【課題】 同一の装置で同時に複数の表面処理を実施することができ、多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】 略円筒状の真空容器１１内で回転するキャンロール１３に沿って移動するフィルム１０に表面処理を施す装置であって、真空容器周壁１１ｂにキャンロール１３に対向して固定された複数の表面処理手段と、真空容器底板１１ａに固定され表面処理手段をフィルム巻取巻出ロール１２ａ、１２ｂから分離する一対の第１遮蔽板１７と、真空容器周壁１１ｂに固定され２以上の表面処理手段を含む複数の処理室Ａ、Ｂ、Ｃを区画する第２遮蔽板１８と、真空容器底板１１ａに固定されフィルム処理位置以外を覆うマスク板１９とを備え、真空容器周壁１１ｂを回動させることにより各処理室Ａ、Ｂ、Ｃのフィルム処理位置に対向する表面処理手段を変えることができる。 （もっと読む）

ライナーを含むスパッタリングチャンバを提供する。ライナーは、チャンバの内部表面からスパッタコーティング（オーバーコート）が剥落することを低減することに適している。ライナーは、チャンバの選択された内部表面に隣接して搭載することができる。ライナーは取り外し可能であることが好ましい。また、本発明のライナーを用いたスパッタリング方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスが容易であり、動作不能時間を削減することができる基板コーティング装置を提供する。
【解決手段】コーティングチャンバーをモジュール式設計とし、各モジュール１は、チャンバーセクション２と、チャンバーセクション２内若しくはチャンバーセクションに取り外し可能に配置した第一の支持体３と、第一の支持体３に取り外し可能に配置した第二の支持体４とを備える。第一の支持体３はカソードを担持し、第二の支持体４はカバーとして形成され、そこにコーティングチャンバーを真空にするためのポンプが配置される。支持体３及び４は、モジュール部品間に人がアクセスすることができるエリア１１ａ、１１ｂが形成される程度に、チャンバーセクション２から横方向に移動可能である。 （もっと読む）

【課題】 処理チャンバ内部の寸法を小さくせずに、外形寸法の拡大を抑え、かつ重量の軽減を図る。
【解決手段】 真空チャンバ１０の本体１０ａの長手方向の側壁６１ａ，６１ｂの壁厚Ｌ_１は、側壁６２ａ，６２ｂの壁厚Ｌ_２に比べて小さく形成され、蓋体１０ｂの上部側壁６３ａ，６３ｂの壁厚は、上部側壁６４ａ，６４ｂの壁厚に比べて小さく形成されている。使用時には、側壁６１ａ，６１ｂおよび上部側壁６４ａ，６４ｂの強度を補うため、補強板９０ａ〜９０ｄが着脱可能に外付けされる。 （もっと読む）

本発明は、１枚以上の薄膜コーティングで被覆されたマイクロウェルアレイ組成物に関する。本発明は、アレイをエッチングし、１枚以上の薄膜コーティングを蒸着し、調製し、使用する方法を含む、薄膜で被覆されたマイクロウェルアレイを製造し使用するプロセスを含む。また、本発明は、基板を備えるアレイであって、基板は、複数の反応チャンバを備える表面と表面上の薄膜コーティングとを有する光ファイバフェイスプレートであり、薄膜は厚さ０．１〜５．０ミクロンで水に対して不浸透性である、アレイである。
（もっと読む）

【課題】初期投資コストおよびランニングコストの小さな薄膜生成装置と、これを用いた電子デバイスの製造方法を提案する。
【解決手段】蒸発物質を含んだ蒸発源ＨＥが配置される蒸発空間Ｃ１１と、蒸発物質を加熱し蒸発物質の蒸気を発生する加熱源ＥＢとを有する蒸発室Ｃ１、蒸発室に固着され、圧力調整空間を有する圧力調整室Ｃ２、および圧力調整器に着脱可能に結合され、成膜空間を有する少なくとも１つの成膜室を備えた薄膜生成装置である。圧力調整空間Ｃ２１は、第１、第２ゲートバルブにより蒸発空間と成膜空間にそれぞれ制御可能に連通される。成膜室が圧力調整室Ｃ２に結合され、圧力調整空間が蒸発空間と成膜空間とに連通した状態において、蒸発物質の蒸気に基づき、成膜空間に配置された基板Ｓ５上に薄膜を形成する。 （もっと読む）

