【課題】 例えば大曲率、大口径の部材に対しても均一の膜厚の膜を形成しうる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】 本発明の真空蒸着装置であって、部材１０を支持するとともに、前記部材１０をその中心を通る第１軸１４の回りに自転させ、かつ前記第1軸１４とは異なる第２軸１５の回りに公転させる機構２０と、前記第２軸１５から距離をおいて配置され、膜を形成するための蒸着粒子を発生する蒸発源１２と、前記機構２０により自転及び公転される部材１０と前記蒸発源１２との間に配置され、当該自転及び公転されている部材１０に対する蒸着粒子の付着を遮蔽するｎ個（ただし、ｎは２以上の整数）の遮蔽板１７と、を備え、前記ｎ個の遮蔽板１７のそれぞれが前記自転及び公転されている部材１０に対する蒸着粒子の付着を遮蔽する量をＡｉ（ただし、ｉ＝１〜ｎ）とするとき、Ａｉのそれぞれが式Ａｉ＝（Ａ１＋Ａ２＋・・・＋Ａｎ）×（１／ｎ±１／５ｎ）を満たす。 （もっと読む）

【課題】弊害なくたわみを回避できる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】被蒸着体であるウェハと接するウェハ対向面と、該ウェハ対向面と反対の面であり蒸着源と対向する蒸着源対向面１５と、該ウェハ対向面と該蒸着源対向面１５とを貫通する開口を有するマスク開口領域１４と、該開口の形成されない領域である無効領域１２とを有する。そして、該蒸着源対向面１５の該無効領域１２に付加された線状の補強部材１６を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】一つの成膜装置で蒸着重合法及びスパッタリング法を行うことができる複合型の成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜対象を設置する真空成膜室と、前記真空成膜室中の前記成膜対象にスパッタリング法により膜を形成するスパッタリング手段３０と、前記真空成膜室中の前記成膜対象に蒸着重合法により膜を形成する蒸着重合手段２０ａ、２０ｂとを備え、前記スパッタリング手段３０は、スパッタリングターゲット３１が設けられたターゲット室３２からなり、当該ターゲット室３２は、前記真空成膜室に可動遮蔽手段を介して接続され、前記蒸着重合手段２０ａ、２０ｂは、原料モノマーが封入されている蒸発源容器２１ａ、２１ｂと、蒸発源容器２１ａ、２１ｂに設けられた加熱手段２２ａ、２２ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】皺等の発生が少なく、かつ低濃度の際も光の散乱も少ない光学フィルタを得る。
【解決手段】ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板３１上に、反射率を低下させるための反射防止層であるＡｌ₂Ｏ₃層４１ａと、透過率を低下させるための光吸収層であるＴｉＯｘ層４１ｂを交互に積層している。最上層には反射防止膜として低屈折材料のＭｇＦ₂層４１ｃを成膜することによりＮＤ膜４１を形成している。ＮＤフィルタ１０は高濃度化のため必要な膜厚が厚くなり、その分蒸着時間が長くなり、透明樹脂基板３１の温度が部分的に１７０℃にまで達することがある。この場合でも、ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板３１はガラス転移温度は２００℃以上であることから、皺やうねりの発生を回避することができる。 （もっと読む）

基板を支持する基板ホルダと、コーティング材料の広がり流れを放出するコーティング材料源とを備える基板を被覆するための物理蒸着装置。コーティング材料の広がり流れは、コーティング材料の発散部分とコーティング材料の指向部分とを含む。本装置は、さらに、コーティング材料源と動作可能に連係するように位置決めされたブラインダ手段であって、コーティング材料の指向部分がブラインダ手段から連続的に出て、略基板ホルダに向かって進むように、コーティング材料の広がり流れを受け止めて衝当させるためのブラインダ手段を備える。コーティング材料の指向部分は、コーティング材料の広がり流れより小さい広がりを呈する。
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【課題】溶着性の高い被削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた自己潤滑性を発揮することにより、すぐれた耐摩耗性を示す表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具の工具基体表面に、ＡｌとＴｉの複合窒化物系硬質被覆層あるいはＡｌとＣｒの複合窒化物系硬質被覆層を介して、または、介さずに、組成式：Ｎｉ（Ｃ_１−ＸＮ_Ｘ）で表した場合、０．１≦Ｘ≦１．０（但し、Ｘは原子比）を満足するＮｉの炭窒化物層、窒化物層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】回転駆動手段の構成を簡略化することにより、簡易に且つ安価に製作できる真空成膜装置を提供する。
【解決手段】基材Ａの成膜処理が行われる真空槽本体２と、該真空槽本体２に開閉自在に設けられる扉４と、を備えた真空槽１と、該扉４に回転自在に設けられて前記基材Ａが保持される保持具１９と、該保持具１９を回転させるための回転駆動手段Ｂと、を備えた真空成膜装置であって、該回転駆動手段Ｂが、電動機５により回転駆動される駆動ローラ１０と、前記扉４に回転自在に設けられ、且つ該扉４を閉鎖した際に、前記駆動ローラ１０から回転力が伝達される従動ローラ１１とを備え、該従動ローラ１１又は前記駆動ローラ１０のうち少なくとも一方が摩擦車からなる。 （もっと読む）

