【課題】本発明はダイヤモンドライクカーボン複合層と基材が比較的高い結合力を持つ金型を提供する。
【解決手段】本発明は、ダイヤモンドライクカーボン複合層を有する金型に関するものであり、前記ダイヤモンドライクカーボン複合層は、基材から外側表面までに、順次に第一層乃至第Ｎ＋１層を備え、前記第一層から第Ｎ層までは、金属又は金属窒化物である詰め物を含むダイヤモンドライクカーボン層であって、且つ各層の詰め物のモルパーセント含有量が逓減し、第Ｎ＋１層は純ダイヤモンドライクカーボン層であって、前記Ｎの値は２〜３０である。 （もっと読む）

【課題】高硬度と適度な靭性を有しながら、クラック進展を抑制する効果、低摩擦係数、耐凝着性に有効な非晶質カーボン被覆切削工具、及び非晶質カーボン皮膜の製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質カーボン皮膜を被覆した非晶質カーボン被覆切削工具において、該非晶質カーボン皮膜は、Ｂ、Ｃｌ、Ｓ、Ｐ、Ｆ、Ｏ、Ｎの少なくとも１種以上の元素を含有し、該元素の含有量は、原子％で、０．０１％以上、２５％以下であることを特徴とする非晶質カーボン被覆切削工具及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が、小さな摩擦係数で燃料供給ユニットの寿命全体を通して保証される、耐摩耗性コーティング、およびこのようなコーティングの製造方法を提供する。
【解決手段】特に燃料供給ユニット用の、摩擦摩耗に曝された焼結材料からなる機械またはエンジン部品１の所定の表面２上の耐摩耗性コーティングであって、機械またはエンジン部品１の所定の表面２にｓｐ^２およびｓｐ^３混成カーボンを有する少なくとも１つの無金属アモルファス炭化水素層５を含む耐摩耗性コーティングを行う。 （もっと読む）

【課題】 新しいナノ構造物を創生すること。
【解決手段】 ナノメートルサイズの樹木状構造物の表面にナノメートルサイズの微粒子を付着させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、超硬合金の表面に備わる金属機械加工のために改良された性質、及び前記基材の表面上に硬質の耐摩耗性の被膜を有する切削工具を開示する。
【解決手段】前記被膜は物理蒸着法（ＰＶＤ）によって堆積される。前記被膜は、アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）と組み合わされた金属窒化物からなる。前記被膜は、薄層で多層の構造からなる。このインサートは、すくい面及び逃げ面のそれぞれの上に種々の外側層を備えるためにさらに処理される。 （もっと読む）

【課題】難削材の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製切削工具が、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも５〜２０ｎｍの一層平均層厚を有する薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、超硬合金の表面に備わる金属機械加工のために改良された性質、及び前記基材の表面上に硬質の耐摩耗性の被膜を有する切削工具を開示する。
【解決手段】前記被膜は物理蒸着法（ＰＶＤ）によって堆積される。前記被膜は、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）と組み合わされた金属窒化物からなる。前記被膜は、薄層で多層の構造からなる。このインサートは、すくい面及び逃げ面のそれぞれの上に種々の外側層を備えるためにさらに処理される。 （もっと読む）

【課題】 成膜が容易で、高速で成膜可能な低誘電率薄膜を提供する。
【解決手段】気相より、空孔生成材料と、骨格生成材料とを、基板表面に供給する工程と、前記基板表面で、前記骨格生成材料によって生成される骨格が前記空孔生成材料を取り囲むように画定された薄膜を成膜する工程と、前記薄膜から前記空孔生成材料を除去し、空孔を形成する工程とを含み、前記空孔を前記骨格が取り囲むように形成された多孔質薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 ＴｉＡｌＮを主体として構成される硬質積層被膜の耐溶着性を向上させる。
【解決手段】 ＴｉＡｌＮ層２２ａとＴｉＡｌＮ＋ＣｒＢＮの混合層２２ｂとが交互に積層された下地層２２により、優れた耐摩耗性および靱性が得られるとともに、最上部に設けられて表面を構成するＣｒＢＮ層２６は摩擦係数が小さいため、潤滑性すなわち耐溶着性が向上する。また、ＣｒＢＮ層２６の酸化開始温度は約７００℃と高いため、高温環境下でも優れた被膜特性が安定して維持される。したがって、このような硬質積層被膜２０で被覆されたボールエンドミル１０によれば、硬さが低くて溶着し易い鉄系或いは銅合金等の非鉄系の被加工物から５０ＨＲＣ程度の硬さを有する調質鋼等の高硬度材まで、広範囲に亘って優れた切削性能および耐久性能が得られるようになる。 （もっと読む）

