有するインクジェット印刷用インク組成物。
【化１】


［式中、Ｒ¹及びＲ³はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、Ｒ²は分岐骨格を有する炭素数７〜２０の２価の脂肪族炭化水素基である。］ （もっと読む）

【課題】活性化放射線に露光される場合に、特に、改良されたリソグラフィのための放射線に露光されるフォトレジスト組成物に使用される場合に、低いガス放出特性を有する光酸発生剤化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）を有する光酸発生剤化合物：


式中、Ｇは式（ＩＩ）を有し：


式（ＩＩ）において、ＸはＳもしくはＩであり、各Ｒ^０は等しくＸに結合されており、かつ独立してＣ_１−３０アルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_３−３０シクロアルキル基；多環式もしくは単環式Ｃ_６−３０アリール基；または前述の少なくとも１種を含む組み合わせである；ａは２もしくは３である；並びに式（Ｉ）におけるＺはスルホン酸、スルホンイミドもしくはスルホンアミドのアニオンを含む。 （もっと読む）

【解決手段】カルボキシル基及び／又はフェノール性水酸基の水素原子が酸不安定基で置換されている繰り返し単位と、一般式（１）で示される基を有する繰り返し単位を含む重量平均分子量が１，０００〜５００，０００の範囲である高分子化合物をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｘ、ＹはＣＨ又は窒素原子、ｍは１又は２、Ｒ¹は水素原子、又は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｎは０又は１である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、酸の拡散を抑える効果が高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好である。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはＥＢ描画によるフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】残膜率が優れたパターンを得ることができるレジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤とを含み、樹脂がナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位を樹脂の全構造単位１００モルに対して、５０モル以上有する樹脂であるレジスト組成物。ナフタレン骨格を有する化合物に由来する構造単位は、式（Ｉ）で表される構造単位であることが好ましい。［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ハロゲン原子を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ａ^１は、単結合、−ＣＯ−Ｏ−^＊又は−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_kａ−ＣＯ−Ｏ−^＊を表し、ｋａは１〜７の整数を表し、＊はナフチル基との結合手を表す。］
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【課題】低ヒステリシスロス性能及びウェットスキッド抵抗性能に優れ、かつこれらのバランスが良好で、優れた耐摩耗性及び高い破壊強度を有する変性共役ジエン系重合体組成物を得る。
【解決手段】共役ジエン系炭化水素とビニル芳香族炭化水素とからなる共役ジエン系共重合体の末端に、アミノ基とアルコキシシリル基を有する変性基を有し、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で温度間隔を０．２℃として測定したＴｇ分布指数が、０．００７以上である変性共役ジエン系共重合体及び当該変性共役ジエン系共重合体とシリカ系無機充填剤を含有する組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】長期間の保存においても、液中パーティクルの発生が抑制され、また、優れた放射線感度、露光時の高い後退接触角等特性の経時変動が小さい、保存安定性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、塩基解離性基を有する構成単位（ｆ１）を含む含フッ素重合体（Ａ）、放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｃ）、放射線の照射により特定のｐＫａを有する化合物を発生する塩（Ｄ）を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】ブロックコポリマーの相分離を利用して、基板表面に、位置及び配向性がより自在にデザインされたナノ構造体を備える基板を製造し得る下地剤を提供。
【解決手段】基板上に形成した複数種類のポリマーが結合したブロックコポリマーを含む層を相分離させるために用いられる下地剤であって、樹脂成分を含有し、該樹脂成分全体の構成単位のうち２０モル％〜８０モル％が芳香族環含有モノマー由来の構成単位であることを特徴とする下地剤 （もっと読む）

【課題】低色分散、高光線透過率等の優れた光学特性を有し、光学レンズ・プリズム材料に求められる種々の特性バランスに優れ、湿熱条件のような厳しい実使用条件でも、屈折率の分岐を生じることがない、高度の光学特性を維持した多官能（メタ）アクリル酸エステル組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）成分と（Ｂ）成分からなる樹脂組成物であって、（Ａ）成分が脂環式構造を有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ａ）、アルコール性水酸基を有する単官能（メタ）アクリル酸エステル（ｂ）、２官能（メタ）アクリル酸エステル（ｃ）と、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン（ｄ）を含む成分を共重合して得られる重合性基を有する共重合体であり、（Ｂ）成分が不飽和二重結合を有する官能基を１つ以上有するモノマーであり、（Ａ）成分の配合量が１〜７０wt％である硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】放射線照射による微細パターン形成方法において、大型サイズの基材に微細パターンを一括で形成する簡便、且つ高スループットの微細構造体の製造方法を実現し、且つ、パターン形成後に干渉縞の発生しない均一な塗膜が得られる微細パターン形成用放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯＯ−などと、放射線硬化性官能基と、環状エーテル基などから成る単位を有する感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）と、放射線硬化性モノマー（Ｍ）と、放射線重合開始剤（Ｉ）とを有し、組成物中の放射線硬化性成分全量に対して、感放射線硬化性ポリマー（Ｐ）の割合が５５〜９５重量％、放射線硬化性モノマー（Ｍ）の割合が５〜４５重量％である。 （もっと読む）