管状マグネトロンスパッタリング装置に用いられるエンドブロックが、開示されている。このようなエンドブロックは、真空の完全な状態と閉冷媒回路を維持しながら、運動、冷媒、および電流をターゲットに回転可能に伝達するものである。従って、このエンドブロックは、駆動手段と、回転電気接触手段と、軸受手段と、多数の回転冷媒シール手段と、多数の真空シール手段とを備えている。本発明のエンドブロックは、ターゲットに沿って最小の軸方向長さを占め、これによって、ディスプレイ塗膜機のような既存の機器における空間節約を可能にしている。この軸方向長さは、上記手段の少なくとも２つを互いに半径方向に取り付けることによって、短縮されることになる。
（もっと読む）

【課題】 複数の真空処理室あるいは真空処理容器とこれらに共通の搬送室を備えた真空処理装置であって、メンテナンスや機器の取り付け、取り外しといった作業が容易な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 多角形の搬送チャンバの隣合う辺に取付けられた２つの真空容器と、前記各真空容器に接続された真空排気装置と、前記２つの真空容器及び前記真空排気装置の下方に各々配置されたステージと、前記各ステージと前記各真空容器との間に各々配置された複数の支持柱を有し、これら各支持柱のうちの１本は前記２つの真空容器間の狭隘部に配置され、前記２つの真空容器と前記２つのステージとに連結され、前記支持柱のうち他の複数の支持柱が前記真空容器の下方にそれぞれ配置されかつ前記真空排気装置を挟んで対応する側に配置された真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】 蒸着面が汚染されることがなく、それ故蒸着不良による品質の低下がなく、また在庫管理も格別に必要としない、表面に薄膜を有する成形品の成形方法を提供する。
【解決手段】
固定側金型（２）と、スライド金型（１５）とを使用して、第１の成形位置で第１の基板（Ｋ１）を、第２の成形位置で第２の基板（Ｋ２）を成形する。そして、第２の基板（Ｋ２）を成形中にその前に成形された第１の基板（Ｋ１）の表面に蒸着し、第１の基板（Ｋ１）を成形中にその前に成形された第２の基板（Ｋ２）の表面に蒸着する。このとき、内部にターゲット電極、基板電極、真空吸引管等の蒸着要素が設けられている蒸着用チャンバー（２５）により、スライド金型（１５）の凹部（１６、１７）に残っている状態の基板を覆って、金型内で蒸着条件を出して蒸着する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機電界発光素子製造に使われる基板上に複数の薄膜を蒸着する装置に関する。
【解決手段】本装置は、マスク付着チャンバ、蒸着チャンバ、及びマスク回収チャンバを有する工程チャンバを有する。各々のチャンバ内の上部には移送ガイドが配置され、基板を支持する基板支持体は、蒸着チャンバ内で、工程実行時、そして工程チャンバ間の移動時、移送ガイドに沿って水平移動する。本発明の装置によると、工程にかかる時間を縮めることができ、設備面積が減る。また、一つまたは複数個のチャンバ単位でグループ付けられ、各グループ別の内部が他のグループの内部と隔離可能になるように、各グループ別の境界に位置する開口を開閉するゲートバルブが設けられる。これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの冷却を効率よく行うとともに、ワーク交換のためのロードロック室等を省略し、成膜装置の小型化を図る。
【解決手段】真空室１内に設けられた回転テーブル６に複数のターゲットＴおよび圧力分離用の蓋５を搭載する。ワークＷの成膜面に面した真空室１の開口部に対応するスパッタ位置に逐次ターゲットＴを移動させ、その裏面側に、冷却水流路を有するスパッタ駆動源８を押圧して、多層膜の成膜を行い、ワークＷの交換時には蓋５によって真空室１の開口部を閉じる。スパッタ駆動源８は、大気側に配設されたスパッタ駆動源移動手段によって矢印Ｒ方向へ移動し、ターゲット支持板３に押圧される。 （もっと読む）

【課題】 低コストで信頼性の高い真空処理装置を提供する。
【解決手段】 ２つの真空容器２０３，２０４の間に配置され各々を連通して一方から他方に処理対象の試料が搬送される封止されたゲート１１０と、このゲートの経路上に配置され第１の開口２０５および第２の開口２０６の各々に面する第１の弁体２１０ａおよび第２の弁体２１０ｂとこれら弁体が連結されたシャフト２１１とを有して前記開口の各々を選択的に開閉するゲートバルブ２０８とを備えた真空処理装置であって、ゲートバルブ２０８は、２１１シャフトの他端側に連結されシャフトをその軸の方向に移動させる軸方向駆動部３０１と、シャフト２１１の一端側と他端側との間に配置されシャフト２１１の軸と交差する所定の回転軸２０７の周りにシャフトを回転させる回転駆動部２１３とを有し、シャフト２１１の軸方向について回転軸２０７と他端との間のシャフト上の部位に回転させる力が伝達される。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルム上に成膜した多層薄膜の成膜面の品質および生産性を向上せしめる多層薄膜成膜装置及びそれを用いた多層薄膜の製造方法の提供にある。
【解決手段】真空装置内にロール状プラスチックフィルム１０を巻き出す手段と、巻き出されたロール状プラスチックフィルム１０に薄膜を成膜する手段と、成膜されたロール状プラスチックフィルム１０を巻き取る手段と、を有する薄膜成膜装置で、前記薄膜を成膜する手段が、仕切板で仕切られ独立している複数の成膜室２ａ、２ｂ、２ｃからなり、該複数の成膜室のうちの任意の成膜室と隣接する成膜室の圧力差が１００倍以上である状態を保てる成膜室である多層薄膜成膜装置及びそれを用いた多層薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

