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Fターム[4K029AA21]の内容

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Fターム[4K029AA21]に分類される特許

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【課題】本発明は、耐熱性超合金及びステンレス鋼を突っ切り加工及び溝切り加工するために、基材及び被膜を含んで成る切削工具インサートに関する。
【解決手段】この基材は、5〜7のCoと、0.15〜0.60wt%のTaCと、0.10〜0.50wt%NbCと、残部WCとからなる。この被膜は、x=0.6〜0.7を備えた均質なAlTi1−xNの層と、1〜3.8μmの厚みとを含んで成る。 (もっと読む)


本発明は硬金属又はサーメットサブストレートボディをPVDでコーティングする方法に関する。この場合には焼結の終ったサブストレートボディは、別の中間処理なしで、PVDコーティングの前に、粒子のブラスト手段を使用して、サブストレートボディの表面に近い領域が、唯一のPVD層又は第1のPVD層の固有応力と少なくともほぼ同じ大きさの固有応力を有するまで粒状のブラスト手段を用いるブラスト処理される。さらに本発明はこのようにコーティングされた硬金属又はサーメットボディ、特に切削工具の形をした硬金属又はサーメットボディに関する。 (もっと読む)


電気又は電子装置を式(I) [式中R1、R2及びR3は独立に水素、アルキル、ハロアルキル又は場合によりハロ置換されたアリールより選択され、またR4はX-R5基であり、式中R5はアルキル又はハロアルキル基であり、またXは結合、式-C(O)O(CH2)nY-で示される基(式中nは1ないし10の整数であり、Yは結合又はスルホンアミド基である)、又は-(O)pR6(O)q(CH2)t-基(式中R6は場合によりハロ置換されたアリールであり、pは0又は1、qは0又は1であり、またtは0であるか又は1ないし10の整数であり、ただしqが1ならばtは0以外である)である。] で示される化合物を含んでなるパルスプラズマに、該装置の表面上に高分子層を堆積させるに足る時間にわたり暴露することによって形成されることを特徴とする高分子被膜を有する電気又は電子装置。この種の装置は液体特に環境液体による損傷から保護される。
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【課題】基板と、切断エッジをもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯に磨耗保護皮膜が設けられている鋸刃の提供。
【解決手段】鋸刃 (15) が基板 (16)と、切断エッジ (3) をもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯 (2) を夫々ひとつもつ複数の歯体 (1) とを示し、このとき、切断歯 (2) には、切断エッジ (3) を覆って拡がる磨耗保護皮膜 (7) が設けられている。切断歯 (2) の切断エッジ (3) は、磨耗保護皮膜 (7) のない状態に関するとき、0,005 mm と 0,045 mm との間の刃半径 (4) を有する。切断エッジ (3) をもち幾何学的に規定された切断形状の切断歯 (2) を製造するために歯体 (1) を研磨し、切断エッジ (3) がほぼ0,005 mm と 0,045 mm との間の、とりわけ、ほぼ0,010 mm と 0,025 mm との間の刃半径 (4) を示すように切断歯 (2) を仕上げ加工し、磨耗保護皮膜 (7) が切断エッジ (3) を覆って拡がるように、切断歯 (2) の上に磨耗保護皮膜 (7) を形成するという手順によって、鋸刃 (15) が製造される。 (もっと読む)


【課題】窒化硼素皮膜の耐摩耗性を維持した状態において、残留圧縮応力を低減させ、更に被覆部材の耐剥離性を改善することが可能な被覆部材を提供する。
【解決手段】基材表面に硼素、窒素、酸素からなる化合物皮膜を被覆した部材であり、該化合物皮膜は、非晶質窒化硼素内に結晶質窒化硼素が分散した組織構造を有し、硼素と酸素との結合を有し、且つ、該化合物皮膜の断面における結晶質窒化硼素の粒子の面積を、円の面積として置き換えた場合の直径である等価円直径として求めた場合、10nm未満であり、を特徴とする被覆部材である。 (もっと読む)


【課題】すぐれた偏光分離特性を有する膜割れのない光学多層膜を実現する。
【解決手段】基板101上に下地層102を介して、低屈折率膜111と、高屈折率膜および中屈折率膜を含む挿入膜112または少なくとも高屈折率膜および中屈折率膜の一方を含む挿入膜112aとを交互に積層した第1の誘電体膜群110を形成する。第1の誘電体膜群110上には、低屈折率膜121と高屈折率膜122を交互に積層した第2の誘電体膜群120を形成する。第1の誘電体膜群110の各低屈折率膜111を、引張応力を有するMgF2 膜と、圧縮応力を有するSiO2 膜を接合した2層構造にすることで、膜内応力を緩和する。 (もっと読む)


【課題】非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する、データ記録で使用される磁気媒体を提供する。
【解決手段】磁気ディスク202は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面204を有する。ディスク202は、より薄い非磁性ギャップ404によって分離された磁気トラック部分402を有する。トラック部分402は、したがって、トラック幅(TW)を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分404は、NiFe、CoFeなどの材料を包含する。非磁性部分は、アルミナ(Al)、Si、Si(ON)などの材料を包含するか、または単に、部分404の磁性材料がトラック部分402に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。 (もっと読む)


【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、(a)Cr硼化物層の表面層、(b)組成式:(Ti1−(X+Y)Al )N(ただし、原子比で、0.45≦X≦0.65、0.01≦Y≦0.10、0.50≦X+Y≦0.70を示す)、を満足するTiとAlとBの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Cr窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Cr窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ra:0.2μm以下としてなる。 (もっと読む)