【課題】 使用する蒸着材料の種類を少なくした耐熱性の高い反射膜を生成する。
【解決手段】
光源装置１のランプ部２における管球部３には反射膜１０が高屈折率膜と低屈折率膜との交互積層により形成されるが、低屈折率膜には二酸化ケイ素を用いる。高屈折率膜には酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の蒸着材料と低屈折率膜として使用される二酸化ケイ素との混合膜を用いる。真空蒸着法による場合は、低屈折率膜を蒸着するときには蒸発源５１からの二酸化ケイ素のみを蒸着し、高屈折率膜を蒸着するときには蒸発源５１からの二酸化ケイ素と蒸発源５３からの酸化ニオブとを同時に蒸発させて、真空中で混合させて管球部３に形成する。 （もっと読む）

【課題】電子ビームによる蒸発ガスの分子構造変形を防止し、蒸発ガスの蒸発時に一定方向性を提示して被蒸着物に対して均一の蒸着環境を造成し初期蒸発速度が早く、付着性が向上するようにする真空蒸着用蒸発源ハウジングを提供する。
【解決手段】真空蒸着用蒸発源を収容するハウジングにおいて、ハウジング内部に蒸発源が収容されるチャンバーを形成し、該ハウジングの上部に前記チャンバーと外部が通じるように少なくとも一つの排気口を形成するとともに、水平面と前記水平面に対する垂直面を形成する。
【効果】特別な蒸着方法の教育を必要とせず、また蒸着物の膜が均一な分布を成し、その厚さが厚くて耐久性が向上し蒸発ガスが電子ビームに露出かたは干渉することはないので、蒸発ガス固有特性が低下せず、高付着性を実現できる。 （もっと読む）

【課題】技術を複雑化することなく、基板のスパッタ・エッチング時のプラズマ強度を高める装置および方法を提供する。
【解決手段】被覆対象である基板を収容した被覆反応器内、特にＰＶＤ被複システム内で、該基板と少なくとも１つの別の電極との間に直流または交流の電圧を印加して一次プラズマを発生させる際に、該プラズマの活性を向上させる装置において、
熱電子放出器、望ましくはフィラメントを備え、該フィラメントは１本の長いフィラメントであるか、または数本の短いフィラメントを直列または並列またはその組合せにより接続したフィラメントであって、直流または交流またはその組合せによって加熱されることを特徴とするプラズマ活性を向上させる装置。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施例は一般的に材料のスパッタリングに関する。特に、本発明はアーク発生を防ぐために大面積基板の物理気相蒸着処理の間に使用されるスパッタリング電圧に関する。
【解決手段】発明の一実施例は、４００ボルトより低い電圧で四角形基板上で材料をスパッタリングするための装置を記述し、この装置は、四角形基板上で材料をスパッタリングする間に４００ボルトより低い電圧でバイアスされるスパッタリングターゲットと、スパッタリングターゲットを囲む接地シールドを備え、接地シールドとスパッタリングターゲットの間の最短距離がプラズマ暗部の厚さより小さく、スパッタリングターゲットの背面のマグネトロンを備え、マグネトロンの端部は接地シールドに重なり合わなず、スパッタリングターゲットと基板との間に配置され、スパッタリング処理の間に接地されたアンテナ構造体を備えている。 （もっと読む）

【課題】部材面から基板への汚染物質・不純物が少なく膜厚が均質かつ均一で、メンテナンスを行いやすく生産性が高い基板成膜用真空クラスタを提供する。
【解決手段】真空チャンバと、基板の位置決めのための基板ホルダと、基板に成膜するための処理装置と、前記基板ホルダおよび／または基板の表面に平行に相互移動し得るように装着された処理装置搬送機構とを備える真空クラスタにおいて、真空チャンバに、主区画部と少なくとも１つの処理区画部とを設け、処理装置を、真空チャンバの処理区画部内に配置し、基板ホルダおよび／または基板の表面に平行に真空チャンバの主区画部内を相互移動させ得るように装着し、処理装置搬送機構を、真空チャンバの外側に配置し基板ホルダにより処理装置と連結する。 （もっと読む）