本発明の薄膜の形成方法は、基板を保持するための基板ホルダ１３の搬送速度を制御しながら、基板ホルダ１３を、中間薄膜形成工程を行う領域と膜組成変換工程を行う領域との間を繰り返し搬送させて、最終的に形成される薄膜の膜組成を調整し、ヒステリシス現象が起きる領域の光学的特性値を有する薄膜を形成する光学的特性調整工程とを備える。
（もっと読む）

本発明の薄膜形成装置（１）は、真空容器（１１）内に反応性ガスを導入するガス導入手段と、真空容器（１１）内に反応性ガスのプラズマを発生させるプラズマ発生手段（６１）を備える。プラズマ発生手段（６１）は、誘電体壁（６３）と渦状のアンテナ（６５ａ，６５ｂ）を有して構成されている。アンテナ（６５ａ，６５ｂ）は、高周波電源（６９）に対して並列に接続され、アンテナ（６５ａ，６５ｂ）の渦を成す面に対する垂線に垂直な方向に隣り合った状態で設けられている。
（もっと読む）

【課題】 同一チャンバ内で基板ステージ上の処理基板に対し、ＡＬＤ法による成膜とスパッタリング法による成膜とを行い得るように成膜装置を構成する場合に、ターゲットが、ＡＬＤ法を行う際に導入する原料ガスや反応ガスによって汚染されないようにする。
【解決手段】 真空チャンバ１１内に基板ステージ１２を配置し、ターゲットを有するスパッタリング成膜手段４を、ターゲット４１ａと処理基板とを相互に対向させて設ける。真空チャンバをターゲットが存する第１空間５１と基板ステージが存する第２空間５２とに仕切る仕切り板５を設け、仕切り板に処理基板が臨む開口部５ａを形成し、開口部を覆って第１空間及び第２空間相互の隔絶を可能とする閉位置と、開口部を開放する開位置との間で移動自在な遮蔽手段６を配置する。化学的成膜法により成膜を行い得る化学的成膜手段を第２空間に設ける。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス作業を短時間で容易に行うことができる成膜装置及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置は、チャンバー上部１ａとチャンバー下部１ｂを有する外部チャンバー１と、前記外部チャンバー１内に配置され、前記チャンバー下部１ｂに取り付けられた内部チャンバー６と、前記内部チャンバー６内に配置され、被成膜基板１６が保持される基板保持部４ａと、具備し、前記チャンバー上部１ａと前記チャンバー下部１ｂは分離自在に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空容器１全体としての材料コストの低減を図る。
【解決手段】 容器本体３は、内部が真空ポンプ５に接続可能であって、容器本体３の一側に開口部７が形成され、容器本体３に開口部７を開閉する蓋部材９が着脱可能に設けられ、蓋部材９に、真空ポンプ５の排気作動によって容器本体３の内部を真空状態にしたときに、大気圧による外力を容器本体３の内側から受けるサポート部材１７が設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】 容積の大きい真空チャンバを、陸路による搬送に便利であり、また、別個の補強手段を必要としない構成とする。
【解決手段】 本発明の真空チャンバ１は、内部に処理空間１１が形成された多面体のチャンバ本体１２を備え、そのチャンバ本体の少なくとも一面に処理空間に通じる開口を形成し、この開口を覆って処理空間の真空状態の保持を可能とする密閉手段１３ａ、１３ｂを装着して構成される。この場合、チャンバ本体は複数のチャンバ片１２ａ、１２ｂから構成され、各チャンバ片の接合面の少なくとも一側に、この接合面から延出させてフランジ部１５ａ、１５ｂをそれぞれ形成し、相互に向かい合う各フランジを接合して組付けられる。 （もっと読む）

本発明は、回転可能な基板ペデスタル及び少なくとも１つの移動可能な傾斜ターゲットを有する物理気相堆積（ＰＶＤ）チャンバに関する。本発明の実施形態によれば、均一性の高い薄膜を堆積させることができる。 （もっと読む）