【課題】連続的な塔を含む製造の利点を３次元の架橋されたアルコキシに乏しいオルガノポリシロキサン（シリコーン樹脂）のためにも可能にする塔処理を提供する。
【解決手段】反応ユニットに恒常的にハロゲンシラン、アルコール及び水を、反応ユニット内に常に、添加されたハロゲンシランのＳｉ−ハロゲン単位により消費され得るのよりも多い水が含まれているような量で添加することを特徴とする、オルガノポリシロキサンの製造法。 （もっと読む）

【課題】 良好な親水性を有し、水にさらされた場合の水接触角の増加が少なく、長期間の耐汚染性を有する塗膜を得ることができるシリケート組成物及びこれを含む水性塗料を提供する。
【解決手段】 アルキルシリケートを下記式（１）；
Ｒ−Ｘ−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_３−Ｈ （１）
（式中、Ｒは、炭素数４〜１８の炭化水素基を表す。Ｘは、−Ｏ−又は−ＣＯＯ−を表す。）で表される化合物で変性して得られるシリケート組成物。 （もっと読む）

【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式（１）又は（２）の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化１】


［Ｒ¹はアルキル基又はアリール基、Ｒ²はアルキル基、Ｒ³¹は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、Ｒ³²〜Ｒ³⁴は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、Ｒ³⁵はエステル結合含有二価有機基、Ｒ³⁶は二価炭化水素基、ａは０〜２、Ｚは式（３）
【化２】


の基、Ｒは水素原子又は一価炭化水素基、Ｒ²はアルキル基、０＜ｍ≦１、０≦ｎ≦２、０≦ｐ＜３、０≦ｑ≦３、０＜ｍ＋ｎ＋ｐ＋ｑ＜４］ （もっと読む）

【課題】放射線によって硬化し、耐擦傷性、耐摩耗性に優れ、低屈折率で反射防止フィルムに使用した場合、反射率の低い感光性樹脂組成物、更にはその硬化皮膜を有するフィルムを提供する。
【解決手段】下記一般式（１）
Ｒ_fＳｉ（ＯＲ₁）₃・・・（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物同士か、又は前記一般式（１）で表されるフッ素原子を有するアルコキシケイ素化合物と下記一般式（２）Ｒ_eＳｉ（ＯＲ₂）₃・・・（２）で表されるエポキシ基を有するアルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に、縮合させて得られるフッ素原子含有ケイ素化合物（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）、幹部分がフッ素系ポリマーで、枝部分がシリコーンで構成された櫛型ポリマー（Ｃ）及びフッ素原子を有する高分子化合物（Ｄ）を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 高エネルギー線照射、あるいは不活性ガス雰囲気下または減圧雰囲気下での加熱による不溶化が可能であり、エッチング耐性および溶剤耐性に優れており、かつ、機械的強度に優れた低比誘電率膜を製造することができる新規ポリカルボシランおよびその製造方法、膜形成用組成物、ならびに膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の新規ポリカルボシランの製造方法は、（Ａ）ケイ素‐水素結合を有するポリカルボシランと、（Ｂ）ケイ素‐水素結合が付加しうる炭素‐炭素多重結合を有する化合物とを反応させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】表面の疎水性／疎油性仕上げのための高性能なコーティング原料を提供する。
【解決手段】新規フルオロシラン縮合生成物、それらの製造方法および表面改質のための使用方法。 R_F-CH₂-CH₂-SiX₃ (A)で表され、そしてこの式の中で、 R_Fが完全にまたは部分的にフッ素化されたアルキルラジカルであり、 XがClまたはO-C_nH_2n+1であり、そして nが1から20までの整数である、含フッ素（fluorous）シラン (A) を、 式 (B) 、 R(OH)_m(NH₂)_p (B)で表され、そしてこの式の中で、 RがC-およびH-含有有機ラジカルであり、mおよびpが 条件a) m > 2かつp = 0、または 条件b) m > 1かつp > 1、のどちらか一方の条件に付される1種または2種以上のアルコールと反応させることによって製造することができる化合物。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一種の一般式（１ａ）；Ｒ_１ａＳｉ（ＯＲ_２）_３（式中Ｒ_１ａは、エポキシ基を有する置換基を示し、Ｒ_２は炭素数４以下のアルキル基を示す）で表されるエポキシ基含有アルコキシケイ素化合物をそれ自身で、また、該化合物と少なくとも一種の一般式（１ｂ）；Ｒ_１ｂＳｉ（ＯＲ_３）_３（式中Ｒ_１ｂは炭素数１０以下のアルキル基、アリール基又は不飽和脂肪族残基を示し、Ｒ_３は炭素数４以下のアルキル基を示す）で表される置換アルコキシケイ素化合物とを、塩基性触媒の存在下に縮合させて得られる、エポキシ基含有ケイ素化合物に関する。
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新規分岐シロキサン、当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離コーティング組成物、及び当該新規分岐シロキサンを含有するシリコーン剥離改質剤組成物は、以下の：（ｉ）下記式：
【化１】