【課題】光学素子同士の貼り付きを防止して着脱を容易にし、かつ光学面の損傷のおそれのない光学素子保持方法を提供する。
【解決手段】光学面３１Ａと外周面３１Ｂとを有する光学素子３１の外周面３１Ｂに薄膜を成膜するときの光学素子保持方法は、光軸方向にそって配列された複数の光学素子３１の互いの光学面３１Ａの間に、各々の光学面３１Ａに対向する接触面３２Ａが鏡面とならないように微小凹凸を有するダミー部材３２を介在させる工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度被削材の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）下部層として、組成式：（Ｔｉ_1−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ又は組成式：（Ｔｉ_{1−Ｘ−Ｚ}Ａｌ_ＸＭ_Ｚ）Ｎ（Ｍは、Ｔｉを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上。０．４５≦Ｘ≦０．７５、０．０１≦Ｚ≦０．２５）を満足するＴｉとＡｌ（とＭ）の複合窒化物層、（ｂ）上部層として、層厚方向に沿って、Ｙ最高含有点とＣｒ最高含有点とが交互に繰り返し存在し、ＣｒとＹの含有割合が連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、Ｙ最高含有点が、組成式：（Ｃｒ_１−αＹ_α）Ｎ（０．１６≦α≦０．２６）を満足し、Ｃｒ最高含有点が、組成式：（Ｃｒ_１−βＹ_β）Ｎ（０．０１≦β≦０．１０）を満足するＣｒとＹの複合窒化物層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】高硬度被削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）組成式：（Ｔｉ_1−αＡｌ_α）Ｎあるいは組成式：（Ｔｉ_1−α−βＡｌ_αＭ_β）Ｎ（但し、Ｍは、Ｔｉを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分を示し、原子比で、０．４５≦α≦０．７５、０．０１≦β≦０．２５）を満足するＴｉとＡｌ（とＭ）の複合窒化物層からなる下部層、（ｂ）組成式：（Ｃｒ_１−γＹ_γ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦γ≦０．１）を満足するＣｒとＹの複合窒化物層からなる上部層、以上（ａ）、（ｂ）で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】キッカーの設定を容易、確実に行うことができ、キッカーによる被駆動輪のキックミス発生が抑制できる膜形成対象物品の支持装置を提供する。
【解決手段】この支持装置２は、回転駆動されるテーブル３０と、テーブル３０に立設され、テーブル３０の回転に伴いテーブル３０の回転中心線のまわりを円運動する複数本の外側パイプ１０２と、各外側パイプ１０２に沿って複数段に配置され、テーブル３０の回転に連動して外側パイプ１０２を中心に回転する小テーブル１０３と、各小テーブル１０３に立設され、小テーブル１０３の回転に伴い外側パイプ１０２のまわりを円運動する複数のホルダ１０４と、外側パイプ１０２が回転しても回転しない内側パイプ１０５に設けられ、ホルダ１０４と連動回転するギヤ１１０に接触してホルダ１０４を回転させるキッカーとを含む。 （もっと読む）

【課題】高真空環境下で被成膜物の複数面に、また任意面のみ厚い膜を成膜する場合の大気開放あるいは真空引きといった真空装置特有の非常に時間がかかるを必要しない装置を提供する。
【解決手段】本真空蒸着装置は、第一自転機構９と第二自転機構１３の２台の自転機構を有し、前記第一自転機構９は公転機構による公転中に第一自転ギヤ６の歯間角度に応じた一定の角度ステップで自転を行う機構であり、第二自転機構１３は第一自転ギヤ６に対して一歯を欠いた第二自転ギヤ１０を用い、歯間角度に応じた角度ステップで自転を行い、第二自転ギヤ１０一歯欠けた位置において被成膜物を蒸発源２に対して対向させる機構を有する。 （もっと読む）

