【課題】 成膜物質を放出する成膜源と被成膜物の成膜目的位置との位置関係に起因する、成膜物質が成膜目的位置に到達できない現象（ケラレ）の発生を判定して膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜物質を放出する成膜源（Ａ）と被成膜物（３１）の成膜目的位置（Ｂ）との位置関係に起因する、上記成膜物質が成膜目的位置（Ｂ）に到達できない現象（ケラレ）を例えば成膜源（Ａ）と成膜目的位置（Ｂ）とを結ぶ直線（ＡＢ）が被成膜物（３１）内を通る場合に発生すると判定し、その判定結果に基づき薄膜（３１ａ）の膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）

ポンプ・モジュールまたはスパッタリング・モジュールなどのモジュールは、モジュール・コーティング・システムなどのコーティング・システムの、ポンプ区画またはスパッタリング区画などの区画に適合するまたは被覆するのに十分な蓋アセンブリを含む。スパッタリング・モジュールは、電源装置を含み、電気入力を受けるため、およびスパッタリング区画内でスパッタリングのために十分な電気出力を供給するために十分である。ポンプ・モジュールは、少なくとも１つのポンプを含み、ポンプを操作するのに十分な電気入力を受けるために十分である。モジュール、外部源、部品または装置と、区画との様々な接続は、自動的に、および／または手動でなされてもよい。制御接続は、外部コントローラまたは中心コントローラが、コーティング・システムの特有の区画に関連する特有のモジュールを認識することができてもよい。
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【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＮよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】所定の組成および結晶構造を有する硬質皮膜を製造するための方法であって、ターゲットを構成する金属の蒸発およびイオン化をアーク放電にて行うアークイオンプレーティング法において、該ターゲットの蒸発面にほぼ直交して前方に発散ないし平行に進行する磁力線を形成し、この磁力線によって被処理体近傍における成膜ガスのプラズマ化を促進すると共に、前記被処理体に印加するバイアス電位をアース電位に対して−５０Ｖ〜−３００Ｖとして成膜する。 （もっと読む）

【課題】高速・高能率切削が可能な、ＴｉＡｌＳｉＮよりも耐摩耗性に優れた切削工具用硬質皮膜、およびこの様な硬質皮膜を得るための有用な製造方法を提供する。
【解決手段】（Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}，Ａｌ_ａ，Ｃｒ_ｂ，Ｓｉ_ｃ，Ｂ_ｄ）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜であって、Ａｌ，Ｃｒ，Ｓｉ，Ｂのそれぞれの原子比ａ，ｂ，ｃ，ｄが、０．５≦ａ≦０．８、０．０６≦ｂ、０≦ｃ≦０．１、０≦ｄ≦０．１、０．０１≦ｃ＋ｄ≦０．１およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ＜１を満たすようにし、かつＮの原子比ｅが０．５≦ｅ≦１を満たすようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基材及び被膜を含む切削工具インサート、中実エンドミルまたはドリルに関する。
【解決手段】被膜は、少なくとも１層がｈ−（Ｍｅ１、Ｍｅ２）Ｘ相を含んで成る１層以上の耐熱性化合物からなり、Ｍｅ１がＶ、Ｃｒ、Ｎｂ及びＴａの元素の１種以上であり、Ｍｅ２がＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ及びＳｉの元素の１種以上であり且つＸがＮ、Ｃ、Ｏ及びＢの元素の１種以上である。前記ｈ−Ｍｅ１Ｍｅ２Ｘ相の比率Ｒ＝（Ｘのａｔ％）／（Ｍｅ１のａｔ％＋Ｍｅ２のａｔ％）が、０．５〜１．０好ましくは０．７５〜１．０の間にあり、且つＸが３０ａｔ％未満のＯ＋Ｂを含む。本発明は、切屑の厚みが薄くて加工物が硬い金属切削用途に有益であり、例えば中実エンドミル、インサートフライスカッタを使用する倣いフライス加工または硬質鋼の穿孔加工である。 （もっと読む）

【課題】光学部品の各被成膜面に形成される防汚膜の性能を同等にすることを目的とする。
【解決手段】支持装置８０、カバー８２及び基板４０のいずれかの部材を物体Ａと物体Ｂとした場合に、その物体Ａと物体Ｂとの隙間（距離）ＬがイオンシースＩｄの２倍以内の場合は、正イオンＩｃは、物体Ａと物体Ｂとが負に帯電している吸引力に負けて、物体Ａ又は物体Ｂに引き寄せられて、物体Ａと物体Ｂとの間を通過することができない。したがって、物体Ａと物体Ｂとの隙間（距離）ＬがイオンシースＩｄの０．１倍以上、且つ２倍以内の場合は、正イオンは物体Ａ及び物体Ｂの裏面に到達することができない。このことは、物体Ａ及び物体Ｂの裏面は、正イオンにスパッタされることなく、物体Ａ及び物体Ｂの裏面にある防汚膜或いは他の処理膜はこの処理を施す以前の状態を維持することができる。 （もっと読む）

