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Fターム[4K029CA01]の内容

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【課題】基板に蒸着材料を付着して光学薄膜を形成するハースライナーにおいて、電子銃からの電子ビームを蒸着材料に照射して溶融・気化する際に生じる突沸(スプラッシュ)を防止する。
【解決手段】電子銃から電子ビームを蒸着材料に照射して基板に光学薄膜を形成する真空蒸着装置のハースライナー1において、該ハースライナー1の蒸着材料収納部2の断面形状が、浅い半円形(球)状(おわん状)であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】分割マスクとその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置を提供する。
【解決手段】蒸着用パターンが設けられたスティック本体と、スティック本体の長手方向に沿って延びた第1クランピング部と、スティック本体の長手方向と幅方向との間の斜め方向に沿って延びた第2クランピング部と、を備える分割マスク及びその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置である。これにより、マスクフレーム組立体の組立時、第1、2クランピング部を利用して、長手方向だけでなく、幅方向にも引張力を与えることができるので、ウェーブの発生を抑制して精密なマスクフレーム組立体を作りうる。 (もっと読む)


【課題】有機層の性能の変動が抑制された、高品質な有機機能性素子を効率的に製造し得る有機機能性素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】気化された有機層形成材料をノズルから吐出させることにより、該ノズルに対して相対的に移動する基材21上に有機層を形成する蒸着工程を含む有機機能性素子の製造方法であって、前記ノズルの開口部9aaと前記基材との間に介在され、互いに並列し且つ前記基材の移動方向に対して交差する方向に配置された複数の線部材31を有する蒸着量調整部材を用い、基材移動方向と垂直な開口部幅方向において、該開口部の中央部から両端部へ向かう程、前記線部材同士の間隔が大きくなるように前記線部材を配置し、前記線部材間において前記開口部から吐出された有機層形成材料を通過させつつ、前記蒸着工程を行う。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、真空蒸着チャンバを開くときの待ち時間を短縮できる蒸着源又は前記蒸着源を用い稼働率の高い有機ELデバイス製造装置及び有機ELデバイス製造装置の運転方法を提供することである。
【解決手段】
内部に蒸着材料を内在する坩堝と、前記蒸着材料を加熱し蒸発・昇華させる加熱手段と、前記蒸発・昇華した前記蒸着材料を噴射する蒸着物噴射口とを有する蒸着源において、前記坩堝の外面のうち蒸着物噴射口ない外面と前記蒸発源の筐体との間に存在する部材の一部を除去可能な除去可能部を有することを第1の特徴とする。また、本発明は、前記除去可能部が移動した前記蒸発源の開口部に挿入可能であって内部に冷却材が供給され、前記冷却材を排出する坩堝冷却体と、前記坩堝冷却体を前記開口部に挿入する坩堝冷却体挿入手段とを有することを第2の特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸着膜を均一な厚みで成膜しつつ、蒸着材料の使用効率および処理効率を向上させることができる電子ビーム蒸着装置を提供する。
【解決手段】上記電子ビーム蒸着装置10は、チャンバ11と、搬送機構12と、容器17と、マスク19と、電子ビーム形成機構15とを具備する。搬送機構12は、チャンバの内部で基板Sを支持する支持部材13と、支持部材を第1の方向に搬送する駆動源14とを有する。容器17は、蒸着材料Mを収容する。マスク19は、支持部材13と容器17との間に配置され、支持部材13に支持された基板Sに対する蒸着材料Mの成膜領域を規制する。電子ビーム形成機構15は、電子銃16を含み、マスク19側から容器17側へ向かう第2の方向より、電子ビームeが容器17へ入射するビームラインを形成する。 (もっと読む)


【課題】十分な光量を透過できるとともに高いブラインド効果を得ることができるシート材であって、高い遮光性、遮熱性と高い視認性のいずれもを兼ね備えた光透過性シート材を提供する。
【解決手段】総繊度が10〜330dtexの合成繊維を用いてカバーファクターを500〜4000にした織編物の片面に金属層を設けており、反対面は金属層を設けずしてなるシート材であり、該シート材の前記片面から前記反対面への可視光透過率が5〜50%、且つ前記反対面の可視光反射率が30%以下である光透過性シート材。 (もっと読む)


【課題】分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法を提供する。
【解決手段】パターンが形成された本体部と、本体部の一側から延びた少なくとも一つ以上のサイドクランピング部と、前記少なくとも一つのサイドクランピング部の最外郭のサイドクランピング部に隣接して配される斜めクランピング部と、を備え、斜めクランピング部とサイドクランピング部とがなす角度(θ)は、0°より大きく90°より小さい(0°<θ<90°)分割マスク及びこれを利用したマスクフレーム組立体の組立方法。 (もっと読む)


