粉末冶金法で生産された耐摩耗性鋼材は、下記の組成を、質量％を単位として有し、さらに、０．５から１４の（Ｖ＋Ｎｂ／２）を有し、ただし、一方のＮの含量および他方の（Ｖ＋Ｎｂ／２）の含量が、前記元素の含量が垂直平面座標系の範囲Ａ、Ｂ、Ｇ、Ｈ、Ａ内にあるように互いに対してバランスされ、ここでＮの含量は横座標であり、Ｖ＋Ｎｂ／２の含量は縦座標であり、前記点の座標は、Ｔｉ、ＺｒおよびＡｌのうちの任意の一以上は最大７であり、残部は本質的に鉄および不可避不純物のみである。この鋼は、基材の鋼材の熱間等方圧プレスによって、金属材料の基材上に耐摩耗性表面領域を得るのに優れている。特に、耐摩耗性鋼がＣｏを含まない場合、得られた複合体は、例えば原子力発電所用の弁で使用するのに適している。
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【課題】金属の表面を、その金属の融点より低い融点を有する異種の金属によって被覆した金属粉末を形成する場合に、それぞれの金属の融点の温度差が大きくても異種の金属によって良好に被覆された金属粉末を製造することができる金属粉末製造方法および装置を提供する。
【解決手段】融点がＭ_ａ（℃）の金属材料２、および融点がＭ_ｂ（℃）（ただし、Ｍ_ａ＞Ｍ_ｂ）の被覆金属材料４をそれぞれ溶融させる溶融工程と、溶融された金属溶湯２Ａを流出ノズル６から流出させる流出工程と、流出される金属溶湯２Ａに、溶融工程で溶融された被覆金属溶湯４Ａを吹き付けて、金属溶湯２Ａに被覆金属溶湯４Ａが付着された粒状体粒状体３０Ａを形成する溶湯吹き付け工程と、粒状体３０Ａを固化させてから、金属粉末として回収する回収工程とを備え、融点Ｍ_ａ、Ｍ_ｂは、Ｍ_ａ−Ｍ_ｂ＞１００を満足する。 （もっと読む）

【課題】チタンを含むＦｅＣｒＡｌ材料を噴霧化によって製造する方法を提供する。
【解決手段】ガス噴霧化によるＦｅＣｒＡｌ材料の製造方法であって、その材料は、鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）及びアルミニウム（Ａｌ）に加えて、モリブデン（Ｍｏ）、ハフニウム（Ｈｆ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、イットリウム（Ｙ）、窒素（Ｎ）、炭素（Ｃ）及び酸素（Ｏ）の１つ以上を微量割合で含んでいる。本発明は、噴霧化される溶融体が、０．０５〜０．５０重量パーセントのタンタル（Ｔａ）と、０．１０重量パーセント未満のチタン（Ｔｉ）とを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 粉末冶金により製造される幅広扁平材料を提供し、この材料から長い工具寿命を持つダイスのような切断工具又は打抜き工具を製造可能にする。
【解決手段】
粉末冶金で製造されかつ厚さの少なくとも３．１倍の幅を持ちかつ少なくとも２倍の変形度（変形度＝ 最終断面の面積 ／ 初期断面の面積）を持つ長方形又は扁平楕円形の断面を持つ材料いわゆる幅広扁平材料において、材料のじん性が、あらゆる方向特に材料の断面の厚さ方向に測って、高温アイソスタテイツク成形されかつ変形されない状態における材料のじん性より大きい。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、ＳｉおよびＢを総量として０．１〜１０％含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜を製造するスパッタリングターゲット材。また、上記ＳｉおよびＢの組成比が２：８〜６：４である、スパッタリングターゲット材、および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜にある。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜用合金および薄膜製造用スパッタリングターゲット材、およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、Ｐおよび／またはＺｒを合計０．１〜１０％を含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材はガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したもの、およびそれら上記スパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系薄膜。 （もっと読む）

【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが５０ｎｍ以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に３元系以上の合金からなり、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、希土類金属から選択した少なくとも１元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＨＶ１０００以上の高硬度と、セラミックスショット材以上の高靭性を有し、かつ十分な耐食性があり、安価に製造できる高硬度、高靱性および高耐食性の優れたショット材を提供する。
【解決手段】 Ｂ：５〜８ｍａｓｓ％、Ａｌ：≦１０ｍａｓｓ％を含み、残部Ｆｅおよび不可避的不純物よりなり、ガスアトマイズ法によって製造される鉄基高硬度ショット材。また、上記成分に加えて、Ｃｒ：≦２５ｍａｓｓ％を含む高硬度ショット材。 （もっと読む）