【課題】酸化タンタルを含む蒸着材料を用いて、プラスチックレンズ等の被蒸着物に反射防止膜等の蒸着膜を形成する際にスプラッシュの発生を抑制する手段を提供すること。
【解決手段】酸化タンタルを含む蒸着材料を蒸発させ、発生した蒸発物を被蒸着物上に析出させて蒸着膜を形成するに際し、前記酸化タンタルとして、アンチモン含有量が３０ｐｐｍ以下の酸化タンタルを使用することを特徴とする蒸着膜形成時のスプラッシュの発生を抑制する方法。反射防止膜形成用蒸着材料を蒸発させ、発生した蒸発物をプラスチックレンズ上に析出させて反射防止膜を形成する、反射防止膜を有するプラスチックレンズの製造方法。前記蒸着材料は、酸化タンタルを含み、かつ、前記酸化タンタルのアンチモン含有量は３０ｐｐｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 レンズをレンズ保持枠にセットする際やレンズをレンズ保持枠から取り外す際に、手間もかからず、かつ、短時間で作業を行うことができるレンズ取付シートおよびこのレンズ取付シートを用いた薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】レンズ１０の少なくとも一部を覆いレンズ１０と接着されるレンズ側接着部５と、レンズ保持リング１１の少なくとも一部を覆いレンズ保持リング１１と接着される保持枠側接着部７と、レンズ側接着部５および保持枠側接着部７を連結するとともに、レンズ１０とレンズ保持リング１１とで形成される隙間の全てを覆う連結部４とを備える。
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本発明は、機能膜（３２）として加工物（３０）上でアーク−ＰＶＤ法によって析出される硬質材料膜において、この膜が本質的に、周期系の亜族ＩＶ、Ｖ、ＶＩの遷移金属およびＡｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｙの金属（Ｍｅ）の少なくとも１つからなる電気的に絶縁する酸化物として形成され、かつ前記機能膜（３２）が希ガスおよびハロゲンを含有しない硬質材料膜に関する。
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本発明は、マイクロ構造体上部にナノ構造体を有する医用埋植片、およびその埋植片を作製し、使用する方法を提供する。
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【課題】 イオンビームスパッタやマグネトロンスパッタ法で形成された、異なる２種類の膜材料界面で相互拡散や相互反応のない多層膜が形成可能なスパッタリングターゲットの提供。
【解決手段】 炭化硼素を主成分としたターゲットにアルカリ金属又はアルカリ金属の化合物を１種又は２種以上含む炭化硼素（Ｂ４Ｃ）ターゲットで、前記アルカリ金属又はアルカリ金属の化合物は、リチウム（Ｌｉ）又はリチウム化合物を１種又は２種以上含む炭化硼素（Ｂ４Ｃ）ターゲットであるスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

多層の耐粘着性セラミックコーティングを有する調理器具物品。本発明の調理器具物品は、内側の食品接触表面（３１０）と外側表面（３１５）を有する金属調理器具物品（３０５）；その食品接触表面上に堆積された接着層（３２０）；およびその接着層に隣接して堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第一層（３２５）を含む。随意に、第一（Ti,Al,Cr）N層に隣接して堆積された窒化クロムの層（３３０）、およびその窒化クロム層上に堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第二層が存在する。これらの層は所望とされるとおりの多数の回数反復することができる。（Ti,Al,Cr）N層は一般に多層コーティングの上層である。コーティングは耐粘着性、耐引掻き性、熱安定性、耐腐食性および色安定性である。この調理器具は塩味および酸味系の両食品と共に使用するのに適している。このような調理器具物品を製造する方法も開示される。
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【課題】この発明は、均一な金属被膜の成膜を実現したうえで、簡便にして容易なレンズ着脱操作を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入した支柱部材２２を離脱させた状態で、第１及び第２のレンズ支持部材１４，１５間へのレンズ１６の着脱を実行し、装着したレンズ１６に成膜を施す際には、上記支柱部材２２を保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入して、支柱１３及び支柱部材２２をレンズ１６の周囲に等間隔に配した状態で、レンズ１６の成膜処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】 サイズの大きい被処理物に対しても、被処理物の欠けや被膜ハガレの発生率を抑えて、その表面に蒸着被膜を効率的に形成することができる、蒸着被膜形成方法を提供すること。
【解決手段】 真空処理室内に、蒸着材料の蒸発部と、その表面に蒸着材料が蒸着される被処理物を収容するための多孔性周面を有する筒型バレルを備え、筒型バレルを横設して水平方向の回転軸線を中心に回転させながら被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させる蒸着被膜形成装置を用いた蒸着被膜形成方法であって、（１）被処理物と金属製スプリング部材を、筒型バレル内にそれぞれ多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするか、（２）金属製スプリングをテンションを付加して架設した筒型バレル内に、被処理物を多数収容し、被処理物の表面に蒸着材料を蒸着させることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】金型や切削工具等の金型加工工具表面用保護膜によって、成型品の外観を向上させるために、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる。
【解決手段】 気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 （もっと読む）

