【課題】樹脂基板等の耐熱温度の低い基板でもイオンアシスト成膜を可能とする。
【解決手段】真空槽３０と、基板ドーム２１との間に高周波電源４１から高周波電圧を印加し、真空槽３０内のガスをプラズマ化し、陽イオンにより、蒸着分子の成膜基板２２への堆積をアシストする。高周波電圧の印加により発生する基板ドーム２１のセルフバイアス電圧を検出し、セルフバイアス電圧が減少すると、これを補償するように高周波電源４１の出力電力を増加する。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を３０〜９５質量％含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜６μｍの平均層厚の下部層と０．３〜３μｍの平均層厚の上部層とからなり、（ｂ）下部層は、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．０１〜０．１）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、一層平均層厚がそれぞれ０．０１〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．０１〜０．１）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層、薄層Ｂは、組成式：［Ｃｒ_１−ＹＳｉ_Ｙ］Ｎ（Ｙは原子比で０．０１〜０．１）を満足するＣｒとＳｉの複合窒化物層からなる。 （もっと読む）

【課題】高硬度鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化ほう素を３０〜９５質量％含有する超高圧焼結材料製インサートの表面に、硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、（ａ）硬質被覆層は、１．５〜６μｍの平均層厚の下部層と０．３〜３μｍの平均層厚の上部層とからなり、（ｂ）下部層は、蒸着形成された、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．０２〜０．１）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層からなり、（ｃ）上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ０．０１〜０．３μｍの薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、薄層Ａは、組成式：［Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ］Ｎ（Ｘは原子比で０．０２〜０．１）を満足するＴｉとＳｉの複合窒化物層、薄層Ｂは、クロム窒化物（ＣｒＮ）層からなる。 （もっと読む）

【課題】 複数の球状レンズに対して成膜材料源から飛び出した粒子状の成膜材料を到達させるに際して、全ての球状レンズに均一に且つそれぞれの中央部分に重点的に成膜材料が被着するようにして、この種の球状レンズを使用してなる光学部品の光学特性を良好なものとする。
【解決手段】 成膜処理チャンバ２の内部において、成膜用治具６が、成膜エリアＥ１，Ｅ２内に位置している時に、全ての球状レンズ１２の中央部分に向かって成膜材料が飛行する状態を維持して、成膜材料の飛行方向と平行な回転軸線７廻りに回転すると共に、回転軸線７廻りに回転し得る状態を維持して、成膜材料の飛行方向Ａと直交する仮想平面内で成膜エリアＥ１，Ｅ２を通過する無限軌道に沿って移動する。 （もっと読む）

【課題】従来の真空蒸着装置においては、ワークホルダの自転機構は駆動源を直接持たない間接的な機械式回転機構のため一定の広角度ステップでしか自転できない。又、支持ホルダに所定の傾きでワークホルダを設置しているので、ワークホルダの自転軸の傾きが蒸着源に対し一定となってしまい、蒸着源方向に対面露出できない被蒸着物表面（特に側面）が生じてしまう。
【解決手段】蒸着炉内の蒸発源より加熱蒸発した蒸発粒子を、被蒸着ウエハ及びマスク等から構成され且つ蒸着炉内で自公転する複数個の被蒸着ワークに蒸着する機構を備えた真空蒸着装置において、被蒸着ワークを保持自転させるワークホルダに、このワークホルダ自体を回転させる第１の回転機構と、ワークホルダに保持されている被蒸着ワークを回転させる第２の回転機構との２軸自転機構を備えている真空蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】フォトクロミック機能を有する塩化銀または塩化銀を主成分とする薄膜を、真空蒸着手法のみによって容易に形成できるようにする。
【解決手段】塩化銀または塩化銀を主成分とする蒸着材料を、１００℃以上の温度での複数段階の昇温加熱で熔解させて真空蒸着する。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録ディスク用基板に気相中で成膜する際に膜厚に偏りが発生するのを防止可能な磁気記録ディスクの製造方法、磁気記録ディスク製造装置、および磁気記録ディスク製造用基板ホルダを提案すること。
【解決手段】 基板ホルダ３００は、磁気記録ディスク用基板１０の表面に下地層、磁性層、保護層などの薄膜を物理気相成長法により成膜する際に、複数枚の磁気記録ディスク用基板１０を保持した状態でターゲット２３１、２３２、２３３および２４４に対向配置される。複数枚の磁気記録ディスク用基板１０は成膜中、基板ホルダ３００上で自転するため、磁気記録ディスク用基板１０では、ターゲット２３１、２３２および２３３の半径方向において薄膜の膜厚に偏りが発生しない。 （もっと読む）

