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Fターム[4J100FA19]の内容

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Fターム[4J100FA19]に分類される特許

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【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
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【課題】レジストパターン製造時のフォーカスマージン(DOF)が良好なレジスト組成物に好適な塩及びレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】 式(I)で表される塩。


[式(I)中、
及びQは、互いに独立に、フッ素原子等を表す。
は、単結合又は炭素数1〜17の2価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
は、酸素原子又は硫黄原子を表す。
は、ヒドロキシ基又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
lは、0〜3の整数を表す。mは、0〜3の整数を表す。nは、1〜3の整数を表す。
は、有機カチオンを表す。]、及び、当該塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含むレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】回路基板のような感応性基材を保護するためのバリヤコーティングとして、及び潤滑剤の移行を防ぐための抗移行コーティングとして有用な樹脂組成物、併せて組成物の硬化物としての膜を提供する。
【解決手段】フルオロアルキル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸コポリマーを含むコーティング組成物が開示されており、ここでは前記コポリマーは5重量%以下の(メタ)アクリル酸を含み、そして前記フルオロアルキル基は6以下の炭素原子を有する。 (もっと読む)


【課題】ポリビニルアルコール(PVA)系重合体粒子の熱劣化を抑えつつ、PVA系重合体粒子中のメタノールを従来の方法よりも多く除去すること。
【解決手段】メタノールを含有する溶媒中でビニルエステル系モノマーを少なくとも含むモノマーを重合した後、ケン化してPVA系重合体の粒子を調製する工程と、前記粒子を炭素数2〜3のアルコールを主体とする洗浄液で洗浄する工程とを含む、ポリビニルアルコール系重合体粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ガラス基板に対する密着性や弾性回復力に優れた柱状スペーサーの提供を前提として、このような柱状スペーサーを得ることのできるフォトスペーサー用硬化性樹脂組成物の提供を課題としている。
【解決手段】液晶セルの柱状スペーサーの製造のために用いられるフォトスペーサー用硬化性樹脂組成物であって、感光性ポリマーと、多官能モノマーと、光重合開始剤とを含有し、該感光性ポリマーが、ラジカル重合性不飽和二重結合を有し、且つ、主鎖に環構造を導入し得るモノマーと、酸基を導入し得るモノマーと、側鎖に炭素数13以上の長鎖アルキル基を含有するモノマーとを必須モノマーとして含むモノマー成分から合成される酸基含有ポリマーであることを特徴としている。 (もっと読む)


【課題】重合体に含まれる残存単量体を効率良く低減できる、電子材料用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下に、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合反応溶液を得る工程と、得られた重合反応溶液を減圧濃縮して、未反応の単量体を除去する工程を有する、電子材料用重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 変形応答特性の低下を招くことなく、電解質イオンの染み出しを抑制したアクチュエータを提供する。
【解決手段】 対向し合う一対の電極層と該一対の電極層の間に配置される電解質を有する中間層を有し、前記電極層への電圧印加により、変位するアクチュエータにおいて、前記一対の電極層の外層にイオン染み出し抑制層が形成されており、かつ前記アクチュエータの電圧印加時における正極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリアニオンで構成され、また前記アクチュエータの電圧印加時における負極側の電極層の外層に備えられるイオン染み出し抑制層は、少なくともポリカチオンで構成されるアクチュエータ。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィー特性及びパターン形状に優れたレジスト組成物、該レジスト組成物用として有用な新規重合体、及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】主鎖の少なくとも一方の末端に露光により酸を発生するアニオン部位を有し、かつ、−OH、−COOH、−CN、−SONH及び−CONHからなる群より選択される少なくとも一種の基を含む構成単位(a3)を有する重合体;該重合体を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】加工性が良好な共役ジエン系重合体、及びヒステリシスロスの低減化が図られた前記当該共役ジエン系重合体を用いた組成物を得ることが可能なアニオン重合開始剤を得る。
【解決手段】炭化水素溶媒中で、アニオン重合可能な単量体とポリビニル芳香族化合物とを含有する単量体の混合物を、アミドリチウム化合物の存在下、下記の条件(A)及び(B)に従い、反応させることにより得られるアニオン重合開始剤であって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が500〜20, 000であって、分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜3.0であるアニオン重合開始剤。
(A)ポリビニル芳香族化合物/アミドリチウム化合物のモル比が0.01以上0.4未満の範囲。
(B)全単量体中のポリビニル芳香族化合物の含有量が0.5〜30質量%。 (もっと読む)


【課題】低燃費性、ウェットグリップ性能をバランス良く向上できるゴム組成物、及び該ゴム組成物をタイヤの各部材(特に、トレッド)に用いた空気入りタイヤを提供する。
【解決手段】1,3−ブタジエン、スチレン及び下記式(I)で表される化合物を共重合して得られ、一方の末端にアミノ基を有し、他方の末端に窒素、酸素及びケイ素からなる群より選択される少なくとも1種の原子を含む官能基を有する重量平均分子量が1.0×10〜2.5×10である共重合体を含むゴム成分と、シリカと、メルカプト基を有するシランカップリング剤とを含むゴム組成物に関する。
[化1]


(式中、Rは、炭素数が1〜10の炭化水素基を表す。) (もっと読む)