【課題】結晶組織が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを提供する。
【解決手段】非晶質又は平均結晶子サイズが５０ｎｍ以下の組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に３元系以上の合金からなり、Ｚｒ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、希土類金属から選択した少なくとも１元素を主成分とする焼結体パッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に用いられるＣｏ−Ｆｅ系合金の軟磁性膜を成膜するための強い漏洩磁束が得られる透磁率が低く使用効率が高いＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｃｏ_Ｘ−Ｆｅ_{１００−Ｘ}）_{１００−Ｙ}−Ｍ_Ｙ、２０≦Ｘ≦７０、４≦Ｙ≦２５で表され、前記組成式のＭ元素がＮｂおよび／またはＴａであるスパッタリングターゲット材であって、該スパッタリングターゲット材のミクロ組織がＨＣＰ−Ｃｏからなる相とＦｅを主体とする合金相とからなる焼結組織を有し、前記Ｆｅを主体とする合金相中にＦｅ_２Ｍの非磁性ラーベス相金属間化合物が存在するＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】面内均一性に極めて優れたＡｇ系薄膜を形成するのに有用なＡｇ系スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｇ系スパッタリングターゲットのスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_ａｖｅを下記手順（１）〜（３）によって測定したとき、平均結晶粒径ｄ_ａｖｅは１０μｍ以下を満足している。 （手順１）スパッタリング面の面内に任意に複数箇所を選択し、選択した各箇所の顕微鏡写真（倍率：４０〜２０００倍）を撮影する。 （手順２）各顕微鏡写真について、井桁状または放射線状に４本以上の直線を引き、直線上にある結晶粒界の数ｎを調べ、各直線ごとに下式に基づいて結晶粒径ｄを算出する。 ｄ＝Ｌ／ｎ／ｍ 式中、Ｌは直線の長さ、ｎは直線上の結晶粒界の数、ｍは顕微鏡写真の倍率を示す。 （手順３）全選択箇所の結晶粒径ｄの平均値をスパッタリング面の平均結晶粒径ｄ_ａｖｅとする。 （もっと読む）

【課題】太陽電池の光吸収層を形成するためのＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ−Ｓｅ四元系合金膜を形成するときに使用するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｉｎ：４０〜６０質量％、Ｇａ：１〜４５質量％を含有し、残部がＣｕからなる成分組成を有するＣｕ−Ｉｎ−Ｇａ三元系焼結合金スパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットの素地中に分散しているＩｎ含有合金相の最大粒径が１０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性ペースト用の導電性フィラー材料として使用することができるとともに、銀の使用量を削減して安価且つ容易に製造することができる、導電性複合粉末およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ＡｇとＣｕとＸ（ＸはＮｉ、ＦｅまたはＣｏ）とからなり、三元系において液相の二相領域内の組成を有するＡｇ−Ｃｕ−Ｘ合金の溶湯を噴霧して急冷することによって、Ａｇマトリックス中にＣｕ−Ｘ基合金の微細な分散相が分散した組織およびＣｕ−Ｘリッチ相からなるコア部がＡｇリッチ相によって取り囲まれた組織の少なくとも一方の組織を有する導電性複合粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】高強度な割に高延性であるとともに、疲労強度も高く、構造用部品や部材としての信頼性に優れたＡｌ合金およびその製造方法を提供する。
【解決手段】急冷凝固法により得られたＡｌ−Ｚｎ−Ｍｇ−Ｃｕ系の７０００系Ａｌ合金組織中に存在して、合金元素の偏析により粗大化しやすい晶析出物を、不活性ガスによるスプレイフォーミング時の噴霧された溶湯の堆積速度やＧ／Ｍ比などの制御によって、微細化を図り、高強度、高延性であるとともに、疲労強度も高いＡｌ合金とする。 （もっと読む）

