（ｉ）白金族金属含有触媒存在下に、１分子につき少なくとも１つのシリコン結合水素原子を含有する少なくとも１つの有機水素シリコン化合物と、少なくとも１つの脂肪族不飽和部分を持つ少なくとも１つの化合物とを混合することにより得られる反応生成物；
（ｉｉ）少なくとも１つの末端封鎖剤；ならびに任意に
（ｉｉｉ）加水分解物もしくはシクロシロキサンから選ばれる、少なくとも１つの有機シロキサン
を含む混合物を、触媒存在下に加熱して、成分（ｉ）、（ｉｉ）、および任意に（ｉｉｉ）の重合を起こさせ、分岐ポリマーを形成させることを含む方法。 （もっと読む）

【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂と、（ｂ）成分：光酸発生剤又は光塩基発生剤と、（ｃ）成分：（ａ）成分を溶解可能であり、非プロトン性溶媒を含む溶媒と、有機酸及び／又は無機酸とを含有してなる放射線硬化性組成物であり、非プロトン性溶媒がエーテルアセテート系溶媒又はエーテル系溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【課題】
光学デバイス・光学部品用材料、電子デバイス・電子部品用絶縁材料、コーティング材料等に有用な硬化性シリコーン樹脂組成物であって、耐熱性、耐光性および耐クラック性に優れた硬化物を与える組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）(a)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に３個以上有するシロキサン系化合物と、(b)付加反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素との付加反応生成物であって、かつケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に２個以上有するシロキサン−多環式炭化水素系化合物、
（Ｂ）１分子中にアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を合計２個以上有する有機化合物、
（Ｃ）ヒドロシリル化反応触媒、ならびに
（Ｄ）ヒンダードアミン化合物、
を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】濾過性の改善されたオルガノポリシラン（Ｐ）およびその製法の提供。
【解決手段】一般式ＲＳｉＸ_３（１ａ）、ＳｉＸ_４（２ａ）のシランからから選択されるシラン、一般式Ｒ_２ＳｉＸ_２（３ａ）のシランおよび場合により一般式Ｒ_３ＳｉＸ（４ａ）のシランをアルカリ金属およびアルカリ土類金属から選択される金属元素と反応させ、反応成分の添加を一般式３ａのシランが金属元素と反応する際に、一般式１ａおよび一般式２ａのシランから選択されるシランを最高でも２モル％含有するように調節することを特徴とする、一般式ＲＳｉ（１）および＝Ｓｉ＝（２）の単位から選択される少なくとも１種の単位、一般式Ｒ_２Ｓｉ＝（３）の単位少なくとも１種、および場合により一般式４Ｒ_３Ｓｉ−（４）の単位を含有する、架橋したまたは分枝したオルガノポリシラン（Ｐ）の製法。 （もっと読む）