【課題】高温、高湿度環境下においても、導電性の劣化が少なく、かつ膜剥がれが抑えられた透明導電膜、及び透明導電膜を用いた、発光寿命に優れ、高温保存時の輝度低下が抑えられた有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】基材3上にパターン状に形成された金属材料からなる第1導電層1と、導電性ポリマーとヒドロキシ基を有する構造単位を含むバインダー樹脂を含有する第2導電層を2有し、該バインダー樹脂のヒドロキシ基をエステル化処理した事を特徴とする透明導電膜。 (もっと読む)


【課題】より高い帯電防止効果と、安定した粘着力を有する粘着剤層を形成できるブロック共重合体を提供する。
【解決手段】分子内に、式(1)


(式中、XとYはイオン対を形成し得る対カチオンと対アニオンの組み合わせを、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を、Dは連結基を表す。)で示される繰り返し単位からなるブロックAと、(メタ)アクリル酸エステル化合物由来の繰り返し単位からなるブロックBとを有するブロック共重合体;その製造方法;該ブロック共重合体を含有する粘着組成物;及び該組成物から得られる粘着剤層を有する粘着シート。 (もっと読む)


【課題】触媒由来の金属成分が重合体へ混入することを簡便かつ効率的に低減できるオレフィン重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】メタロセン触媒存在下、1種以上の炭素数6〜20のα−オレフィンを重合してオレフィン重合体を製造し、前記触媒の失活前又は失活と同時に、溶媒で重合反応液を希釈することにより、失活時の重合反応液の液粘度を10mPa・s以下に低下させ、触媒の失活脱灰を促進するオレフィン重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】長期間、光や熱に曝されても、ほとんど変色しない環状オレフィン系樹脂を提供する。
【解決手段】環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位と、非環式オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位と、を含む環状オレフィン系樹脂であって、ガラス転移温度が120℃以上であり、上記環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位の割合が、40mol%以上60mol%以下であり、上記非環式オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位の割合が、40mol%以上60mol%以下であり、上記環状オレフィン系モノマーに由来する繰り返し単位の二量体において、メソ型二連鎖部位とラセモ型二連鎖部位との比(メソ型二連鎖部位/ラセモ型二連鎖部位)が1.0以下である。 (もっと読む)


【課題】スターポリマーを合成可能な新規な重合開始剤およびその製造方法、並びにこの重合開始剤によって得られる新規なスターポリマーおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】重合開始剤は、原子移動ラジカル重合法における開始剤であり、下記一般式(1)で表される化合物よりなる。


〔式中、R1は、ハロゲン原子含有基、kは2または3、pは2〜15の整数である。〕 (もっと読む)


【課題】低温硬化が可能で、アルカリ水溶液現像が可能であり、十分に高い感度及び解像度で、密着性及び耐熱衝撃性に優れるレジストパターンを形成することができるポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、係る方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び半導体装置を備える電子デバイスの提供。
【解決手段】フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、光により酸を生成する化合物と、熱架橋剤と、炭素数4〜20のアルキル(メタ)アクリレート単位、(メタ)アクリル酸単位及び側鎖に1級、2級、3級アミノ基を有する(メタ)アクリレート単位を有するアクリル樹脂と、を含有するポジ型感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 鉄をベースにした触媒組成物及びシンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの製造方法。
【解決手段】 1,3−ブタジエンをシンジオタクチック1,2−ポリブタジエンに重合させるために、(a)鉄含有化合物、(b)有機マグネシウム化合物及び(c)亜リン酸ジヒドロカルビルエステルからなる触媒組成物が開示される。この開示の触媒組成物を使用することにより、二硫化炭素及びハロゲン化炭化水素等の環境に有害な成分の使用が回避される。シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンの融解温度は、触媒成分と組成比を変えることにより約100から約190℃迄変えることができる。単一の触媒組成物により融解温度を変えることができるのは、極めて望ましい。シンジオタクチック1,2−ポリブタジエンは、通常の架橋剤を用いて通常のゴムと架橋することができる、ゴム組成物用のプラスチックまたは添加物として使用することができる。 (もっと読む)


【課題】フォーカスマージン(DOF)が満足できるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】以下の(A)及び(B)を含有するレジスト組成物。(A)式(a)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂


[式(a)中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。Aは、式(a−g1):−(A10−X10−A11−(式(a−g1)中、sは0〜2の整数を表す。A10及びA11は、それぞれ独立に、炭素数1〜5の脂肪族炭化水素基等を表す。X10は、酸素原子、カルボニル基、カルボニルオキシ基又はオキシカルボニル基等を表す。)で表される基を表す。Rは、置換基を有していてもよい炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基等を表す。](B)酸発生剤 (もっと読む)


【課題】EUV用途のために、改良された(すなわち、低減された)ライン幅ラフネスを有するフォトレジストポリマーを提供する。
【解決手段】ポリマーは、酸脱保護性モノマー、塩基可溶性モノマー、ラクトン含有モノマーおよび光酸生成モノマーを含むモノマー;下記式の連鎖移動剤;並びに場合によって開始剤の重合生成物を含む:


式中、Zはy価のC1−20有機基であり、xは0または1であり、Rは置換もしくは非置換のC1−20アルキル、C3−20シクロアルキル、C6−20アリール、またはC7−20アラルキルである。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、通常露光(ドライ露光)によるパターニングにおいて、100nm以下の微細パターンの形成においても、プロファイル形状、パターン倒れ、露光ラチチュード性能に優れ、液浸露光によるパターニングにも優れたポジ型レジスト組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、(C)エステル結合が窒素原子に結合した構造を有するアミン化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


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