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リードフレーム、配線材料 (490)
Fターム[4K029BD01]に分類される特許
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スパッタリングターゲットおよびその製造方法、並びにトランジスタ
【課題】酸化物半導体膜を成膜する成膜技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】金属酸化物の焼結体を含み、その金属酸化物の焼結体の含有水素濃度が、たとえば、1×1016atoms/cm3未満と低いスパッタリングターゲットを用いて酸化物半導体膜を形成することで、H2Oに代表される水素原子を含む化合物、もしくは水素原子等の不純物の含有量が少ない酸化物半導体膜を成膜する。また、この酸化物半導体膜をトランジスタの活性層として適用する。
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排気系が組み込まれたプロセスチャンバ
【課題】プロセスチャンバとポンプとの間のバルブや導管に起因するコンダクタンス損失を低減または解消し、かつ、ポンプをプロセスチャンバのプロセス空間に流入する気体分子の気体分子源に対して最適な位置に配置することができるプロセスチャンバシステムを提供する。
【解決手段】本発明のプロセスチャンバシステム500は、プロセス空間514を有するプロセスチャンバと、プロセスチャンバに着脱可能に取り付けられた複数の冷凍機502と、冷凍機502に着脱可能に取り付けられた複数のアレイ504とを備える。冷凍機502とアレイ504とがプロセスチャンバ内に延在して、プロセス空間514内に排気面を形成している。この排気面は、プロセス空間に連通する気体分子源の近傍に配置され得る。
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発光装置の作製方法
【課題】不純物を含まない良質な薄膜を成膜することができるスパッタリング装置、前記スパッタリング装置を用いた良質な薄膜の作製方法の提供する。
【解決手段】半導体材料に代表されるターゲット材と、前記ターゲット材と同じ材質の溶射物に被覆された部品を具備するスパッタリング装置を用いて、希ガスを含む雰囲気中で高周波電力を印加して、前記ターゲット材を用いて半導体層の成膜を行う発光装置の作製方法。
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窒化膜の形成方法、酸窒化膜の形成方法、窒化膜のスパッタリング方法、ゲート絶縁膜の形成方法
【課題】実質的なリーク電流を生じることなく膜厚を減少させることができる高品質で均一な酸化膜、窒化膜あるいは酸窒化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に絶縁膜を形成する工程と、前記絶縁膜をKrあるいはArを不活性ガスとしたプラズマに伴い生成された原子状酸素O*あるいは原子状窒化水素NH*に曝し、膜質を改変する工程とよりなる絶縁膜の形成方法を提供する。
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抵抗体材料、抵抗薄膜形成用スパッタリングターゲット、抵抗薄膜、薄膜抵抗器、およびこれらの製造方法。
【課題】相対的に低い温度の熱処理によっても、比抵抗、抵抗温度特性、高温安定性、耐塩水性のいずれにも優れた薄膜抵抗器、およびその製造のための抵抗体材料および製造方法を提供する。
【解決手段】Cr、AlおよびYから選択される1種以上の添加元素を10〜60質量%含有し、残部がNiと不可避不純物からなるNi合金に、SiO2を主成分とし、B、Mg、Ca、Ba、Al、Zrおよびこれらの酸化物から選択される1種以上を0〜90質量%含有するシリケート系ガラスが3〜20質量%添加されている抵抗体材料を使用する。
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半導体素子、及び半導体装置の作製方法、並びに成膜装置
【課題】水素原子や炭素原子等の不純物の含有量が少ない薄膜を成膜する成膜装置を提供することを課題の一とする。また、該不純物の含有量が少ない薄膜を成膜する成膜方法を提供することを課題の一とする。また、該不純物の含有量が少ない酸化物半導体膜を用いた信頼性の高い半導体素子を作製する方法を提供することを課題の一とする
【解決手段】H2Oに代表される水素原子を含む化合物や炭素原子を含む化合物、もしくは水素原子や炭素原子等の不純物の含有量が少ない薄膜を成膜する成膜装置を提供できる。また、該不純物の含有量が少ない薄膜を成膜する成膜方法を提供できる。また、該不純物の含有量が少ない酸化物半導体膜を用いた信頼性の高い半導体素子を作製する方法を提供できる。
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半導体製造装置および流量制御装置
【課題】半導体製造装置のガスの流量制御は、マスフローコントローラによって行われている。ここで使用される流量調整バルブは、流量を調整することに重点が置かれているため、閉鎖時にも微小ながらガスが流出する。このため、流量調整バルブの出力側に閉鎖特性の良好な開閉バルブが挿入されている。しかし、流量調整バルブと開閉バルブ間の流路系には、一定の容量を有するため、流量調整バルブが閉鎖されている間に、この流路系の圧力が流量調整バルブのリークを介して、上昇するという問題がある。このような出力側バルブ間空間の圧力上昇は、次に、開閉バルブが開いたときに、ガス被供給系への余剰のガス供給の原因となる。