金属壁２６を有する真空チャンバに、スパッタターゲットを備えたマグネトロンが複数配されており、少なくともそのうちの一つは、ＨＰＰＭＳマグネトロンで、スイッチング素子５を介して容量素子６をＨＰＰＭＳマグネトロンのスパッタターゲットに接続することで、電気パルスが供給される。効率的な基板の前処理及びコーテイングを達成するために、スイッチング素子がチャンバ壁に配されている。電極対がもけられており、その第１電極はＨＰＰＭＳマグネトロンとなり、第１及び第２電極を適切に配することで、基板テーブル４に保持された物体１１は、電極対の両能動面の間に位置するか、あるいは両能動面の間の空間を通って移動する。エッチング工程で、負のバイアス電圧が物体に印加され、物体は金属イオン照射によってエッチングされ、その後バイアス電圧を連続的に下げることによって、スパッタターゲットからスパッタされた物質は物体に積もり層になる。
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【課題】ステンレス鋼の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、下部層として、（Ａｌ_１−ＸＣｒ_Ｘ）Ｎあるいは（Ａｌ_{１−Ｘ−Ｚ}Ｃｒ_ＸＭ_Ｚ）層（但し、０．３≦Ｘ≦０．５、０．００１≦Ｚ≦０．１、かつ、Ｍは、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｉ、ＳｉまたはＢから選ばれる１種または２種以上の元素）を形成し、上部層として、（Ｃｒ_１−ａＢ_ａ）Ｎ_ｂ相（但し、０．４≦ａ≦０．７、０．１５≦ｂ≦０．５５）素地に、下部層との界面から上部層最表面へ向かうにしたがって、ＢＮ相の分散分布面積割合が次第に増加するＢＮ分散ＣｒＢＮ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数枚の比較的大面積の基板に成膜が可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板４ａ，４ｂの表面に、同時に成膜が可能なスパッタリング装置Ｘ_０であって、基板４ａ，４ｂの表面に成膜される薄膜の材料から構成されたターゲット２と、ターゲット２と対向して配置される基板４ａ，４ｂを保持可能に構成された基板ホルダ３ａ，３ｂと、基板４ａ，４ｂをそれぞれ保持する複数個の基板ホルダ３ａ，３ｂを取り付けた成膜トレー１と、を有し、基板４ａ，４ｂは、基板４ａ，４ｂが成膜トレー１に対し所定の角度（α）を有するように傾斜させて基板ホルダ３ａ，３ｂに取り付けられたスパッタリング装置Ｘ_０。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において成膜再現性を改善する。
【解決手段】真空槽の底面側に配置される蒸着材料充填容器を有する蒸発源、蒸着材料充填容器に対向配置された基板保持部、及び基板保持部と蒸着材料充填容器の間に開閉可能に設置されたシャッタを備えた真空蒸着装置において、さらに、真空槽の底面側に配置され、蒸着材料充填容器を囲む遮蔽板を備え、遮蔽板について、遮蔽板の高さが蒸着材料充填容器よりも高くかつシャッタ閉時のシャッタ下面位置よりも低く、遮蔽板の内周によって画定される領域がシャッタ閉時のシャッタ外周によって画定される領域内に含まれ、遮蔽板が蒸着材料充填容器から離隔されて配置され、遮蔽板の平面断面図において、遮蔽板がその内周によって画定される領域の閉塞を開放する少なくとも１つの開放部を有する構成とした。 （もっと読む）

【課題】低中硬度被削材の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、（ａ）下部層として、組成式：（Ｃｒ_1−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎ又は組成式：（Ｃｒ_{1−Ｘ−Ｚ}Ａｌ_ＸＭ_Ｚ）Ｎ（Ｍは、Ｃｒを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上。０．４５≦Ｘ≦０．７５、０．０１≦Ｚ≦０．２５）を満足するＣｒとＡｌ（とＭ）の複合窒化物層、（ｂ）上部層として、層厚方向に沿って、Ｙ最高含有点とＣｒ最高含有点とが交互に繰り返し存在し、ＣｒとＹの含有割合が連続的に変化する成分濃度分布構造を有し、Ｙ最高含有点が、組成式：（Ｃｒ_１−αＹ_α）Ｎ（０．１６≦α≦０．２６）を満足し、Ｃｒ最高含有点が、組成式：（Ｃｒ_１−βＹ_β）Ｎ（０．０１≦β≦０．１０）を満足するＣｒとＹの複合窒化物層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、基板ホルダの基板受け治具に被処理基板を嵌め込む際に、被処理基板を浮きなく嵌め込め、その結果、被処理基板の外周縁に割れ、欠けが発生しない基板ホルダおよびそれを備えた成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明の基板ホルダ２１および蒸着装置２０は、筒体２２ａの下端に内向きに張り出す内側フランジ２２ｃを有し、筒体２２ａに嵌め込まれた半導体基板４の外周縁を内側フランジ２２ｃで支持する基板受け治具２２を備え、内側フランジ２２ｃに、半導体基板４の外周縁に対する逃げ溝２３を設けた基板ホルダ２１およびそれを備えた蒸着装置２０である。 （もっと読む）

【課題】大型化することなく多数のワークに一括して成膜処理を行える装置を提供する。
【解決手段】主軸１３を中心に回転する主回転部１５には、複数の副回転部１６を設けてあり、各副回転部１６には、それぞれ複数のワークホルダ１７を設けてある。ワークホルダ１７に保持されるワークＷは、主回転部１５，副回転部１６の回転により、主軸１３を中心にした回転と副軸３６を中心にした回転をしながら、回転軸４６を中心に自転し、各ワークＷの各面がターゲットに順次に対面されて成膜が行われる。 （もっと読む）

【課題】 高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、硬質被覆層として（Ｃｒ，Ａｌ，Ｍ）Ｎ層（但し、Ｍは、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｎｂ、ＭｏまたはＴｉから選ばれる１種または２種以上の元素）が蒸着形成され、該（Ｃｒ，Ａｌ，Ｍ）Ｎ層は、立方晶構造からなる薄層Ａと、立方晶構造と六方晶構造の混在する薄層Ｂの交互積層構造からなる。 （もっと読む）