【課題】磁気特性に優れた、具体的には鉄損が小さい軟磁性粉体、軟磁性成形体およびそれらの製造方法を提供することにある。
【解決手段】軟磁性粉体１は、Ａｌ、Ｓｉ等とＢとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなることを特徴とする。また、軟磁性粉体１ａは、Ａｌ、Ｓｉ等とＢとを含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ａと、粉体本体部２ａの表面を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜３ａとを備える。さらに、軟磁性粉体１ｂは、Ａｌ、Ｓｉ等を含み、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる粉体本体部２ｂと、粉体本体部２ｂの表面を被覆するＡｌ、Ｓｉ等の酸化物からなる酸化物被膜３ａおよびＢの酸化物からなる酸化物被膜３ｂとを備える。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に用いられるＣｏ−Ｚｒ系合金の軟磁性膜を成膜するためのＣｏ−Ｚｒ系合金ターゲット材に関して、良好なスパッタリング特性を有する低透磁率のＣｏ−Ｚｒ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式がＣｏ_{１００−(Ｘ＋Ｙ)}−Ｚｒ_Ｘ−Ｍ_Ｙ、１≦Ｘ≦１５、０≦Ｙ≦１５で表され、前記組成式のＭ元素がＴｉ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗから選ばれる１種または２種以上の元素であるスパッタリングターゲット材であって、ミクロ組織においてＨＣＰ−Ｃｏからなる相と、Ｃｏを主体とする合金相とが微細に分散した金属組織を有し、Ｘ線回折パターンにおけるＦＣＣ（２００）ピークとＨＣＰ（１０１）ピークの強度比Ｉ_{ＦＣＣ（２００）}／Ｉ_{ＨＣＰ（１０１）}の値が０．２５以下であるＣｏ−Ｚｒ系合金焼結スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ−Ｍｎ−Ｎｉ系金属間化合物の粒子が均一に分散してなる高強度なＡｌ系材料を提供する。
【解決手段】Ａｌ：８２．５〜９６．８５質量％、Ｍｎ：２〜１０質量％及びＮｉ：１〜５．５質量％を含む材料であって、前記材料中にＡｌ−Ｍｎ−Ｎｉ系金属間化合物の粒子が分散してなる金属間化合物分散型Ａｌ系材料に係る。 （もっと読む）

【課題】 部位による磁気特性のばらつきが非常に少ないＦｅ−Ｃｏ−Ｖ系合金材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、Ｃｏ：４０〜６０％、Ｖ：１．５〜３．５％、Ｂ：１０〜４０ｐｐｍ、Ｓｉ：０．０１〜１．００％、Ｍｎ：０．０１〜１．００％、Ｃ：０．１％以下、残部Ｆｅおよび不可避的不純物元素からなる合金をガスアトマイズもしくは水アトマイズ法により作製し、該合金を高密度成形法により固化成形し、該固化成形した合金の任意の部位２０箇所（５ｍｍ×５ｍｍ）から採取した試料の保磁力が１６０ＫＡ／ｍ以下、かつそのばらつきが平均値に対し、３％以下であることを特徴とするＦｅ−Ｃｏ−Ｖ系合金材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】異方性ナノコンポジット磁石の製造の提供。
【解決手段】合金粉末は、ＬＲはＰｒおよびＮｄの少なくとも一方を含み、ＨＲはＤｙおよびＴｂの少なくとも一方を含み、ＴはＦｅおよびＣｏの少なくとも一方を含みＦｅを必ずＴの６０ａｔ％以上を含む遷移金属元素、ＱはＢおよびＣの少なくとも一方を含みＢを必ずＱの５０ａｔ％超含む元素とすると、ＬＲ＋ＨＲが全体の７ａｔ％以上１５ａｔ％以下、ＨＲが（ＬＲ＋ＨＲ）の１０ａｔ％以上２０ａｔ％未満、Ｑが全体の４ａｔ％以上１０ａｔ％以下、残部がＴ、またはＴおよびＴの５ａｔ％以下のＭと、不可避不純物とを含む組成を有し、Ｎｄ_２Ｆｅ_１７Ｂ_ｘ型化合物相を６０ｖｏｌ％以上、Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ型化合物相を１０ｖｏｌ％以下、ＨＲＦｅ_２相およびα−Ｆｅ相の合計を３０ｖｏｌ％未満含み、且つ、Ｎｄ_２Ｆｅ_１７Ｂ_ｘ型化合物相の平均結晶粒径が２μｍ以上の組織を有する合金粒子を８０ｖｏｌ％以上含む。 （もっと読む）

【課題】はんだ付けに際してはんだ部分にボイド発生の少ないＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストに関するものであり、さらにこのＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストはＡｕメッキしてある基板をはんだ付けするために特に有効なＡｕ−Ｇｅ合金はんだペーストを提供する。
【解決手段】Ｇｅ：１０．５〜１５．５質量％を含有し、残りがＡｕおよび不可避不純物からなる組成を有するガスアトマイズＡｕ−Ｇｅ合金粉末を８０〜９８質量％含有し、残部がノンハロゲンフラックスからなり、前記ノンハロゲンフラックスは、水酸基を４〜６個有する糖類を含む還元性固体活性剤、イソボルニル基を含有する化合物を含む高粘性溶剤および低粘性溶剤を含有する。 （もっと読む）