【解決手段】本願発明は、マスフローコントローラのガス排出側の流量制御バルブと開閉バルブ間の圧力を計測することで、流量制御バルブの閉鎖時のリークガス流量を検知可能とした半導体製造装置である。
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Cu(In,Ga)X2薄膜のカソードスパッタ堆積
本発明は、化学式Cu(In,Ga)X2(ここで、XはSまたはSe)を有する半導体材料から成る膜を堆積させるための方法および装置に関する。本発明の方法は、少なくとも1つのスパッタリングターゲットから基板の少なくとも1つの表面上にCu,InおよびGaをカソードスパッタ堆積させることを含み、加えて、カソードチャンバ内の前記表面上に蒸気相にあるXを同時堆積させることを含む。Xまたは後者の前駆物質の蒸気形態は、第1のガス層流の形態で移動させられ、その進行経路は基板表面に平行であり、かつ後者と接触し、しかも不活性ガスに対する第2のガス層流の形態で同時に移動させられ、その進行経路は第1のガス層流と平行であり、かつ第1ガス層流の進行経路とスパッタリングターゲットの表面との間に設置され、これによって、第1のガス層流が基板の周りの領域に制限されることが可能となる。 (もっと読む)
単結晶ダイヤモンド上にPZT薄膜を形成する方法、PZT薄膜が形成された単結晶ダイヤモンド、及びPZT薄膜が形成された単結晶ダイヤモンドを使用したキャパシタ
【課題】強誘電性を示すペロブスカイト構造のPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)薄膜をダイヤモンド単結晶上に直接成長させることが困難なため、従来技術では、酸化物薄膜(例えばAl2O3/SrTiO3連続膜)を緩衝層として用いていたが、強誘電特性は不十分であった。
【解決手段】ダイヤモンド単結晶基板またはエピタキシャル薄膜上にフッ化物(CaF2、BaF2、MgF2の内一つ)を緩衝層として用いることにより、抗電界を同じ大きさ(33kV/cm)に保ちながら、従来の2倍の残留分極電荷(68μC/cm2)を持つ優れた強誘電性のPZT薄膜を提供する。更に、p型ダイヤモンド(13)/フッ化物(14)/PZT(15)/金属(16)構造からなるキャパシタを提供する。
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半導体装置
【課題】素子特性の劣化を可及的に防止することのできる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板51と、半導体基板上に設けられたゲート絶縁膜53と、ゲート絶縁膜上に設けられた第1ゲート電極54aと、第1ゲート電極上に設けられ金属および酸素を含む電極間絶縁膜55と、電極間絶縁膜上に設けられた第2ゲート電極54bと、第1および第2ゲート電極の両側の半導体基板に設けられたソース/ドレイン領域58a、58bと、を備え、電極間絶縁膜55は、リン、砒素、アンチモン、ビスマスのうちから選択された少なくとも1つの添加元素を含み、その含有量が0.1at%以上3at%以下である。
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酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタおよびその製造方法
【課題】オフ特性およびキャリア移動度に優れた、高品質の、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の薄膜トランジスタは、ソース電極と、ドレイン電極と、ゲート電極と、ゲート絶縁膜と、酸化物半導体からなる活性層とを備えてなる。そして、活性層とソース電極の間および活性層とドレイン電極の間には、炭素製のバッファ層が設けられてなる。
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長期成膜時の安定性に優れたIn−Ga−Zn−O系酸化物焼結体スパッタリングターゲット
【課題】長期に渡る成膜を行った際に、得られる薄膜の特性の安定性に優れたスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】In、Zn、及びGaを含み、表面と内部の化合物の結晶型が実質的に同一である酸化物焼結体からなり、下記(a)〜(e)の工程で製作されたスパッタリングターゲット。(a)原料化合物粉末を混合し、調製(b)混合物6.0mm以上に成形(c)3℃/分以下で昇温(d)1280〜1520℃で2〜96時間(e)表面を0.25mm以上研削
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化合物結晶の製造方法
【課題】より安価に化合物結晶を製造することができる化合物結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】種結晶5の表面の少なくとも一部と塊状の固形物からなる固体原料3の表面の少なくとも一部とが間隔を空けて互いに向かい合うように種結晶5と固体原料3とを配置する工程と、固体原料3を加熱する工程と、固体原料3の加熱により固体原料3が昇華して発生した昇華ガスを、互いに向かい合っている種結晶5の表面と固体原料3の表面との間の領域から実質的に外部に漏洩させずに種結晶5の表面上に化合物結晶を成長させる工程と、を含む、化合物結晶の製造方法。
