【課題】重合後に任意のターゲット物質を取り込むことができるようにポストインプリントが可能なヒドロゲル材料の製造方法、および該製造方法から得られるヒドロゲル材料、さらに該ヒドロゲル材料からなる医療用具、医薬品、化粧品を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）ターゲット有機物と物理的架橋構造を形成できる特定官能基を有するモノマー、ジスルフィド基含有架橋剤、およびその他の架橋剤を含む混合液を重合して重合体を得る工程、
（ｂ）該重合体中のジスルフィド結合を還元により切断する工程、
（ｃ）前記ジスルフィド結合を切断した重合体にターゲット有機物を取り込む工程、
（ｄ）ターゲット有機物を取り込んだ重合体を酸化してジスルフィド結合を再結合させる工程、および
（ｅ）該重合体からターゲット有機物を除去する工程
を含むヒドロゲル材料の製造方法。 （もっと読む）

ガス放出の低減のために反射防止膜中で有用な新規の自己架橋性ポリマーが提供される。 （もっと読む）

【課題】 １９３ｎｍ放射波長において低屈折率を有する上面反射防止コーティングを提供する。
【解決手段】 芳香族部分及び１９３ｎｍの放射波長に対して１．５未満の屈折率値ｎを有する、塩基水溶液に可溶なポリマーの存在を特徴とする組成物は、１９３ｎｍドライ・リソグラフィ工程における上面反射防止コーティングとして特に有用であることを見出した。エチレン型主鎖を有し、フッ素及びスルホン酸部分を有するポリマーが特に有用であることを見出した。この組成物は、１９３ｎｍにおける上面反射の制御を可能にすると共に、アルカリ性水溶液現像液への溶解性により用い易いものとなる。 （もっと読む）

従来相反する物性である通液性と液吸い上げ特性とを両立させ、且つ液吸い上げ特性の低下が少ない吸水剤組成物を実現する。本発明の吸水剤組成物は、酸基含有不飽和単量体を重合して得られる架橋構造を有するポリカルボン酸系吸水剤を主成分とし、水不溶性の有機若しくは無機微粒子を含有する吸水剤組成物であって、（ａ）液拡散速度（ＬＤＶ）低下率が３０％以下、（ｂ）食塩水流れ誘導性（ＳＦＣ）が６０（単位：１０^−７ｃｍ^３・ｓ／ｇ）以上、（ｃ）質量平均粒子径（Ｄ５０）が２００〜４２０μｍ、（ｄ）粒度分布の対数標準偏差（σζ）が０．２５〜０．４０、（ｅ）粒子径１５０μｍ未満の粒子の割合が全体の３質量％以下、の条件を満たす。 （もっと読む）

【課題】高純度の（メタ）アクリル酸系水溶性重合体を工業的に容易に製造する方法を提供する。
【解決手段】（メタ）アクリル酸系水溶性単量体を水溶液重合して（メタ）アクリル酸系重合体を製造するに際し、重合後の反応液中の重合体の単量体換算濃度が３８〜７２重量％となるのに必要な（メタ）アクリル酸系水溶性単量体、重合開始剤及び次亜リン酸（塩）を水性媒体中に逐次導入して重合した後、中和する。このとき、上記（メタ）アクリル酸系水溶性単量体に加えて、全単量体に対して３０モル％未満である、不飽和スルホン酸系単量体を除く、（メタ）アクリル酸系水溶性単量体以外の他の単量体を用いる。 （もっと読む）

【課題】 カラーフィルター製造において着色画像形成用の感光液に用いられ、加熱工程による色度の変化、透過率の低下の抑制された高耐熱性着色組成物を提供する。
【解決手段】 色素及び樹脂を含有する着色組成物において、樹脂がジシクロ環又はトリシクロ環を有するモノマ、水酸基を有するモノマ及びＮ−置換マレイミド基を有するモノマを含有するモノマ成分を重合して得られる重合体（Ａ）に、下記一般式（１）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート（Ｂ）を付加させて合成された樹脂である着色組成物。
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₁）−ＣＯＯ―Ｘ−ＮＣＯ （１）
［式中、Ｒ₁は水素原子又はメチル基を示し、Ｘは炭素数２〜６個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、又は−Ｒ₂−ＯＣＯＮＨ−Ｒ₃−（Ｒ₂は炭素数２〜６個の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基を表し、Ｒ₃はＣＯＮ−Ｒ₃−ＮＣＯで表されるジイソシアネート化合物中の２価のＲ₃基を表す。）である。］ （もっと読む）

