【課題】 ターゲットと処理基板とを立てた状態で平行に対向させてて、搬送しながらスパッタ処理を行う縦型のインラインスパッタ装置おいて、搬送の振動、処理基板の破損、処理基板の移動に起因する、歩留まり低下や品質面の問題を解決できる保持方法を採りいれたスパッタ装置の提供。
【解決手段】 インラインで、搬送しながらスパッタ処理を行い、処理基板２０の一面側にスパッタ成膜を施すスパッタ装置であって、処理基板２０の成膜する側の面とターゲット３０とを、平行に対向させ、鉛直方向６２もしくは鉛直方向から斜めに傾けて配しているもので、前記キャリアには、搭載された処理基板のスパッタ処理面側でない裏面側から、あるいは、搭載された処理基板のスパッタ処理面側の非処理領域において、前記処理基板の少なくとも一部を、静電吸着により吸着し、且つ、処理基板の面方向における位置が固定された支持部に保持される静電吸着部を設けている。 （もっと読む）

【課題】真空処理室に被処理体を搬入出するためにゲートバルブを開けた際に真空処理室のプロセス雰囲気が隣の搬送室側に拡散または逆拡散するのを確実に防止すること。
【解決手段】ゲートバルブＧＢが開状態となるとき、真空搬送室１０内では当該ゲートバルブＧＡの足元に位置する周辺局所排気ポート４６だけが唯一排気稼動している排気口であることから、真空搬送室１０内の至る所から気体が当該ゲートバルブＧＡないし当該周辺局所排気ポート４６付近に向って流れてくる。このような局所排気により、真空搬送ロボットＲＢ₁の搬送アームやウエハＷが開状態の当該ゲートバルブＧＡを通っても真空処理室１２内のプロセス雰囲気が真空搬送室１０内に入ってくる確率は非常に低く、たとえプロセス雰囲気が入ってきても直下の周辺局所排気ポート４６へ押し込められて、そこから速やかに排出される。 （もっと読む）

【課題】金属膜の応力に起因したガラス基板の反りを緩和できるスパッタリング装置を提
供する。
【解決手段】基板上に、スパッタリング用ターゲットを用いて金属膜を形成するためのス
パッタリング装置において、バッファ部と、当該バッファ部の周囲に配置され、スパッタ
リングを行うためのスパッタリング処理部と、バッファ部の周囲に配置され、スパッタリ
ング処理部において金属膜が形成された基板を加熱処理することにより金属膜の応力を緩
和するための加熱処理部と、バッファ部を介して、スパッタリング処理部又は加熱処理部
へ基板を移送するための移送手段と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 同一または異なる真空チャンバ内に配置したターゲット相互間でその投入電力を迅速に切換えることができ、十分な耐久性を有し、その上、低コストなスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 複数の真空チャンバ４１ａ、４１ｂに配置した複数の一対のターゲット４１ａ、４１ｂ、４１ｃ、４１ｄと交流電源とを備え、この交流電源を、電力供給部６及び発振用スイッチ回路７２を有する複数の発振部７に分けて構成する。そして、各発振用スイッチ回路の作動を制御する制御手段と、前記複数の一対のターゲット相互間で交流電圧を印加されるものを切り換える切換信号を制御手段に入力する切換手段９とを設け、切換信号が入力されている制御手段によって、いずれかの一対のターゲットに所定の周波数で交互に極性をかえて電圧を印加できるようにする。 （もっと読む）

