基板上にコーティングを形成するためにターゲットのスパッタリングを発生させるための装置が提供される。本装置は、カソード及びアノードを具備するマグネトロンを備える。上記マグネトロンには電源が動作可能に接続され、上記電源には少なくとも一つのキャパシタが動作可能に接続される。本装置は、また、上記少なくとも一つのキャパシタに動作可能に接続されたインダクタンスを備える。第１のスイッチは、上記マグネトロンを充電させるために上記マグネトロンに上記電源を動作可能に接続し、上記第１の電源は、第１のパルスにより上記マグネトロンを充電させるように構成される。第２のスイッチは、上記マグネトロンを放電させるために動作可能に接続される。第２のスイッチは、第２のパルスにより上記マグネトロンを放電させるように構成される。
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【課題】低温の気相成長法で形成可能な親水性積層構造を備えた物品を提供する。
【解決手段】表面に微小凹凸形状が形成された基材１、２と、親水性材料膜３とを有する物品であって、親水性材料膜３の表面形状は、基材１、２の表面形状にならった凹凸形状である。基材２と親水性材料膜３との間には、親水性材料膜３の成膜時に基材２の微小凹凸形状を保護するための中間層６が配置されている。この構造により、親水性材料膜３を成膜する際に、中間層６が基材の微小凹凸形状を保護する作用をするため、高密度プラズマを用いた低温の気相成長法で親水性材料膜６を形成可能になる。 （もっと読む）

【課題】基板の凹状成膜面における膜厚が均一で分光特性のばらつきが少なく、生産性が良く低コストで製造可能な薄膜の形成方法及びカルーセル型スパッタリング装置を提供すること。
【解決手段】所定の真空度に保たれたチャンバ内に、ターゲットとこのターゲットの前方に回転可能に基板ホルダを設け、前記基板ホルダに保持した凹状成膜面を有する基板の凹状成膜面に、前記基板ホルダを回転させ前記ターゲットの前方を横断させて、薄膜を形成するカルーセル型スパッタリング装置を用いた薄膜の形成方法であって、前記基板ホルダの上下部に保持された凹状成膜面を有する基板が前記ターゲットと対向する位置関係において、前記ターゲットに対面する前記基板の基板面はターゲットの中心方向に傾斜して保持される。 （もっと読む）

【課題】動圧軸受の内孔壁の微細な溝の加工の困難度を改善することができ、より良い耐磨耗性を有するフォトリソグラフィー技術を用いた動圧軸受とその製造方法する。
【解決手段】内孔を有する軸受本体１を提供するステップ、軸受本体１の内孔壁の表面にフォトレジストを塗布するステップ、フォトレジストが露光された、表面に動圧溝パターンのマスクを有するランプを軸受本体の内孔の中に設置し、露光を行うステップ、フォトレジストに現像を行い、一部のフォトレジストを取り除き、内孔壁を露出するステップ、フォトレジストの保護を受けていない内孔壁上に、堆積層５０を形成するステップ、および内孔壁上に残留しているフォトレジストを取り除き、内孔壁上に動圧溝１２を形成するステップを含む動圧軸受の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い熱伝導率を有する金属膜中に透明誘電体粒子を分散させた優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜を、安定かつ高い作業効率で成膜可能な光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】半透過反射膜２５ａを構成する金属膜４０と同一材料の金属ターゲット４０ａの成膜粒子生成部位４５に、透明誘電体粒子４２と同一材料の複数の透明誘電体チップ４２ａとを配設したターゲット４４をスパッタリング装置に用いることで、金属膜４０中に透明誘電体粒子４２が分散した優れた放熱特性と高い透過率を有する半透過反射膜２５ａを、作業効率良く安定して成膜することができる。