【課題】合金鋼の高速歯切加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆高速度工具鋼製歯切工具を提供する。
【解決手段】表面被覆高速度工具鋼製歯切工具が、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｅ＋Ｆ）}Ａｌ_ＥＢ_Ｆ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、上記薄層Ｂは、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｍ＋Ｎ）}Ａｌ_ＭＢ_Ｎ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｔｉ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＢ_Ｙ］Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】製品が77 K、ゼロ磁場で約10⁵ A/cm²より大きい、もしくはこれに等しい輸送臨界電流密度（J_c）を有する、基板上に沈着された0.8ミクロンより大きい厚さを有する酸化物超伝導体被膜を有する酸化物超伝導体製品を提供する。
【解決手段】酸化物超伝導体製品は、金属オキシフッ化物被膜が実質的に化学量論的比率で酸化物超伝導体の構成金属元素を含む、金属オキシフッ化物被膜を提供すること；および製品が77 K、ゼロ磁場で約10⁵ A/cm²より大きい、もしくはこれに等しい輸送臨界電流密度を有する酸化物超伝導体被膜が得られるように、温度、P_H2O、P_O2、及びその組み合わせからなる群より選択される反応パラメータを調節することによって選択される変換速度で、金属オキシフッ化物を酸化物超伝導体に変換すること、によって調製される。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ処理チャンバーのアイソレーションバルブの周囲のプラズマ漏洩を防止する方法及び装置を提供する。
【解決手段】このバルブを接地するための方法及び装置が提供される。一般に、この方法は、導電性エラストマー部材を使用してチャンバーアイソレーションバルブ及び／又はアイソレーションバルブドアを効果的に接地しながら、処理システムの可動部品間の金属対金属接触を回避する。一実施形態では、エラストマー部材は、このバルブのドアに取り付けられて電気的に連通する。エラストマー部材は、ドアが閉位置にあるときにプラズマ処理システムの接地された要素に接触させられる。別の実施形態では、導電性エラストマー部材は、アイソレーションバルブの突っ張り部材に取り付けられ、この突っ張り部材が基板処理中にアイソレーションバルブドアを位置保持するように配置されたときにプラズマ処理システムの接地された要素に接触させられる。 （もっと読む）

【課題】基材と被膜を含む切削工具インサート、ソリッドエンドミル又はドリルを提供する。
【解決手段】被膜は、耐火化合物の１つ又は複数の層から構成され、該耐火化合物の少なくとも１つの層は立方晶の（Ｍｅ，Ｓｉ）Ｘ相を含み、式中、Ｍｅは元素Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｈｆ、Ｔａ及びＡｌのうちの１つ又は複数であり、Ｘは元素Ｎ、Ｃ、Ｏ又はＢのうちの１つ又は複数である。ｃ−ＭｅＳｉＸ相の比Ｒ（Ｘの割合／Ｍｅの割合）は０．５〜１．０であり、ＸはＯ＋Ｂを３０原子％よりも少ない量で含む。本発明は、切りくず厚さが小さく、被削材が硬質である金属機械加工用途、例えば、ソリッドエンドミルを用いた倣いフライス削り、インサートフライス又は硬化鋼のボーリングにおいて特に有用である。 （もっと読む）

【課題】 硬質被膜の耐熱性および耐摩耗性を更に向上させる。
【解決手段】 エンドミル１０の工具母材１２の表面を被覆している硬質積層被膜２０は、ＴｉＡｌＣｒＸ_1-a Ｎ_a （但し、Ｘは炭素または酸素で、混晶比ａは０．５≦ａ≦１）から成る第１被膜層２２と、ＴｉＡｌＣｒＸ_1-b Ｎ_b （但し、混晶比ｂは０．５≦ｂ≦１）およびＴｉＡｌ（ＳｉＣ）Ｘ_1-c Ｎ_c （但し、混晶比ｃは０．５≦ｃ≦１）の混合層から成る第２被膜層２４と、ＴｉＡｌ（ＳｉＣ）Ｘ_1-d Ｎ_d （但し、混晶比ｄは０．５≦ｄ≦１）から成る第３被膜層２６とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】 複雑な計算をすることなく容易に被成膜物に成膜する薄膜の膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜装置により被成膜物（１１）に成膜する薄膜（１１ａ）の膜厚（Ｙ）を予測する膜厚予測方法において、上記成膜装置及び被成膜物（１１）の構成に関するパラメータを用いた、膜厚（Ｙ）の予測式を求め、上記予測式に各パラメータの値を与えることで上記膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）