工作物支持体（２）は、回転台（３）と駆動部分（２０）を有しており、それら両者が駆動軸（４）を中心に回転可能である。回転台（３）は、モータ（６）によって駆動可能であって、かつ駆動軸（４）の回りに分配された、主軸を中心に回転可能な複数の工作物ホルダ（１３）を有している。駆動部分（２１）の駆動ディスク（２２）は、それぞれ係止点（２３）を中心に回転可能であって、その中心点は係止点から偏心率（Ｅ）だけ離れている。駆動ディスク（２２）を収容する、結合切欠きを有する伝達部分（２５）が、駆動開口部（２６）を有しており、その駆動開口部を通して工作物ホルダ（１３）の駆動ピン（１９）が突出しており、その駆動ピンは同様にホルダ軸から偏心率（Ｅ）だけ離れている。駆動部分（２０）は、回転台（３）の回転によって、基台（１）に固定された中間トランスミッション（３１）を介してより大きい角速度で駆動することができる。複数の工作物支持体の回転台は、それ自体回転可能な基台上に軸承することができ、かつ位置固定の歯車と係合することによって回転することができる。
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【課題】 本発明の目的は、簡単な回転で、被成膜体保持部材に装着した被成膜体を回転させることができるため、より多くの被成膜体を装着できて生産性の向上が図れ、成膜装置の大型化も防止できる成膜装置及び被成膜体表面への薄膜形成方法を提供することにある。
【解決手段】 本発明の成膜装置は、垂直方向に対して所定角度傾いた状態で回転し、かつその表面部に基端部６ａが円形の被成膜体６または被成膜体ホルダー３３が装着される円盤状の被成膜体保持部材５を有していて、被成膜体保持部材５は、被成膜体６または被成膜体ホルダー３３の基端部６ａを保持し、かつ基端部６ａの外径より大きい内径を有する円形の基端保持部３０を有していて、被成膜体６または被成膜体ホルダー３３が、自重と前記被成膜体保持部材５の回転とにより基端保持部３０の円形内面に自身の円形の基端部６ａを内接させながら自転するようになっていることを特徴とする。
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【課題】 基板に形成される膜厚を均一化することが容易である、プラネタリー方式のスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 プラネタリー治具３０は、ターゲット５０の上方に配置され、ターゲット５０の略中心５４を通る中心軸２２ｂのまわりを公転しながら自転し、ターゲット５０に対向する略半球状の基板保持面３４ａに基板６０を保持する。ターゲット５０が露出するアースシールド板４２の開口４３の周囲に沿って、遮蔽部材１０を配置する。遮蔽部材１０は、プラネタリー治具３０が公転する中心軸２２ａの周りに延在する略筒状の形状を有し、アースシールド板４２側に少なくとも一つの開口部１６が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 アーカイバル特性と高速でのオーバーライト特性とを両立することができるようにする。
【解決手段】 第１の基板１１上に、記録再生光の入射方向から順に、上層誘電体層１２、界面層１３、記録層１４、下層誘電体層１５、反射層１６が順次積層されて、その上に保護層１７を介して第２の基板１８が設けられる。記録層１４がＳｎ_xＩｎ_yＧａ_zＳｂ_w（但し、３≦ｘ≦７、０≦ｙ≦７、６．８≦ｗ／ｚ≦８．８）により構成される。ｘ、ｙが３≦ｘ≦７、０≦ｙ≦７の範囲から外れると、高速で情報信号の記録を繰り返した場合にオーバーライト特性が低下してしまう。ｗ／ｚが６．８未満であると、高速で情報信号の記録を繰り返した場合にオーバーライト特性が低下してしまう。反対にｗ／ｚが８．８を越えると記録マークの形成が困難になる。 （もっと読む）

【課題】 球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する従来の方法では，全面に均一なフィルタ膜を成膜するのが困難である，微小外径の球レンズに適用することができない，球レンズに蒸着カス等が付着する等の課題がある。
【解決手段】 そこで本発明では，真空チャンバ１内におけるフィルタ膜材料２の供給源３の上方に球レンズ８の支持容器９を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸１３は鉛直方向に対して所定角度θ傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部１１を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】 複雑な計算をすることなく容易に被成膜物に成膜する薄膜の膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜装置により被成膜物（１１）に成膜する薄膜（１１ａ）の膜厚（Ｙ）を予測する膜厚予測方法において、上記成膜装置及び被成膜物（１１）の構成に関するパラメータを用いた、膜厚（Ｙ）の予測式を求め、上記予測式に各パラメータの値を与えることで上記膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）

【課題】有機発光層と有機化合物からなるキャリア輸送層を用いた高効率で、特性劣化の少ない発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、陽極と、前記陽極と対向する陰極と、前記陽極と陰極の間に設けられた有機化合物からなる発光層と、有機化合物からなるキャリア輸送層を有し、前記発光層と前記キャリア輸送層とが交互に積層されており、前記キャリア輸送層の膜厚は前記発光層の膜厚よりも薄く、前記キャリア輸送層が正孔輸送層の場合には前記発光層は電子輸送性発光層であり、前記キャリア輸送層が電子輸送層の場合には前記発光層は正孔輸送性発光層である。 （もっと読む）