【課題】 カラーフィルター製造において、色素としてピグメントレッド２５４を用いる着色画像形成用の感光液に用いられる着色組成物であって、加熱工程による異物の発生を抑制し欠陥をなくした高耐熱性着色組成物を提供する。
【解決手段】 ピグメントレッド２５４を含有する色素及び樹脂を含有する着色組成物において、樹脂がジシクロ環又はトリシクロ環を有するモノマ、水酸基を有するモノマ及びＮ−置換マレイミド基を有するモノマを含有するモノマ成分を重合して得られる重合体（Ａ）に、下記一般式（１）で表されるエチレン性不飽和基含有イソシアネート（Ｂ）を付加させて合成された樹脂である着色組成物。
ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ₁）−ＣＯＯ―Ｘ−ＮＣＯ （１）
［式中、Ｒ₁は水素原子又はメチル基を示し、Ｘはアルキレン基、又は−Ｒ₂−ＯＣＯＮＨ−Ｒ₃−（Ｒ₂はアルキレン基を表し、Ｒ₃はジイソシアネート化合物中の２価の残基。）である。］ （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物に於いて、パターン倒れ、スカム、ＥＬ及びプロファイルについて、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び（Ｃ）溶剤を含有するポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型レジスト組成物に用いられる化合物。 （もっと読む）

【課題】再分散性が良好であるとともに、配合安定性に優れた繊維集束剤を調製し、かつ、高強度の繊維強化樹脂を製造し得る繊維集束剤用共重合体を提供する。
【解決手段】その構造中に、カルボキシル基と、スルホン酸基及び／又は硫酸基とを有し、カルボキシル基の含有割合が０．５〜１３ｍｍｏｌ／ｇ、スルホン酸基及び硫酸基の含有割合が０．００２〜１ｍｍｏｌ／ｇである繊維集束剤用共重合体。 （もっと読む）

【課題】 ２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 フッ素原子含む基をその側鎖に有する繰返し単位を含み、水との接触角が９０°以上となる膜を形成することができ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であることを特徴とする液浸上層膜用重合体であって、この重合体は、液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための液浸上層膜形成組成物の樹脂成分として利用できる。 （もっと読む）

【課題】透明性と耐湿熱性とを有するコポリマーを提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるモノマー（Ａ）由来の繰り返し単位、１，４−ジオキセン類（Ｂ）由来の繰り返し単位、及び末端にカルボキシル基、ヒドロキシル基およびエポキシ基からなる群から選択される少なくとも１つの基を有するビニルモノマー（Ｃ）由来の繰り返し単位を含む非晶質コポリマー。一般式（１）


（Ｒ¹及びＲ²は各々独立に、水素原子（¹Ｈ）または重水素原子（²Ｈ）を表す。Ｒ³は、水素原子（¹Ｈ）、重水素原子（²Ｈ）、アリール基またはアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】 高温、高湿の条件下においても、光学積層体とガラス基板との接着性に優れ、粘着剤層とガラス基板との間に発泡や剥離が生じないうえに、光学フィルムの収縮により生じる白抜け現象を抑制することができ、耐久性に優れた液晶表示板を得るための光学積層体用活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、及び粘着層付き光学積層体を提供すること。
【解決手段】 エチレン性不飽和基含有アクリル系樹脂（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）およびシラン系化合物（Ｃ）を含有してなる光学積層体用活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物。 （もっと読む）