高粘度オルガノポリシロキサンのエマルションの製造方法において、一般式（Ｉ）［式中、Ａは、塩基性窒素を有する一価のＳｉ−Ｃ結合した基を表し、Ｒは、基あたり１〜１８個の炭素原子を有する置換されていてもよい一価の炭化水素基を表し、Ｒ¹は、水素原子を表すか、または１〜８個の炭素原子を有するアルキル基を表し、ａは、０または１であり、ｃは、０、１、２または３であり、かつｄは、０または１であり、ただしその際、ａ＋ｃ＋ｄの合計は、３以下であり、かつ分子あたり、平均して少なくとも１つの基ＡおよびＲ¹が水素を表す少なくとも１つの基Ｒ¹が含まれている］の単位からなるシロキサン（１）、一般式（ＩＩ）［式中、Ｒ、Ｒ¹、ｃおよびｄは、上記でこれらに関して記載したものを表すが、ただしその際、ｃ＋ｄの合計は３以下であり、かつ分子あたり、Ｒ¹が水素を表す少なくとも１つの基Ｒ¹が含まれている］の単位からなるシロキサン（２）およびシロキサン（１）および（２）からなる混合物の群から選択されるシロキサンと、一般式（ＩＩＩ）［式中、Ｂは、式−ＣＲ²₂−Ｙの一価の基を表し、Ｒ²は、水素原子を表すか、または１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｙは、ハロゲン、モノ置換された原子ＯおよびＳおよび置換された原子ＮおよびＰの群からの一官能価の基を表し、Ｒ³は、基あたり１〜８個の炭素原子を有するアルキル基を表し、かつｅは、０、１または２である］のシラン（３）とを、分散媒（４）および場合により乳化剤（５）の存在下に反応させることを特徴とする、高粘度オルガノポリシロキサンの製造方法。
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【課題】一方を他方の上に連続的に塗布する2種の組成物を含む化粧用製品、具体的にはメークアップ製品を提供する。
【解決手段】本発明は、第1および第2の組成物を含む化粧用製品であって、第1の組成物が特定のシリコーンポリマーを含みかつ、第2の組成物が化粧品として許容できる媒体を含む化粧用製品に関する。本発明はまた、前記製品を含むメークアップ方法およびメークアップキットにも関する。この製品は、具体的にはリップスティック、マスカラまたはネイルエナメルである。 （もっと読む）

【課題】 低誘電率でかつクラック耐性、耐熱性、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）耐性に優れる、特に２．４以下の低い比誘電率を有する高信頼性の絶縁膜などの絶縁材料を形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物などの特定のケイ素含有化合物、その加水分解物、または縮合物を含有することを特徴とする絶縁膜形成用組成物及びそれを用いて形成される絶縁膜などの絶縁材料。
Ａ_nＳｉＸ_(4-n) （１）
式中、ｎは１〜３の自然数を表す。Ａは、置換基を有していても良い、炭素原子１１個以上で形成されるカゴ型構造を含有する基であり、Ｘは加水分解性基を表す。 （もっと読む）

【課題】総合的な画像品質を改良することによって、定着器部材の寿命を延ばすような、定着器離型剤を提供する。
【解決手段】基材１と、外側ポリマー層３と、前記外側ポリマー層の上の離型剤物質コーティングと、を含み、前記離型剤物質コーティングは、アミノ−官能基を有するＴ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質を含み、前記Ｔ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質は、次の化学式で表される。
【化１】


化学式中、Ｒ_３は、好ましくは、ジオルガノシロキサン基以外のものである。Ｔ−タイプのアミノ−官能性シロキサン離型剤物質は、アミノプロピルメチルシロキシ基、またはＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルシロキシ基によって与えられるアミノ官能性を有してもよい。また、Ｔ−タイプのアミノ官能性シロキサン離型剤物質は、トリアルキルシロキシ末端基を含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】低粘度、低応力性、密着性に優れた硬化物を与え、半導体封止材、アンダーフィル材等の電気・電子デバイス材料に適するエポキシ化合物及び熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物と、一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、加水分解縮合させることにより得られるエポキシ化合物。
ＸＳｉ（ＯＲ^１）_３ （１）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）
Ｘ_ａＲ^２_２−ａＳｉ（ＯＲ^３）_２（２）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^２はＣ１〜Ｃ１０のアルキル基等を、また、ａは０または１の整数を表す。）
本発明の熱硬化性樹脂組成物は上記エポキシ化合物と硬化剤を含有する。 （もっと読む）

【課題】
ArF露光のような短波長露光での透過性がよく、さらに、微細加工に使用される中間層材料として好適な新規シリコーン共重合体を提供する。
【解決手段】
下記一般式
【化１】