また、金属ターゲット４０ａの成膜粒子生成部位４５に配設する透明誘電体チップ４２ａが占める面積の割合を変化させることで、半透過反射膜２５ａの透過率の制御を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】比較的簡易なプロセスで、物品の表面に親水撥油性を付与することができ、しかも該親水撥油性の耐久性が良好である物品の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス、セラミックスおよびプラスチックからなる群から選択される材料からなる被処理物品の表面を、（Ａ）パーフルオロカーボンと、（Ｂ）酸素原子を有し、Ｃ−Ｈ結合およびハロゲン原子のいずれも有しない酸素含有化合物とが存在する雰囲気中で放電処理することによって、前記被処理物品の表面上に膜を形成する工程を有することを特徴とする物品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のクロム酸のような化学薬品を使用せず、乾式法により樹脂成形品に樹脂表面粗化をすると共に導電性を付与することで、このような化学薬品による樹脂成形品の樹脂表面の薬品劣化を防止し、一方このような環境負荷が大きい化学薬品を使用せず、環境負荷物質の削減を図り、また樹脂めっき品の表層剥離を防止してその安全性は確保する。
【解決手段】樹脂成形品の表面をプラズマ処理で洗浄及び表面改質活性化する樹脂表面洗浄・活性化工程Ｓ１と、次に、樹脂成形品の表面に金属をスパッタリングにより成膜する金属薄膜成膜工程Ｓ２と、続いて、樹脂成形品に成膜した金属薄膜上にスパッタリングによりニッケル又は銅等の導電化膜を成膜する導電化膜成膜工程Ｓ４と、最後にこの樹脂成形品を電気めっきする電気めっき工程とから成る。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】コンタクトホールやヴィアホールの導通抵抗を低下させる。
【解決手段】ターゲット２０と成膜対象物１７の間の空間をアノード電極４で取り囲み、アノード電極４に印加する正電圧と、成膜対象物１７に印加する負電圧とを制御し浅穴の底面の堆積速度がエッチング速度よりも大きい状態を維持しながら、深穴の底面では、エッチング速度を堆積速度以上の大きさにする。深穴底面にバリア膜を形成せずに、浅穴底面、及び深穴と浅穴の側面にバリア膜を形成することができるので、銅配線膜が深穴底面下の導電性物質と直接接触でき、導通抵抗が低下する。 （もっと読む）

【課題】１０００℃を超える高温の還元性ガス雰囲気中においても、優れた還元性ガス反応抑制効果を発揮し、製品寿命を大きく延ばすことができる還元性雰囲気炉用炭素複合材料を得る。
【解決手段】本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料は、タンタル微粒子を、炭素を含む反応性ガス粒子と共に、黒鉛基材の表面に付着させることによって、前記表面に炭化タンタル微粒子を積層してなる結晶組織の炭化タンタルの被膜を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属調の凹凸感をもった加飾がなされるとともに凹凸感の無い非金属調加飾が混在した金属調加飾成形体の提供。
【解決手段】透明樹脂１３に設けた凹凸模様１３ｂの一部に非金属着色層１６を積層してなる非金属調加飾部を有し、該凹凸模様１３ｂの他の部位に金属薄膜層１４を積層してなる金属調加飾部を有する金属調加飾成形体１１であり、該凹凸模様１３ｂを形成する透明樹脂の凹凸高さを０．１μｍ〜５．０μｍ、物理的蒸着法により形成される金属薄膜層１４の層厚を１０ｎｍ〜３５ｎｍとした。そのため、この凹凸模様１３ｂの凹凸に沿って直接金属薄膜層１４を設けるだけで凹凸模様１３ｂを視認させることができ、その一方で、凹凸に沿って直接非金属着色層１６を設けるだけで凹凸模様１３ｂを視認させないことができる。 （もっと読む）

【課題】表面粗度が大きい金属基材に対しても適用可能であり、優れた撥水性を有し、加熱されてもその優れた撥水性を維持することができる皮膜構造及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】皮膜構造１は、金属基材１０の表面にフッ素を含有してなるフッ素系皮膜１２を有する。金属基材１０上には、金属基材１０の表面を平滑化するための表面平滑化層１１が形成されており、表面平滑化層１１上には、フッ素系皮膜１２が形成されている。表面平滑化層１１は、ＮｉＰ中にＰＴＦＥ粒子が分散されてなるＮｉＰ／ＰＴＦＥ複合めっき皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 構造底部のバリア材料厚と比べると、構造側壁においてより厚いバリア材料被覆範囲を有する相互接続構造体、及び、そのような相互接続構造体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 構造底部のバリア材料厚と比べると、構造側壁においてより厚いバリア材料被覆範囲を有する相互接続構造体、及び、そのような相互接続構造体を製造する方法が提供される。