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半導体装置及び半導体装置の作製方法
【課題】安定した電気的特性を有する酸化物半導体を用いた半導体装置を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】フッ素や塩素に代表されるハロゲン元素により、酸化物半導体層に含まれる水素や水分(水素原子や、H2Oなど水素原子を含む化合物)などの不純物を、酸化物半導体層より排除し、上記酸化物半導体層中の不純物濃度を低減する。ハロゲン元素は酸化物半導体層と接して設けられるゲート絶縁層及び/又は絶縁層に含ませて形成することができ、またハロゲン元素を含むガス雰囲気下でのプラズマ処理によって酸化物半導体層に付着させてもよい。
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In−Ga−Zn系酸化物焼結体スパッタリングターゲット及び薄膜トランジスタ
【課題】大面積で均一な薄膜トランジスタパネルの製造が可能なIn−Gn−Zn系酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】In(インジウム)、Zn(亜鉛)、Ga(ガリウム)及びSn(錫)を含有し、Sn(錫)の原子比が下記式を満たす酸化物焼結体。
0.01<Sn/(In+Ga+Zn+Sn)<0.10
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In−Ga−Zn−O系スパッタリングターゲット
【課題】還元処理を行わなくても比抵抗が低い、酸化物半導体膜形成用のターゲットを提供する。
【解決手段】In,Ga及びZnを含み、周囲よりもInの含有量が多い組織と、周囲よりもGa及びZnの含有量が多い組織を備えている酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。さらにIn、Ga及びZnの原子比が下記の式を満たす、酸化物焼結体からなるスパッタリングターゲット。0.20≦In/(In+Ga+Zn)≦0.700.01≦Ga/(In+Ga+Zn)≦0.500.05≦Zn/(In+Ga+Zn)≦0.60
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スパッタリングターゲット及びそれを用いた薄膜トランジスタ
【課題】Gaの含有量がInの含有量に比べ低い領域において、単一の結晶構造を主成分として有するスパッタリングターゲットに使用できる焼結体を提供する。
【解決手段】In、Ga、Znを0.28≦Zn/(In+Zn+Ga)≦0.38、0.18≦Ga/(In+Zn+Ga)≦0.28の原子比で含む酸化物であって、InGaO3(ZnO)で表されるホモロガス結晶構造を有する化合物を主成分とする酸化物からなる焼結体。
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基板ホルダおよびクリッピング装置
【課題】本発明の目的は、微粒子による汚染を減少させることのできる基板ホルダを提供することである。
【解決手段】本発明は、基板支持体と、第1の位置においては支持体上に配置された基板と係合し、別の位置においては基板から離れて配置されるように構成された可動クリッピング手段と、クリッピング手段を第2の位置から第1の位置へ動かすための位置決め手段とを備えた基板ホルダに関する。基板が支持体上に配置されていないときにクリッピング手段と支持体との接触を防止するために、弾性停止要素が使用され、この弾性停止要素は、クリッピング手段の運動を制限する。さらに本発明は、これらの基板ホルダおよびクリッピング装置を使用したクリッピング装置およびイオン注入装置に関する。
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真空容器のベーキング方法
【課題】真空容器のベーキング時間を短縮させたベーキング方法を提供することを目的とする。
【解決手段】真空容器の排気を行う工程と、真空容器に不活性ガスを導入する工程と、を繰り返すサイクルを有する真空容器のベーキング方法であって、
前記真空容器の排気は、前記真空容器に設けた排気コンダクタンス可変のスロー排気バルブを介して行い、前記スロー排気バルブの排気コンダクタンスを、前記サイクルの直前のサイクルにおける排気コンダクタンスより大きく設定することを特徴とする。
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半導体素子の製造方法
【課題】広い範囲で制御された組成比を有し、結晶性が優れる化合物半導体の膜を用いた半導体素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上にn型半導体およびp型半導体を含むように積層して構成された半導体素子の製造方法であって、異なるIII族元素による少なくとも2つのターゲット(第1ターゲット21および第2ターゲット22)を、V族元素を含むガスによりスパッタリングして、基板110上にIII−V族の化合物半導体の膜を形成する工程を含む。
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