（式中、Ｒ^ａは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基又は炭素数２〜６を有するアルキニル基であり、Ｒ^ｂは、炭素数１〜６を有するアルキル基、炭素数２〜６を有するアルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アクリレート基又はメタクリレート基であり、ｎは１〜２００であるが、但し、分岐シロキサンにおけるＲ^ａ基の少なくとも３．２〜３．９は、アルケニル又はアルキニル基である）を有する組成物を含む分岐シロキサン。
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【課題】高温下に長時間暴露された場合にも光透過率の低下が少ない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】下式（１）の官能基と下式（２）〜（４）の官能基１種類以上を有するポリオルガノシロキサン及びその製造方法、並びに前記ポリオルガノシロキサンを含有する硬化性組成物。
【化１】


（１）
（R^０はＨ又はＣ１〜６のアルキル基、R^１はＣ２〜６のアルキレン基。）
【化２】


（２）
（R^２、R^３はＣ１〜２０のアルキル基、アルケニル基、アリール基。）
【化３】


（３）
【化４】


（４） （もっと読む）

【課題】パターンの精度と形状に優れ、かつ耐熱性、光透過性に優れた光導波路パターンを形成することができる樹脂組成物及び簡便かつ低コストでパターン精度及び形状に優れた微細パターンが形成できるパターン形成方法を提供
【解決手段】 分子内に炭素-炭素不飽和結合及びケイ素‐水素結合を有するシリコンポリマーを含有する樹脂組成物を光学コア及び／又は光学クラッドとして用いる高分子光導波路及び該樹脂組成物を基板３上に塗布し、硬化させて光学コア４及び／又は光学クラッド２、４用の膜を得るとともに、光学コアの形成を金型成型法により行う高分子光導波路の製造方法 （もっと読む）

【課題】 水が無い状態、又は低水分下でも、プロトン伝導性に優れ、熱安定性・化学安定性が高く、かつ製造が容易で低コストであるプロトン伝導材料を提供する。又、水が無い状態、又は低水分下で高温動作に対応し得る燃料電池を実現する。
【解決手段】 イオン交換基１当量当たりの乾燥重量（ＥＷ）が２５０以下、好ましくは、ＥＷが２００以下であるプロトン伝導材料。
【化１】
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【課題】高耐熱性、高屈折率、及び、高耐紫外線性を兼ね備えた硬化性シリコーン組成物及びその硬化物を提供すること
【解決手段】（Ａ）下記平均単位式：
【化１】


｛式中、Ｒはシクロアルキル基を表し、Ｒ^１は芳香族基及びシクロアルキル基以外の一価有機基であって、一分子中少なくとも１個のＲ^１はエポキシ基含有一価有機基を表し、０＜ａ≦３であり、ｘ＞０であり、ｙ＞０であり、且つ、ｘ＋ｙ＝１である｝で表され、一分子中に少なくとも１個のエポキシ基含有有機基を含有する、ポリスチレン換算重量平均分子量が５００以上のポリオルガノシロキサンを必須に含む硬化性シリコーン組成物及びその硬化物。 （もっと読む）

【課題】 ゾルゲル法により得られるアルコキシシラン縮合物であるにも拘らず、柔軟性が高く強度に優れたアルコキシシラン硬化物からなる自立膜を形成することが可能なアルコキシシラン縮合物、並びにその製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）〜（４）：
【化１】


［式（１）〜（４）中、Ｘ^１は１価の加水分解性基、Ｒ^１は２価の有機基を示す。］
でそれぞれ表されるＴ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分からなる有機架橋型アルコキシシラン縮合物であって、^２９Ｓｉ−ＮＭＲにおける、前記Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２及びＴ^３サイト骨格成分にそれぞれ相当するシグナルの積分値（Ｔ^０、Ｔ^１、Ｔ^２、Ｔ^３）が下記数式：
Ｔ^０／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．６
Ｔ^１／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≧０．４
Ｔ^２／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．２
Ｔ^３／（Ｔ^０＋Ｔ^１＋Ｔ^２＋Ｔ^３）≦０．０３
で表される条件を満たしていることを特徴とする有機架橋型アルコキシシラン縮合物。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、陰イオン交換性を示すロッド状ポリシロキサンの高次構造積層体であり、新規なポリアミノアルキルシロキサン塩からなる積層体を提供しようというものである。また、そのために実用性に富んだ極めて簡便な合成法を提供しようというものである。
【解決手段】 繰り返し単位が、一般式；Ｚ₂^2-・ＮＨ₃⁺（ＣＨ₂）₂ＮＨ₂⁺（ＣＨ₂）₃Ｓ
ｉＯ_1.5（式中、Ｚは、塩化物イオンなどのハロゲン元素陰イオン、硝酸イオンなど陰イ
オンを表す）で表される組成を有し、陰イオンＺ^-と繰り返し単位ＮＨ₃⁺（ＣＨ₂）₂ＮＨ₂⁺（ＣＨ₂）₃ＳｉＯ_1.5で構成されるポリシロキサンはイオン対をもってロッド状を形成し、このロッド状ポリマーが密に配列、積層して高次構造を形成した、陰イオン交換性を有してなるロッド状ポリアミノアルキルシロキサン塩からなる積層体を提供するものである。 （もっと読む）