本発明の相互接続構造体は、従来のＰＶＤプロセス、従来のイオン化プラズマ堆積、ＣＶＤ、又はＡＬＤによってバリア材料が形成される従来技術の相互接続構造体と比べると、半導体業界のための改善された技術拡張性を有する。本発明によると、構造底部のバリア材料厚（ｈ_ｔ）より厚い、構造側壁のバリア材料厚（ｗ_ｔ）を有する相互接続構造体が提供される。すなわち、本発明の相互接続構造体において、ｗ_ｔ／ｈ_ｔ比は、１００％に等しいか又はそれより大きい。 （もっと読む）

【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、（ａ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｃｒ_{１−Ｘ−Ｙ−Ｚ}Ａｌ_ＸＶ_ＹＳｉ_Ｚ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３０〜０．７０、Ｙは０．０１〜０．１０、Ｚは０．０１〜０．１０を示す）を満足するＣｒとＡｌとＶとＳｉの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）それぞれ０．４〜２μｍの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、各層間には０．０２〜０．２μｍの一層平均層厚を有する酸窒化バナジウム層を介在させた、１〜５μｍの全体平均層厚を有する上部層、以上（ａ）、（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】オーバハング部分を生ぜしめることなく凹部の内壁面に十分な厚さのシード膜やバリヤ層等の薄膜を形成することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】真空引き可能になされた処理容器２４内でプラズマにより金属ターゲット７０をイオン化させて金属イオンを発生させ、前記金属イオンを前記処理容器内の載置台３４上に載置した表面に凹部２，４を有する被処理体へバイアス電力により引き込んで前記凹部内を含む前記被処理体の表面に薄膜を形成するようにした成膜方法において、前記バイアス電力を、前記被処理体の表面が実質的にスパッタされない領域下にて変化させるようにする。これにより、オーバハング部分を生ぜしめることなく凹部の内壁面に十分な厚さのシード膜やバリヤ層等の薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、（ａ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｃｒ_{１−Ｘ−Ｙ}Ａｌ_ＸＶ_Ｙ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３０〜０．６０、Ｙは０．０５〜０．３０を示す）を満足するＣｒとＡｌとＶの複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）それぞれ０．４〜２μｍの一層平均層厚を有する窒化バナジウム層と酸化バナジウム層の交互積層構造からなり、かつ、各層間には０．０２〜０．２μｍの一層平均層厚を有する酸窒化バナジウム層を介在させた、１〜５μｍの全体平均層厚を有する上部層、以上（ａ）、（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】高温下での剥離を抑制でき、高い熱遮蔽効果を有する遮熱コート材料、遮熱コーティング部材とその製造方法、遮熱コーティング材により被覆されたタービン部材を提供する。
【解決手段】耐熱基材２１と、ボンドコート層２２と、該ボンドコート層上に形成されたセラミックス層２４とを含んでなる遮熱コーティング部材であって、該セラミックス層２４が、一般式Ａ_２Ｚｒ_２Ｏ_７で表される酸化物にＣａＯ及びＭｇＯの少なくとも一方を所定量ドープしてなる酸化物を含み、かつ１０体積％以上のパイロクロア型結晶構造を有する。または、前記セラミックス層２４が、一般式Ａ’_１Ｂ_１Ｚｒ_２Ｏ_７又は一般式Ａ”_２Ｃｅ_２Ｏ_７で表される酸化物を含む。但し、ＡはＬａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ又はＤｙのいずれかを表し、Ａ’及びＢはそれぞれＬａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｄｙ、Ｃｅ又はＹｂのいずれかの互いに異なる元素を表し、Ａ”はＬａ、Ｓｍ又はＹｂのいずれかを表す。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、微細孔を有する基材に対してもボトムカバレージの向上した膜を形成することのできる基材保持装置を提供する。
