本発明は、全般的に、プラズマスパッタリングの分野における欠陥処理システムに関し、特に、スパッタリングシステムにおいて用いられる電力発生器の制御動作のための欠陥処理システムおよび方法に関する。欠陥処理アルゴリズムは、電力発生器の動作に影響するための少なくとも１つのコマンド信号を生成するために、一期間内においてスパッタリングシステムからの複数の欠陥状態信号を処理する。欠陥処理アルゴリズムは、複数の欠陥状態信号タイプに対する応答として４つまでのコマンド信号を生成可能であり、そのコマンド信号は、システム出力無効化、電力ブロック出力無効化、出力イネーブル防止、および出力駆動ロールバックを含む。 （もっと読む）

【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ表面上を照射するイオンビームに対して最適かつ均一な電子量を供給できるようにして、ウエハ表面でのチャージアップの問題を解消する。
【解決手段】 中和装置は、走査イオンビーム６が紙面の表から裏へ通過する中空部５ａを有するリフレクター５と、リフレクター５の電子導入口５ｂ付近から電子４を供給するアークチャンバー３と、軸２を介してアークチャンバー３を上下移動させるための駆動装置１と、イオンビームの電荷量を測定するためのファラデー箱１１と、電流計１０₁〜１０₃を介して電源１２に接続される電極８₁〜８₃とから構成される。イオン注入の準備段階にて、イオンビームをファラデー箱１１側を通過させ、その電荷量を計測する。その計測値に見合う電流が電流計１０₁〜１０₃に流れるようにチャンバー３の位置を調整する。イオンビームをリフレクター５側を通過させイオン注入を行う。 （もっと読む）