【解決手段】 式（１）
【化１】


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜１０の１価炭化水素基、Ｒ³は炭素数２〜１０の１価炭化水素基。）
で示されるシリル基保護アリルアミンと、式（２）
【化２】


で示されるＳｉ−Ｈ基含有有機ケイ素化合物とを白金触媒存在下反応させ、式（４）
【化３】


で示される化合物を得、その後脱保護して式（５）
【化４】


で示される両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物を得る。
【効果】 本発明によれば、異性体を含まない高純度の両末端アミノ基含有有機ケイ素化合物を高収率で製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 酸やアルカリの存在下でも加水分解性の乏しい連結基でタウリン残基を結合した新規なタウリン変性オルガノポリシロキサン、およびこのような新規なタウリン変性オルガノポリシロキサンを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 オルガノポリシロキサン中のケイ素原子にタウリン残基を少なくとも１個結合するタウリン変性オルガノポリシロキサン、および（Ａ）タウリン、分子中の窒素原子結合水素原子１個を炭素数１〜４０の一価炭化水素基で置換したタウリン誘導体、またはこれらの塩と、（Ｂ）エポキシ基含有オルガノポリシロキサンとを反応させることを特徴とする、オルガノポリシロキサン中のケイ素原子にタウリン残基を少なくとも１個結合するタウリン変性オルガノポリシロキサンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低粘度、低応力性、密着性に優れた硬化物を与え、半導体封止材、アンダーフィル材等の電気・電子デバイス材料に適するエポキシ化合物及び熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で示されるアルコキシケイ素化合物と、一般式（２）で示されるアルコキシケイ素化合物を、加水分解縮合させることにより得られるエポキシ化合物。
ＸＳｉ（ＯＲ^１）_３ （１）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^１はＣ１〜Ｃ４のアルキル基を表す。）
Ｘ_ａＲ^２_２−ａＳｉ（ＯＲ^３）_２（２）
（式中、Ｘはエポキシ基を含む有機基、Ｒ^２はＣ１〜Ｃ１０のアルキル基等を、また、ａは０または１の整数を表す。）
本発明の熱硬化性樹脂組成物は上記エポキシ化合物と硬化剤を含有する。 （もっと読む）

新規の反応性の官能基化フマル酸類およびイタコン酸類含有プレポリマーと、医療器具の製造に使用されるプレポリマーを含む組成物とが提供される。プレポリマーは、反応性親水性ポリマーに相補的な反応性官能基を有する、1つ以上のフマル酸類またはイタコン酸類含有プレポリマーから形成される表面改質コンタクトレンズを提供するのに使用することができる。 （もっと読む）

本発明は、ＶＣＭＸのようなエチレン性不飽和のエポキシドとＭＤＤ’Ｍ（ここに、Ｍ＝Ｒ₃ＳｉＯ_1/2、Ｄ＝Ｒ₂ＳｉＯ_2/2、Ｄ’＝ＲＨ＝ＳｉＯ_2/2であり、Ｒ＝アルキルである。）型の水素化ＰＯＳとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化ＰＯＳの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化ＰＯＳシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも１種の無機非求核性塩基（ＮａＨＣＯ₃）及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。 （もっと読む）

本発明は、高いアリール含有率、Ｒ_２ＳｉＯ_２／２含有率およびアミン含有率を有するアミノ官能性シリコーン樹脂に関する。本発明のアミノ官能性シリコーン樹脂は、選択された有機物質、特にエポキシ含有有機物質と混合されたとき、強く、水、溶媒そして熱に対して抵抗性の合成混成物質を作るときに有用である。本発明の該アミノ官能性樹脂は、低いＣＴＥと溶媒抵抗を維持する一方、エポキシ化合物を柔軟化する能力を有する。本発明は上記アミノ官能性シリコーン樹脂を含有するマルジョン組成物にも関する。 （もっと読む）