【解決手段】真空成膜槽に用いられる基材保持装置であって、前記真空成膜槽の外部に設けられた駆動源１４と、該駆動源１４に取り付けられ前記真空成膜槽１に対し気密的に摺動自在に配設された駆動部材１３と、該駆動部材１３に取り付けられ、平面視においてその外周が実質的に円形に形成されかつ側面視において実質的に平板状に形成された基材ホルダ１１と、を備え、前記駆動源１４が、その駆動力を前記駆動部材１３に伝達することによって前記駆動部材１３を往復動させることにより、前記基材ホルダ１１を回転させずにその厚み方向に揺動させる。 （もっと読む）

【課題】複雑な表面形状の基材表面に所望の色で、かつ均一な色で成膜できる金属酸化物被膜及び金属酸化物被膜被覆部材を提供する。
【解決手段】金属酸化物被膜は、金属酸化物を主成分とする無機顔料からなる金属酸化物被膜であって、前記金属酸化物が、アルミニウム（Ａｌ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、鉄（Ｆｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、マンガン（Ｍｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、アンチモン（Ｓｂ）、シリコン（Ｓｉ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、タングステン（Ｗ）、亜鉛（Ｚｎ）の中から選ばれる少なくとも２つの金属の酸化物を主成分とし、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥ表色系）による色評価が４０＜Ｌ＊＜１００、２５＜ａ＊＜６０、−２５＜ｂ＊＜６０の範囲の色度であり赤色系の色を呈し、高周波スパッタリング法によって形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】塩素フリー型水溶性切削油剤を用いて、溶着が生じ易いステンレス鋼の被削材にねじ立て加工を行う場合でも、溶着が抑制されて安定した切削性能が得られる高寿命の硬質被膜被覆タップを提供する。
【解決手段】スパイラルタップ１０の首部１４およびねじ部１６には、摩擦係数が小さくて高硬度のＣｒ含有ベース層３２が工具母材２８の表面に設けられるとともに、それよりも更に摩擦係数が低くて優れた潤滑性を有するＤＬＣ被膜３４がＣｒ含有ベース層３２の上にコーティングされているため、優れた耐溶着性、耐摩耗性が得られるようになる。これにより、溶着が生じ易いステンレス鋼の被削材に塩素フリー型水溶性切削油剤を用いてねじ立て加工を行う場合でも、溶着が抑制されて安定した切削性能でねじ立てが行われるようになり、工具寿命が向上する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの記録層を有し、表面が充分に平坦で、記録／再生特性が良好な磁気記録媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１２の上に所定の凹凸パターンで形成されて凸部として記録要素３２Ａが形成された記録層３２及び記録層３２の上に形成された被検出材４４を有する被加工体１０の上に充填材３６を成膜して凹部３４を充填し、被加工体１０の表面に加工用ガスを照射して記録要素３２Ａの上面よりも上側の充填材３６及び被検出材４４を除去して表面を平坦化し、被加工体１０から除去されて飛散する被検出材４４に含まれる元素を検出して該被検出材４４に含まれる元素の検出結果に基いて加工用ガスの照射を停止する。被検出材４４としてＡｌ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｔｂ、Ｔａ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗのいずれかの元素を含む材料を用いる。 （もっと読む）