【課題】露光波長に対して強い吸収を持ち、上層のレジスト膜とのインターミキシングを起こさず、さらに上層のレジスト膜がアルカリ現像される際に同時にアルカリ現像されるレジスト下層膜を形成するための組成物の提供。
【解決手段】下記式（１）


（式中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは直接結合又はフェニレン基を表し、Ａはナフチル基又はアントラセニル基を表す。）で表される構造単位を有するポリマー、少なくとも２つのビニルエーテル基を有する化合物、光酸発生剤及び溶剤を含むレジスト下層膜形成組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】イオン性架橋剤として金属を使用する向上した水性コーティング組成物を提供する。
【解決手段】０．５〜８重量％の亜鉛、カルシウムもしくはマグネシウムイオンのジ（メタ）アクリラート塩を有する重合混合物を形成し、亜鉛イオン、カルシウムイオンもしくはマグネシウムイオン；０．５〜７重量％のイタコン酸および４〜１５重量％の（メタ）アクリル酸の重合残基を含むポリマーを製造する。このポリマーは５０〜１１０℃のＴｇを有する。 （もっと読む）

【課題】特に電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、及びラインエッジラフネス、ドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により分解して樹脂の側鎖に酸アニオンを発生する下記一般式（Ｉ）又は（ＩＩ）で表される繰り返し単位（Ａ）、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を発生する繰り返し単位（Ｂ）、及び下記一般式（Ｘ）で表される繰り返し単位（Ｆ）を有する樹脂（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物
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【課題】 １９３ｎｍ放射波長において低屈折率を有する上面反射防止コーティングを提供する。
【解決手段】 芳香族部分及び１９３ｎｍの放射波長に対して１．５未満の屈折率値ｎを有する、塩基水溶液に可溶なポリマーの存在を特徴とする組成物は、１９３ｎｍドライ・リソグラフィ工程における上面反射防止コーティングとして特に有用であることを見出した。エチレン型主鎖を有し、フッ素及びスルホン酸部分を有するポリマーが特に有用であることを見出した。この組成物は、１９３ｎｍにおける上面反射の制御を可能にすると共に、アルカリ性水溶液現像液への溶解性により用い易いものとなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、アレルゲンが特異抗体と反応するのを効果的に抑制し、アレルギー症状の軽減或いはその発現の予防をすることができると共に、不測の変色や日常の使用条件下での変色が生じにくく且つ高い吸水能力を有するアレルゲン抑制剤を提供する。
【解決手段】 本発明のアレルゲン抑制剤は、線状高分子の側鎖に所定の構造式の置換基を有する水溶性重合体を架橋してなり且つＪＩＳ Ｋ７２０９に準拠した吸水率が４９００％以上である非水溶性化合物を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多官能アニオン重合開始剤の製造後も長期間にわたって安定であり、長期間保存されたアニオン重合可能な単量体を用いて所望の重合体を製造しても、安定した分子量の重合体を得る為の極めて有用なアニオン重合開始剤の製造方法を提供する。
【解決手段】１分子中に２個以上のエーテル結合を有する化合物の存在下、反応最高温度が少なくとも７５℃以上で、有機リチウム化合物を用いてリビングアニオン重合可能な単量体及びポリビニル芳香族系単量体を共重合する製造方法によって、長期期間の貯蔵安定に優れる多官能アニオン重合開始剤を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体を提供する。
【解決手段】ポリビニル芳香族化合物とリチウムとのモル比（ポリビニル芳香族化合物／リチウム）が０．０５〜１．０の範囲で調製された多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体の重合活性末端に、２つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基と１つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させることにより得られる、共役ジエン重合体の末端部に１つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基及び１つ以上の窒素原子を有する変性共役ジエン系重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】制御ラジカル重合で得られる重合体の耐熱分解性を向上させ、熱成形加工時の分解や劣化を抑制すること。
【解決手段】遷移金属錯体を重合触媒とし、有機ハロゲン化物を重合開始剤として用いる制御ラジカル重合で得られた末端ハロゲン及び末端二重結合を有する重合体を、アゾ化合物で処理することにより該末端ハロゲン及び該末端二重結合を低減する、重合体の製造方法。アゾ化合物は、２，２’−アゾビスイゾブチロニトリルであることが好ましい。 （もっと読む）