【課題】複数のスティック型分割マスクが採用されるマスクフレーム組立体を提供する。
【解決手段】フレームに互いに交差して設けられ、その交差位置は互いに溶接で固定された支持バー及び分割マスクを備え、その溶接点の周囲には分割マスクの一部を切除した部分切除部が形成されるマスクフレーム組立体。かかる構造によれば、支持バーで分割マスクの下反りを防止でき、基板と分割マスクとの密着性も向上させることができるマスクフレーム組立体が具現される。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置を用いた成膜技術において、蒸発源への蒸着材料の供給を容易とすることにより作業者への負担を低減し、また、蒸着膜の組成や厚さ等の再現性を向上させる。
【解決手段】坩堝11は、蒸発源の筐体の内部に固定された坩堝本体11Aと、坩堝本体11Aの内側に収納される坩堝材料室11Bと、から構成され、坩堝本体11Aは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11A1と側面部11A2と上面部11A3とから成り、坩堝材料室11Bは、主に、それぞれ所定の厚みを有する底面部11B1と側面部11B2f,11B2s,11B2s,11B2bとから成り、坩堝本体11Aの側面部11A2を設けていない開口領域から、坩堝材料室11Bを坩堝本体11Aの内側に出し入れすることができ、坩堝材料室11Bの側面部11B2fに、複数の吹き出しノズル12が設けられている。 (もっと読む)


【課題】フィルムにした際に、蒸着強度、耐ブロッキング性およびヒートシール強度に優れ、溶媒抽出成分量の少ない蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物を提供する。
【解決手段】プロピレンに由来する構造単位が主な構造単位であるプロピレン系重合体成分(成分(A))60〜90重量%と、エチレンに由来する構造単位の含有量が20〜40重量%であり、極限粘度([η]B)が3〜8dL/gであるプロピレン−エチレン共重合体成分(成分(B))10〜40重量%とを含む蒸着フィルム用ポリプロピレン系樹脂組成物(但し、成分(A)と成分(B)との合計の重量を100重量%とする。)。 (もっと読む)


【課題】基材と蒸着源との距離を短くしつつ、発光色の変動が抑制された、高品質な有機EL素子を効率的に製造し得る有機EL素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】気化された有機層形成材料をノズルから吐出させることにより、該ノズルに対して相対的に移動する基材上に有機層を形成する蒸着工程を含み、前記有機層からなり基材移動方向に対して垂直な方向の幅A(mm)を有する発光領域を形成する有機EL素子の製造方法であって、前記ノズルの開口部における前記基材移動方向と垂直方向の長さをW(mm)、前記開口部と前記基材との距離をh(mm)とするとき、W≧A+2×h(但し、h≦5mmである。)を満たすようにして前記蒸着工程を行なうことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】薄膜蒸着用のマスクフレームアセンブリーを提供する。
【解決手段】蒸着用基板に蒸着しようとする素材を蒸着するためのものであって、開口部が形成され、開口部を取り囲む複数のフレームが互いに連結されたマスクフレーム;マスクフレーム上に結合されるマスク;を備えるが、マスクの少なくとも一領域には変形防止部が形成されたものであって、マスクの蒸着用パターン部の周辺部に変形防止部が形成されることで、マスクの垂直方向の変形を低減させることができる。これにより、基板へのマスクの密着不良を最小化する。 (もっと読む)


【課題】坩堝同士の汚染を防止する。
【解決手段】
蒸発材料3が収められた複数の坩堝を備え回転軸を中心に回転する回転テーブル2と、電子ビーム照射位置に位置する一つの坩堝7に対して電子ビームを照射して坩堝7の蒸発材料3を蒸発させる電子銃1と、回転テーブル2の上側に複数の坩堝7を覆い、かつ電子銃1に対向する電子ビームの照射領域の全てが開口したカバー6とを備えた多点蒸発源装置において、回転テーブル2の上面に坩堝7を仕切るように形成された溝24と、この溝24に嵌り込みこんで各坩堝を仕切り、回転テーブル2の回転と共に回転する遮蔽体20と、各坩堝が電子ビームの照射位置に来たとき、遮蔽体20を上昇させ、遮蔽体20とカバー6との間隔を狭める遮蔽体昇降手段とを備えた。 (もっと読む)


