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Fターム[4K024AA03]の内容

電気メッキ方法、物品 (25,708) | メッキ析出金属 (5,114) | 単金属 (4,227) | Ni、Co (907)

Fターム[4K024AA03]に分類される特許

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【課題】 装飾感を向上させることができるとともに、その装飾感を容易に変化させることができる装飾板の製造方法を提供する。
【解決手段】 装飾板は次の手順に従って製造される。基板11の表面及び裏面に板面方向に位置が異なる外周側位置ずれ部12a及び内周側位置ずれ部12bを生ずるようにマスキング材により表面側マスキング層13a及び裏面側マスキング層13bを形成する。その後、基板11の表面及び裏面からそれぞれ基板11の厚さ方向の中央部に達するまでハーフエッチングを行なう。そして、前記位置ずれ部12に段差部を形成し、その段差部にメッキを施した後、前記マスキング層13を剥離することによって装飾板が製造される。 (もっと読む)


【課題】 スペーサエキスパンダのギヤ成形時、波形形状角部のめっき皮膜の欠け・剥離やめっき厚さ小等に伴う母材露出によって、窒化処理工程でスペーサエキスパンダ本体とりわけ波形形状角部が窒化されることを防止することを課題とする。
【解決手段】 スペーサエキスパンダ(1)は平板状線材(2)によりピストン軸方向波形(3,4)に形成されて周方向に延伸しており、内周部にはピストン軸方向に母材の剪断により突出して形成され、サイドレールを半径方向外側に押圧する押圧片部(7)を有し、該押圧片部(7)の母材(2)の剪断面(5)には窒化層が形成されており、該剪断面(5)以外の面は、Niめっき皮膜又はNi拡散層を有するNiめっき皮膜で覆われている。 (もっと読む)


本発明は、重合体を含む犠牲材料を使用した製造方法を提供する。ある実施形態における重合体は、製造プロセスで使用される、少なくとも1つの溶媒(例えば、水溶液)に対する溶解度を変更するために処理され得る。犠牲材料の調製は、迅速かつ簡易であり、犠牲材料の溶解は、穏やかな環境で実行され得る。本発明の犠牲材料は、選択された対応する物理的構造のために犠牲層が使用される、表面マイクロ加工、バルクマイクロ加工および他のマイクロ加工プロセスに役立つ。
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【課題】 耐食性および放熱性に優れた黒色めっき鋼板を提供する。
【解決手段】 鋼板にNiめっきを施し、次いでZn−Co−Moめっきを施した後、300〜450℃に加熱し、鋼板上に下から順に、Ni−Zn合金層、または/およびNi層、Ni−Zn−Co−Mo合金層、または/およびZn−Co−Mo合金層を形成させる。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、難燃性及び寸法安定性等において優れると共に、高密度実装が可能であり、かつ、優れた接着性及び接着力保持性を備えた銅張り積層板を提供する。
【解決手段】銅箔上に絶縁層を備えた銅張り積層板であって、上記銅箔の絶縁層と接する面の表面がRz=0.3〜1.0μmであり、当該銅箔表面の高周波誘導結合プラズマ(ICP)発光分析によって測定される金属元素が、ニッケル1〜15μg/cm2、亜鉛0.1〜10μg/cm2、及びコバルト1.5〜30μg/cm2であると共に、コバルトの含有割合を表すコバルト/(ニッケル+亜鉛+コバルト)が0.4以上となるように金属を析出させる金属析出処理と、カップリング剤による処理とが施されており、上記絶縁層が、ジアミン又は酸無水物の少なくとも一方がメチル基を有するモノマーを重合して得られたメチル基当量が205〜390の芳香族系ポリイミド系樹脂からなる銅張り積層板である。 (もっと読む)


【課題】めっき位置精度を向上させ、かつ、キャリア穴が支持体ドラムの突起部から外れるといったトラブルの発生を防止し、高品質の部分めっきを可能とするスポットめっき装置を提供する。
【解決手段】スポットめっき装置において、支持体ドラム10は、金属又はセラミックにて作製した、複数の突起部13aと複数のめっき孔13bとを外周部に有した円筒状のドラム本体13と、ドラム本体13を装置本体に設けた回転支持軸に回転自在に装着するための軸受け部12と、を有する。また、支持体ドラム10を駆動ロール18にて当接駆動する。 (もっと読む)