【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、(a)Cr硼化物層の表面層、(b)組成式:(Ti1−(X+Y)AlSi )N(ただし、原子比で、0.45≦X≦0.65、0.01≦Y≦0.10、0.50≦X+Y≦0.70を示す)、を満足するTiとAlとSiの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Cr窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Cr窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ra:0.2μm以下としてなる。 (もっと読む)


【課題】高級感があり、耐傷付き性に優れ、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、ステンレス鋼被膜に近い、高級感のある白色被膜を有する装飾品を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、最外層として貴金属または貴金属の合金からなる白色色調を有する被膜が乾式メッキ法により形成された装飾品において、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、該下地層の表面に乾式メッキ法により形成された耐摩耗層、および該耐摩耗層の表面に乾式メッキ法により形成された最外層からなる発色層とから構成され、前記発色層は、厚み0.2〜1.5μmの耐摩耗層と厚み0.002〜0.1μmの最外層とからなる、ステンレス鋼色調を有する硬質の白色被膜であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、へこみや傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、高級感のある白色被膜を有する装飾品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の白色被膜を有する装飾品は、金属またはセラミックスからなる装飾品用基材と、該基材表面に形成された下地層と、この表面に乾式メッキ法により形成された炭化チタン層と、この表面に乾式メッキ法で形成されたプラチナまたはプラチナ合金からなる装飾被膜層とで構成される。これにより、上記装飾品は、傷等による外観品質の劣化が起きにくく、しかも、プラチナまたはプラチナ合金被膜特有の色調が得られ、高級感のある白色被膜を有する。 (もっと読む)


【課題】高温環境下であり且つ大きな接触応力が作用するような条件下、又は、高温環境下であり且つ無潤滑下というような厳しい条件下でも好適に使用可能な転動装置を提供する。
【解決手段】アンギュラ玉軸受の玉3はSUJ2で構成されており、玉3の転動面3aには潤滑性を有するDLC層Dが設けられている。DLC層Dは、Cr,W,Ti,Si,Ni,Zr,及びFeのうちの2種以上の金属からなる金属層Mと、前記金属及び炭素からなる複合層Fと、炭素からなるカーボン層Cと、の3層で構成されていて、該3層は表面側からカーボン層C,複合層F,金属層Mの順に配されている。また、複合層F中の炭素の割合は、金属層M側からカーボン層C側に向かって徐々に増加している。さらに、DLC層Dの等価弾性定数は100GPa以上240GPa以下である。さらに、玉3の平均残留オーステナイト量は6体積%以下である。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚の下部層と0.3〜3μmの平均層厚の上部層とからなり、(b)下部層は、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.01〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.01〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層、薄層Bは、組成式:[Cr1−YSi]N(Yは原子比で0.01〜0.1)を満足するCrとSiの複合窒化物層からなる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆切削工具が、超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、(a)いずれも(Ti,Al,B,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は0.5〜1.0μm、前記下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、(b)上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層A及びBは、特定な組成式を満足する(Ti,Al,B,Cr)N層、からなり、(c)上記下部層は、組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlCr]N(ただし、原子比で、Xは0.50〜0.60、Yは0.01〜0.09、Zは0.01〜0.15を示す)を満足する(Ti,Al,B,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、(b)シランカップリング剤、側鎖及び/又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び(c)フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも1種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板上に多層反射防止膜を形成する光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の本発明の薄膜製造方法により薄膜をさらに形成する光学部材の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Aと金属Bの2種類の金属を少なくとも含む合金被膜(但し金属Bは金属Aよりも高蒸気圧である)を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Aの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Aと金属Bを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Aの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を30〜95質量%含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜6μmの平均層厚の下部層と0.3〜3μmの平均層厚の上部層とからなり、(b)下部層は、蒸着形成された、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.02〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ0.01〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XSi]N(Xは原子比で0.02〜0.1)を満足するTiとSiの複合窒化物層、薄層Bは、クロム窒化物(CrN)層からなる。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬基体あるいはサーメット基体の表面に、(Ti,Al,Si,Cr)Nからなる上部層と下部層で構成し、上部層は0.5〜1.0μm、下部層は2〜6μmの平均層厚をそれぞれ有し、上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ5〜20nm(ナノメ−タ−)の薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、上記薄層Aは、特定の組成式:[Ti1−(A+B+C)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、上記薄層Bは、特定の組成式:[Ti1−(P+Q+R)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、からなり、下部層は、単一相構造を有し、特定の組成式:[Ti1−(X+Y+Z)AlSiCr]Nを満足する(Ti,Al,Si,Cr)N層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1−X−Y−ZAlSiCr)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.10、Zは0.01〜0.15を示す)を満足するTiとAlとSiとCrの複合窒化物層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)それぞれ0.1〜1μmの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、1〜5μmの全体平均層厚を有する上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)1〜5μmの平均層厚を有し、かつ、組成式:(Ti1−X−YAlCr)N(ただし、原子比で、Xは0.30〜0.70、Yは0.01〜0.15を示す)を満足するTiとAlとCrの複合窒化物層からなる下部層、(b)0.1〜1.5μmの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、(c)それぞれ0.1〜1μmの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、1〜5μmの全体平均層厚を有する上部層、以上(a)〜(c)で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


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