（式中、Ａは脂肪族炭化水素基を示し。ｎは１〜５の整数を示す）
で示される水酸基を有する繰り返し単位と下記一般式
【化２】


（式中、Ｒは脂肪族炭化水素基を示す）
で示される繰り返し単位を含むシリコーン共重合体を提供する。 （もっと読む）

個別被覆ナノ構造の製造用リガンド組成物と、被覆ナノ構造自体及び前記ナノ構造を含むデバイスを提供する。ナノ構造上の堆積後シェル形成方法及びナノ構造の可逆的変性方法も提供する。本発明のリガンド及び被覆ナノ構造は細密充填ナノ構造組成物に特に有用であり、量子閉じ込めの改善及び／又はナノ構造間のクロストーク低減を図ることができる。 （もっと読む）

本発明のポリマーの製造方法は、１種以上の（Ａ）ポリカルボシランの存在下、（Ｂ）加水分解性基含有シランモノマーを加水分解縮合することを含み、前記（Ａ）ポリカルボシランのうち少なくとも１種が、以下のポリカルボシラン（Ｉ）である。
（Ｉ）下記一般式（１）で表される化合物をアルカリ金属およびアルカリ土類金属の少なくとも一方の存在下に反応させて得られる、重量平均分子量５００以上のポリカルボシラン（Ｉ）：
Ｒ^１_ｍＹ_３−ｍＳｉＣＲ^２_ｎＸ_３−ｎ ・・・・・（１）
（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は同一または異なり、それぞれ１価の有機基または水素原子を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｙはハロゲン原子またはアルコキシ基を示し、ｋは０〜３の整数を示し、ｍおよびｎは同一または異なり、０〜２の整数を示す。） （もっと読む）

本発明は、エポキシ基およびシラン基を有するオリゴマーおよびポリマーの加水分解物および／または縮合物であって、少なくとも１つのエポキシ基（ａ１）と少なくとも１つの加水分解可能なシラン基（ａ２）を有する少なくとも１種のオリゴマーおよび／またはポリマー（Ａ）を加水分解および／または縮合させることによって得られる加水分解物および縮合物に関する。また本発明は、側方および／または末端のエポキシ基（ａ１）と側方および／または末端の一般式（ＩＩ）：ＳｉＲ_ｍＲ^１_ｎ（式中、添え字および変数は明細書で定義された通りである）の加水分解可能なシラン基（ａ２）を有する（メタ）アクリラートコポリマー（Ａ）に関する。基（ａ１）：（ａ２）のモル比は１．５：１〜１：１５、有利には１．３：１〜１：１３、特に１．１：１〜１．１：１である。また本発明は前記の物質の製造方法およびその使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、ＶＣＭＸのようなエチレン性不飽和のエポキシドとＭＤＤ’Ｍ（ここに、Ｍ＝Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｄ＝Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｄ’＝ＲＨ＝ＳｉＯ_2/2であり、Ｒ＝アルキルである。）型の水素化ＰＯＳとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化ＰＯＳの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化ＰＯＳシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも１種の無機非求核性塩基（ＮａＨＣＯ₃）及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。 （もっと読む）

Ｎ−カルバゾリルアルキル基及び加水分解性基を含有するカルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサン、カルバゾリル官能性直鎖ポリシロキサンを含有するシリコーン組成物、該シリコーン組成物を硬化させることによって調製される硬化カルバゾリル官能性ポリシロキサン、並びにカルバゾリル官能性ポリシロキサンを含有する有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）。 （もっと読む）

本発明は半導体または電気回路での低いｋ誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式［（Ｒ_ａＸ_ｂＳｉＯ_１．５）_ｍ（Ｒ_ｃＹ_ｄＳｉＯ）_ｎ］（式中、ａ、ｂは０〜１であり、ｃ、ｄは１であり、ｍ＋ｎは３以上であり、ａ＋ｂは１であり、ｎ、ｍは１以上であり、Ｒは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Ｘはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプＸの少なくとも１つの前記基を有するタイプＲの置換基であり、Ｙはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプＯ−ＳｉＺ_１Ｚ_２Ｚ_３の置換基であり、Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３はフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプＲの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプＲの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプＸおよびＹの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプＹの置換基として少なくとも１個のヒドロキシル基を有する）の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いｋ誘電性フィルムに関する。 （もっと読む）