【課題】摺動面の摩擦係数を低減しつつ、耐磨耗性及び耐焼付き性を両立させた低摩擦摺動機構を提供すること。
【解決手段】相手材との間に潤滑油を介して成る２以上の摺動面に、非晶質硬質炭素膜を配設し、該非晶質硬質炭素膜に含まれる水素量の異なる摺動面が２以上存在する低摩擦摺動機構である。ピストンリングと、ピストン及び／又はシリンダボアとから構成される。ピストンリングの上下面やピストンのリング溝に、水素量１０％以下の非晶質硬質炭素膜を配設する。ピストンリング側面に、水素量２０％以上の非晶質硬質炭素膜を配設する。ピストンリングの上下面及び側面に配設する非晶質硬質炭素膜を、それぞれＰＶＤ法、ＣＶＤ法で成膜する。 （もっと読む）

【課題】従来試みられることのなかった新規な方法で担体に触媒材料を担持してなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに該触媒構造体を用いた水素の貯蔵及び発生方法を提供する。
【解決手段】担体表面に反応性スパッタリング法により触媒材料をコーティングしてなる水素貯蔵及び発生用触媒構造体、並びに、該触媒構造体と、芳香族炭化水素とを用いることを特徴とする水素の貯蔵方法、及び上記触媒構造体と、芳香族炭化水素の水素化誘導体とを用いることを特徴とする水素の発生方法である。 （もっと読む）

【課題】金型の耐久性を向上させるべく、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる金型表面用保護膜を形成すること。より高硬度の金属加工工具表面用保護膜を形成すること。
【解決手段】気相薄膜形成法によって金属表面にTi、B、及びNを必須元素とし、AlまたはSiのうち１種又は２種の元素を含む硬質の保護膜を形成し、TiとNを必須元素とし、AlまたはSiのうち１種又は２種の元素を含むNaCl型の結晶相と、非結晶構造もしくは微結晶の六方晶構造を有するBN相とから構成される金型表面用保護膜とする。さらに、ＢＮ相の割合が体積比で１０〜１７％の範囲内にある金属加工工具表面用保護膜とする。 （もっと読む）

【課題】レンズ表面に真空蒸着法により膜形成するレンズへの膜形成方法及び装置であって、レンズの膜形成対象表面に、膜厚均一性に優れ、緻密性等の膜質の点でも優れた膜を密着性良好に形成することができるレンズへの膜形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】成膜室１０内に膜形成対象レンズ６をレンズ光軸Ｌが蒸着源４０からの蒸着物質垂直上昇方向αに対し傾斜する姿勢で配置し、該レンズ６を自転駆動しつつ蒸着源４０から蒸着物質をレンズ６に蒸着させるとともにイオン又はプラズマをレンズ６に対し照射し、イオン又はプラズマの照射をレンズ光軸方向及び（又は）略レンズ光軸方向から照射する。 （もっと読む）

ＰＶＤ処理の使用により、切断刃には、単相の三元またはより複数の酸化物である被覆が設けられる。含まれる主部成分及び副部成分の含有量を原子百分率について適切に規定することにより、形成された酸化物の歪みは、特定の方法で、前記酸化物の特性に影響を及ぼすために、制御可能である。その代わりに、層は、非晶性地の相、並びにそこに埋め込まれた酸化物結晶子を有することが可能である。その酸化物結晶子は、二元、三元またはより複数であることが可能である。１以上の異なる型の結晶子は、互いに隣接して存在可能である。 （もっと読む）