【課題】 電解めっきにより基板に配線パターンを形成する際に、配線パターンの不要部分による信号の反射やノイズを防止して電気的特性を改善し、配線パターンの配置の高密度化を図る。
【解決手段】 金属箔付き絶縁基板に第1無電解めっき層とその上の第1めっきレジストを形成;第1無電解めっき層に給電してレジスト開口内の第1無電解めっき層上に第1電解めっき層を形成;第1めっきレジストを除去;露出した第1無電解めっき層と金属箔を除去して絶縁基板を露出;基板露出部と配線パターン上に第2無電解めっき層を形成;その上に第2めっきレジストを形成;レジスト開口部の第2無電解めっき層を除去;第2めっきレジスト下の第2無電解めっき層に給電してレジスト開口部の配線パターン上に第2電解めっき層を形成;第2めっきレジストを除去;露出した第2無電解めっき層を除去。 (もっと読む)


【課題】 優れた電池特性を有する電池とすることが可能な電池容器用めっき鋼板、その電池容器用めっき鋼板を用いた電池容器およびその電池容器を用いた電池を提供する。
【解決手段】 鋼板の電池容器内面となる側にビスマスめっきを施し、次いでその上に銀めっきを施してなるめっき鋼板、あるいはまたニッケルめっきを施し、次いでその上にビスマスめっきを施し、引き続いてさらにその上に銀めっきを施してなるめっき鋼板、あるいはさらにニッケルめっきを施した後、熱処理を施し、次いでその上にビスマスめっきを施し、引き続いてさらにその上に銀めっきを施してなるめっき鋼板、あるいはまたニッケルめっきを施し、次いでその上にビスマスめっきを施した後、熱処理を施し、引き続いてさらにその上に銀めっきを施してなるめっき鋼板を作成して電池容器用めっき鋼板とし、それを電池容器に成形加工して電池に適用する。 (もっと読む)


【課題】 薄肉の被メッキ体であっても、メッキにより剛性(衝撃強度など)及び靱性(曲げ弾性など)を改善可能なメッキ被覆体を提供する。
【解決手段】 熱可塑性樹脂組成物で形成された被メッキ体の少なくとも一部の表面に、メッキ被膜を形成し、メッキ被覆体を形成する。前記熱可塑性樹脂組成物は、ポリカーボネート系樹脂(A)と、少なくともゴム含有スチレン系樹脂を含むスチレン系樹脂(B)と、酸により少なくとも一部が溶出可能な無機充填材(C)と、難燃剤(D)と、必要により酸変性又はエポキシ変性オレフィン化合物(E)とで構成する。前記ポリカーボネート系樹脂(A)とスチレン系樹脂(B)との割合(重量比)は、樹脂(A)/樹脂(B)=67/33〜95/5程度である。 (もっと読む)


【課題】潤滑性を有し摩擦係数が小さく、半田付着及び転移し難く、安定した接触抵抗を得られ、相手物が電気接点上を摺動するような構造の電気接点を提供する。
【解決手段】少なくとも表面が錫を含有する半田である物体と接触する電気接点10において、該電気接点10の表面に、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)の微粒子を含有する金属マトリックスのメッキ層からなる潤滑メッキ層28と、潤滑メッキ層28上に形成されるAuメッキ層からなる厚さが微粒子の直径を超えない貴金属メッキ層32とを施し、電気接点10の周囲に略U字形状のスリット20を設ける。 (もっと読む)


【課題】ニッケルを含む金属膜と、この金属膜表面に形成する他の金属膜との密着性が優れることとなり、接続信頼性が向上した半導体装置が得られる半導体装置の製造方法、さらにそのための半導体基板のめっき装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置の製造方法は、半導体基板上にニッケルを含む金属膜をめっき法により形成する工程と、前記金属膜を塩酸または硫酸で洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電磁波シールド性に優れ、しかも透過率が高く、粉落ちがなく、かつ光のにじみのない電磁波シールド用の銅箔およびそれをPDPに設けて好適に使用できる電磁波シールド体を提供する。
【解決手段】電磁波シールド用銅箔は、銅箔(元箔)または銅合金箔(元箔)の片面にCu又は合金からなる黒色乃至褐色処理層が設けられ、当該黒色乃至褐色処理層上に必要によりCu、Co,Ni、In又はこれらの合金からなる平滑層が設けられている。 (もっと読む)


【課題】製造コストを増加させずに耐食性に優れたコーティング膜、コーティング膜で被覆された物品及び耐食性コーティング方法を提供する。
【解決手段】CO2及びNiめっき液を混合分散部60に供給してめっき分散体を生成する。このめっき分散体は、一対の電極が設けられためっき槽61に供給される。めっき槽61では、CO2を超臨界状態として、電極に電圧を印加して、電解めっきを行い、基板Wの表面にNi膜を形成する。この電解めっきの完了後、Auめっき液をめっき槽61に供給して、無電解めっきを行う。すなわち、表面のNiと、Auめっき液に含まれるAuとが置換されて、Ni膜上に、Au膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】 Pb(鉛)およびCr(クロム)を使用することなく、Pbフリー半田付けにおける濡れ性、いわゆる半田付け性に優れ、さらに耐食性および厳しい加工部でも耐ホイスカー性に優れたSn系めっき鋼板並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】 鋼板表面上に、Niの付着量を0.02〜4.4g/m2としてNi系めっき層を形成後Snの付着量を5.0〜20g/m2としてSn系めっき層を形成した後溶錫処理を施して得たNiおよびSnを含有するめっき層と、該めっき層上に、Pの付着量が0.5〜10mg/m2、Siの付着量が3〜60mg/m2であるPとSiを含有する化成皮膜を有するSn系めっき鋼板。 (もっと読む)