アルフェンタニルと選択的に結合することができるポリマーは、１以上の好適なモノマー（例えば、エチレングリコールメタクリレートホスフェート）と、架橋剤とから調製される。ポリマーは、分子インプリントポリマーでもよい。ポリマーの要素（７）は、基板（２）上の閉じ込め構造（３）内に配置された、アルフェンタニルセンサー（１）に使用することができる。
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プロポフォールを選択的に結合することができるポリマーは、１以上の好適なモノマー（例えば、N,N-ジエチルアミノエチルメタクリレート）及び架橋剤から調製される。ポリマーの要素（７）は、基板（２）上の閉じ込め構造（３）内に配置されたプロポフォールセンサー（１）において使用することができる。
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【課題】 耐熱性、耐侯性、耐油性（特に、耐ブレーキフルード性、耐クーラント性）、圧縮永久歪等に優れた現場成形ガスケットを提供することができる、硬化性に優れた硬化型現場成形ガスケット用組成物、及び該組成物を用いて製造した現場成形ガスケットの提供。
【解決手段】 下記（Ａ）成分、（Ｂ）成分を必須成分として含有し、その硬化物が、ＪＩＳ Ｋ ２２３３に規定される自動車用非鉱物系ブレーキ液に対するＪＩＳ Ｋ ６２５８の浸漬試験、又は、ＪＩＳ Ｋ ２２３４に規定される不凍液に対するＪＩＳ Ｋ ６２５８の浸漬試験で、浸漬した前後での質量、体積変化率が５０％以下である、耐ブレーキフルード性又は耐クーラント性に優れる組成物。
（Ａ）一般式（１）：
−ＯＣ（Ｏ）Ｃ（Ｒ^ａ）＝ＣＨ_２ （１）
（式中、Ｒ^ａは水素原子又は炭素数１〜２０の有機基を表わす）
で表わされる基を１分子あたり２個以上有し、かつ、そのうち分子末端に前記一般式（１）で表わされる基を１個以上有するビニル系重合体、
（Ｂ）開始剤。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた造膜性と耐汚染性、更には、クリヤー性と耐水性を兼ね備えたエマルションが安定して製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、エチレン性不飽和モノマーを２段階重合して得られるエマルションの製造において、１段目および２段目に使用するエチレン性不飽和モノマーの種類及び含有量を特定し、かつ、１段目および２段目に使用するエチレン性不飽和モノマーの重合体のガラス転移温度を特定することを特徴とする。 （もっと読む）

長期間色安定性を有する色安定高吸水性ポリマー、および該ポリマーの製造方法を開示する。色安定高吸水性ポリマーは、実質的に過硫酸塩の不存在下に製造され、かつ低い線量の紫外線に曝露される。得られる高吸水性ポリマーは、高められた温度および湿度においても、延長された貯蔵の期間中の色の劣化に抵抗性である。 （もっと読む）

【課題】 フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、液浸露光時の媒体に溶出することなく安定な被膜を維持し、液浸媒体に対する接触角が７０°以上と大きく、さらに液浸露光でないドライ露光を行なった場合からのパターン形状劣化がなく、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。
【解決手段】 液浸露光されるフォトレジスト膜に被覆される上層膜を形成するための共重合体であって、該共重合体はカルボキシル基を有する繰返し単位を、全繰返し単位の２０〜６０モル％含み、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法により測定される重量平均分子量が２，０００〜１００，０００であり、また、フッ素原子を含む基をその側鎖に有する（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られ、さらに、水酸基含有（メタ）アクリル酸アルキルエステルを共重合して得られる。 （もっと読む）

【課題】特殊な重合設備を使用せず、安価に含フッ素（メタ）アクリル酸エステル系重合体を製造する方法を提供する。
【解決手段】カルボキシル基および／またはカルボン酸無水物基を含有する（メタ）アクリル系重合体とフッ素原子含有アルコールを反応させることにより、含フッ素（メタ）アクリル酸エステル系重合体を安価に製造できる。
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【課題】水に溶解されずにイマージョンリソグラフィに使用され、フォトレジストパターン形成におけるフォトレジスト膜内の光の多重干渉を防止し、フォトレジスト膜の厚さ変動によるフォトレジストパターン寸法幅の変動を抑制できる上部反射防止膜を提供する。
【解決手段】特定の範囲の重量平均分子量を有する重合体を上部反射防止膜に使用する。
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