【課題】 成膜物質を放出する成膜源と被成膜物の成膜目的位置との位置関係に起因する、成膜物質が成膜目的位置に到達できない現象（ケラレ）の発生を判定して膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜物質を放出する成膜源（Ａ）と被成膜物（３１）の成膜目的位置（Ｂ）との位置関係に起因する、上記成膜物質が成膜目的位置（Ｂ）に到達できない現象（ケラレ）を例えば成膜源（Ａ）と成膜目的位置（Ｂ）とを結ぶ直線（ＡＢ）が被成膜物（３１）内を通る場合に発生すると判定し、その判定結果に基づき薄膜（３１ａ）の膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）

【課題】 複数の被成膜体に蒸着物質の蒸着を行うときに、膜厚分布の均一化を図る。
【解決手段】
真空槽１の内部の上部には複数の被成膜体Ｗを取り付けるための被成膜体保持部材１０が配置され、下部には複数の蒸着物質が充填された２つの蒸発源２Ａ、２Ｂが配置されている。被成膜体保持部材１０と蒸発源２Ａ、２Ｂとの間には固定式の第１の補正板４Ａ、４Ｂが配置され、蒸発源２Ａ、２Ｂと第１の補正板４Ａ、４Ｂとの間には可動式の第２の補正板５Ａ、５Ｂが配置される。第２の補正板５Ａ、５Ｂに取り付けられる回転軸は第２の補正板５Ａ、５Ｂの平面を２等分する中心線上に取り付けられ、当該回転軸の軸回りに第２の補正板５Ａ、５Ｂが回転して作動状態と非作動状態とに切り替わる。 （もっと読む）

【課題】 装置のサイズを大きくすることなく、膜厚分布及びカバレージ分布を向上させることができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 基板ホルダユニット４は、基板５が載置される基板支持部と、該基板支持部に設けられ、前記基板を加熱するヒータ機構と、前記ヒータ機構を冷却する冷却機構と、前記基板支持部にバイアスを印加するバイアス印加機構と、前記ヒータ機構、前記冷却機構及び前記バイアス印加機構が固定されると共に、前記基板支持部を自転可能に支持する円弧移動ベース６５と、前記基板支持部の自転中心に対して偏心して前記円弧移動ベースから延出し、前記真空容器に回転自在に支持される偏心軸と、該偏心軸を貫通して設けられ、前記基板支持部を自転させる自転機構４０と、前記偏心軸を回転させる円弧運動機構６０とを少なくとも具備することにある。 （もっと読む）

多層の耐粘着性セラミックコーティングを有する調理器具物品。本発明の調理器具物品は、内側の食品接触表面（３１０）と外側表面（３１５）を有する金属調理器具物品（３０５）；その食品接触表面上に堆積された接着層（３２０）；およびその接着層に隣接して堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第一層（３２５）を含む。随意に、第一（Ti,Al,Cr）N層に隣接して堆積された窒化クロムの層（３３０）、およびその窒化クロム層上に堆積された（Ti,Al,Cr）Nの第二層が存在する。これらの層は所望とされるとおりの多数の回数反復することができる。（Ti,Al,Cr）N層は一般に多層コーティングの上層である。コーティングは耐粘着性、耐引掻き性、熱安定性、耐腐食性および色安定性である。この調理器具は塩味および酸味系の両食品と共に使用するのに適している。このような調理器具物品を製造する方法も開示される。
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【課題】この発明は、均一な金属被膜の成膜を実現したうえで、簡便にして容易なレンズ着脱操作を実現し得るようにすることにある。
【解決手段】保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入した支柱部材２２を離脱させた状態で、第１及び第２のレンズ支持部材１４，１５間へのレンズ１６の着脱を実行し、装着したレンズ１６に成膜を施す際には、上記支柱部材２２を保持部本体１０の第１の保持盤１１の挿通穴１１１に挿入して、支柱１３及び支柱部材２２をレンズ１６の周囲に等間隔に配した状態で、レンズ１６の成膜処理を行うように構成した。 （もっと読む）

【課題】 硬質被覆層が高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆サーメット製切削工具が、ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層が、１〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-X Ａｌ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３５〜０．７０を示す）、を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層、（ｂ）中間層が、０．１〜２μｍの平均層厚を有するＣｒ_２Ｏ_３層、（ｃ）上部層が、１〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ａｌ_１−ＺＣｒ_Ｚ）_２Ｏ_３、（ただし、原子比で、Ｚ：０．０１〜０．１）、を満足すると共に、特定な構成原子共有格子点分布グラフを示す（Ａｌ，Ｃｒ）_２Ｏ_３層、で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）