【課題】温・湿度依存性の低い導電膜の形成方法を提供すること。また、温・湿度依存性が低く、耐イオンマイグレーション性に優れた金属配線を製造する際に好適な導電膜の形成方法を提供すること。更に、温・湿度依存性が低く、耐イオンマイグレーション性に優れた導電パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】基板上に、該基板表面に直接結合し、且つ、親水性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに無電解メッキ触媒又はその前駆体を付与する工程と、無電解メッキを行う工程と、前記親水性基を疎水性に変換する工程と、をこの順に有することを特徴とする導電膜の形成方法、及び該方法で得られた導電膜をエッチングする工程を含む導電パターン形成方法。 (もっと読む)


その少なくとも片面に電解被覆されたコーティングが付けられており、深絞り及び/又はアイアニングにより特に電池ケースを製造するために用いられる冷延板であって、この電解被覆のコーティングには、2層、即ち、光沢のある固く且つ脆いニッケル層並びに、その上に塗布されたコバルト含有の層を有している。このタイプの冷延板を経済的に製造可能にするため、この冷延板から加工により作られた電池ケースには電解液に対する良好な接触抵抗並びに同じく良好な貯蔵安定性が備えている。このコバルト含有の層は電解槽から光沢剤を添加せずに析出されたつや消しのコバルト層またはつや消しのコバルト合金層であることを開示する。電池ケースと同様に、冷延板の電解被覆方法を開示する。
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【課題】良好な多層膜構造体と、この多層膜構造体の効率的な製造方法及びめっき装置を提供する。
【解決手段】CO2、分散促進剤及びNiめっき液を混合分散部60に供給してめっき分散体を生成する。このめっき分散体は、一対の電極が設けられためっき槽61に供給される。めっき槽61では、CO2を超臨界状態として、電極に電圧を印加して、電解めっきを行う。その後、CO2は供給したままで、分散促進剤とNiめっき液の供給が停止され、その代わりに洗浄液が供給されて、混合分散部60及びめっき槽61が洗浄される。次に、CO2は供給したままで、洗浄液の供給が停止され、この代わりに分散促進剤とAuめっき液が供給される。これにより混合分散部60で生成されるめっき分散体を用いて、めっき槽61においてめっきが行われて、Ni膜の上にAu膜が積層した多層膜が形成される。 (もっと読む)


【課題】 低コストで容易且つ大面積に柱状構造体を形成することができるナノ構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板11上に設けられた細孔22内へめっき法により金属を充填するナノ構造体の製造方法において、少なくともめっき用の金属イオンを含み還元剤を含まない溶液I(27)および少なくとも還元剤を含みめっき用の金属イオンを含まない溶液II(26)を用意する工程、該溶液I(27)を基板の細孔内に充填する工程、溶液Iを充填した基板を溶液II(26)に浸漬し、溶液Iの金属イオンと溶液IIの還元剤による無電解めっきにより細孔内に金属28を析出する工程を有するナノ構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 被表面処理物の表面を電気化学的な方法により均一に処理することができる電気化学的表面処理装置を提供すること。
【解決手段】 メッキ槽101中に、被表面処理部材である陰極105と、陰極105との間に所定の電圧が印加される対極の陽極106と、が配置され、陰極105と陽極106との間に設けられた円筒状の遮蔽部材102は、2個の電極間の電気力線を遮る電気力線遮蔽手段として作用し、攪拌子104の回転により、メッキ液103の金属イオンが陰極105に均一に供給される。 (もっと読む)


【課題】 光の反射率が高く、かつ変色しにくいロジウムを含む表面金属層を備える上、当該表面金属層の表面が良好な光沢面とされた光反射膜と、この光反射膜を用いて窓枠の内面を光反射面とした発光ダイオード用パッケージとを提供する。
【解決手段】 光反射膜1は、基材2側から順に、少なくとも1層の下地金属層11と、金、パラジウムおよび白金からなる群より選ばれる少なくとも1種の金属を含む中間金属層12と、ロジウムを含む表面金属層13とをこの順に積層した。発光ダイオード用パッケージPは、上記光反射膜1を有する、基材としての窓枠2を、半導体発光素子LE1を搭載するための基板3上と組み合わせた。 (もっと読む)


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