【課題】粒子状材料を容器から気化ゾーンに効率的に移動させる方法を提供する。
【解決手段】粒子状材料を気化させて表面上に凝縮させることで層を形成する1つの方法では、ある量の粒子状材料を、その粒子状材料が自由に通過できるサイズの開口部を有する第1の容器50に供給する。その粒子状材料は、開口部を通じてスクリュー構造80の中に移される。そのスクリュー構造の少なくとも一部を回転させて粒子状材料を第1の容器から供給路60に沿って気化ゾーンに移し、その気化ゾーンでその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させて表面に供給することで層を形成する。スクリュー構造のサイズは、粒子状材料が開口部を自由に通過するのが容易になるように選択されている。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料を溶媒に溶かしてなる液体材料から溶媒を確実に除去して蒸着を行うことで、この溶媒による基板の汚染を防止し、高品質の蒸着膜を得ることができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機液体材料Lを、蒸発装置2で有機溶媒を除去した上で蒸発させて蒸発材料とし、これを真空容器4内の基板Kに導き蒸着させる真空蒸着装置1であって、蒸発装置2が、有機液体材料Lが充填されて蒸発溶媒の排出口22が形成された蒸発容器20と、有機溶媒のみが蒸発して蒸着材料が蒸発しない温度に設定し得る蒸発用ヒータ18と、排出口22に第2開閉弁12を介して接続された蒸発室用真空ポンプ15と、流量調整弁16とを有し、蒸発装置2が、流量調整弁16を閉にすると共に、蒸発容器20内の有機溶媒のみを蒸発用ヒータ18で蒸発させた後、第2開閉弁12を開にして上記ポンプ15で蒸発容器20内の蒸発溶媒を吸引し、有機溶媒を除去し得るもの。 (もっと読む)


【課題】有機半導体真空蒸着膜の形成に当たり、蒸着膜を高結晶化させるための新規かつ有効な手段を提供する。
【解決手段】有機半導体の蒸着膜を構成すべき有機半導体分子を基板に真空蒸着させるに当たり、室温における蒸気圧が1Pa以下であるが有機半導体分子よりも高い蒸気圧を示し、真空蒸着条件下において蒸発又は昇華すると共に加熱された基板上において揮発性を示す不活性分子を共蒸発物として用いる真空蒸着成膜方法。 (もっと読む)


【課題】開角の大きな複数の光学素子成形用型に対して、成形用型の周辺部において、離型不良、融着不良、成膜剥れ不良が発生のない、ガラスプレス用テトラヘドラルアモルファスカーボン膜成膜方法を提供する。
【解決手段】成形面が凸状の型母材3の内部に磁石4を配置し、前記各型母材3の外側にはリング状磁石5を配置し、複数の型母材3を同心円状に配置した状態で、前記磁石4とリング状磁石5により形成される磁場が、前記型母材3の頂点部の法線方向の磁束密度が最も高くし、前記各型母材3に電圧を印加しながら、フィルタードカソ−ディックバキュームアーク法によって、前記型母材3の成形面にテトラヘドラルアモルファスカーボン膜を成膜する。 (もっと読む)


【課題】 基材表面に位置する官能基がアミド化や窒化することを防ぎつつ、また酸素結合に頼ることなく層間密着力を向上させることを可能としたガスバリアフィルムの製造方法及び係る製造方法によるガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】 基材となるプラスチックフィルムの表面に対し、不活性ガス導入下において、気圧気圧0.1Pa〜10Paという環境下にて予めプラズマ処理を施すプラズマ処理工程と、前記プラズマ処理工程を実施した後に、その表面にシラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第1高分子樹脂層、ガスバリア層、シラノール基を有する鱗片状シリカを主剤に対して添加した第2高分子樹脂層、をこの順に積層してなる備えてなる製造方法、及び該方法により得られるガスバリアフィルムとした。 (もっと読む)


【課題】筒状体の内周面に均一な膜厚で、かつ均一なドープ濃度で共蒸着膜を形成可能な成膜装置および成膜方法。
【解決手段】成膜装置30は、筒状体1の内周面に共蒸着膜を形成するための成膜装置であって、筒状体1を保持するための筒状体ホルダ2と、第1の蒸着材料11を充填するための内部空間を有する第1の蒸着容器12と、第2の蒸着材料12を充填するための内部空間を有する第2の蒸着容器22とを備えている。筒状体ホルダ2と第1および第2の蒸着容器12、22とは、筒状体1の延在する方向に互いに相対的に移動可能であり、筒状体1の延在する方向に延びる仮想の軸線A−Aを中心として互いに相対的に回転可能である。 (もっと読む)


【課題】 成膜対象物上への薄膜の形成を好適に行うことが可能な成膜装置、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 Si原子を含む化合物または混合物を表面改質材料として導入する導入管20と、キャリアガスを導入する導入管25と、表面改質材料及びキャリアガスを内部に導入、加熱して、それらが混合された表面改質ガスを供給するホットウォール管12と、ホットウォール管12の内部において加熱されることで金属材料を含む成膜材料ガスを供給する成膜材料体30と、成膜面上に薄膜を形成するための成膜用基板16を保持する基板保持ステージ15とを用いて成膜装置1Aを構成する。そして、ホットウォール管12から基板16の成膜面へと表面改質ガス及び成膜材料ガスを供給することによって、金属材料を少なくとも含む薄膜を成膜面上に形成する。 (もっと読む)


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