【課題】構造欠陥の発生が少ない蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、少なくとも、前記基板を製造装置上にセットした状態においては防塵用カバーを取り付けておき、前記成膜材料の蒸発開始後に前記防塵用カバーを取り外し、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。なお、蒸発開始前には、前記基板を前記成膜材料の蒸発源上方から退去させておくことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】結晶性が良好で、且つ、膜厚分布が均一である蛍光体層を形成することのできる真空蒸着方法を提供することにある。
【解決手段】真空蒸着室内に設けた蒸発部から蒸発させた成膜材料を前記蒸発部の上方を直線状に往復移動する被処理基板の表面に蒸着させる真空蒸着方法において、
前記成膜材料の蒸着は、０．１〜５Ｐａの圧力下で、下記の式（１）の条件を満たす位置に、前記蒸着部および前記往復移動の際の被処理基板の折返し位置を設けて行われることにより、前記課題を解決する。
０＜Ｌ_１／Ｌ_２＜１．２５ （１）
（式中Ｌ_１は、前記蒸発部の蒸発口が属する水平面から前記被処理基板までの垂直距離を示し、Ｌ_２は、前記折り返し位置に位置する被処理基板の前記蒸発部側の端部と前記蒸発部の蒸発口の前記被処理基板側の端部との水平距離を示す。） （もっと読む）

【課題】処理基板をキャリアに搭載した状態で、インラインで、キャリアごと搬送しながら、該処理基板の一面側に成膜を施す成膜装置で、搬送系において強磁性体材料からなる磨耗カスが発生しても、磨耗カスによる品質面での悪影響を無くすことができる成膜装置を提供する。
【解決手段】搬送系における磨耗カス発生箇所近辺に、該磨耗カス発生箇所において発生した強磁性体材料からなる磨耗カスを磁気により吸着して、磨耗カスの発生箇所からの分散を防止するための、第１の磨耗カス吸着部１０を備えているもので、該第１の磨耗カス吸着部１０は、磁性体材料からなる吸着用材１１に接してマグネット１２を配して、該吸着用材１１に磁気を帯びさせたものである。 （もっと読む）

【課題】 半導体結晶成長処理されるべき基板を保持する基板ホルダが、大気に曝されることを防止し、基板ホルダに付着する堆積物を除去することによって、基板ホルダおよび堆積物が半導体結晶を成長させる際の酸素汚染源となることを防止し、特性に優れた半導体結晶を得る。
【解決手段】 半導体結晶の成長が完了した基板２７の取外された基板ホルダ２８が、基板導入室２２の所定位置から取出されるとき、半導体結晶成長の過程において基板ホルダ２８に付着した堆積物を基板ホルダ処理室２６で除去するとき、および堆積物が除去された基板ホルダ２８を基板導入室２２の所定位置にセッティングするとき、のいずれのときにおいても、基板ホルダ２８は、不活性ガス雰囲気または真空雰囲気中で取り扱われる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機化合物を含む発光素子を製造するための装置および方法に関する。
【解決手段】これらの素子には、有機発光ダイオードが備えられており、ディスプレイまたはかかる発光ダイオードを有する照明素子であってもよい。本発明の目的は、製造のために使用する時間のコストに関する製造経費を低減することである。この場合、既に前処理された基板が連続式真空コーティングプラントにおいてさらに加工される。かかる基板上には、その上方に発光のために適合する有機化合物の少なくとも一つの層が蒸着することが意図されている電極が形成される。蒸着は相違する角度分布を備えて行われる。このためにはシャドーマスクが使用される。蒸着における角度分布は、シャドーマスクから基板までの間隔および／または上部電極および有機物層を蒸着するためのソースの基本圧を変化させることによって適応させることができる。 （もっと読む）

【課題】構造欠陥の発生が少ない蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上への成膜材料の蒸着により所定の蛍光体膜を形成する蛍光体シートの製造方法であって、前記基板を前記成膜材料の蒸発源上方から退去させておき、前記基板と前記成膜材料の蒸発源との間に設けられている開閉可能なシャッタを閉じた状態で前記成膜材料の蒸発を開始し、一定時間経過後に、前記シャッタを開き、その後に前記基板の搬送を開始し、前記基板上に前記蛍光体膜を形成することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。 （もっと読む）

【課題】形状安定性を損なうことなく可撓性を有するシートを保持する。
【解決手段】一側が第２加圧部材１４により支持された可撓性のあるシート部材３４に対し、他側から環状弾性部材１２を圧接して、シート部材３４を環状弾性部材１２とシート部材３４との間に生じる摩擦力によって、歪み等を発生させることなく拘束する。そして環状弾性部材１２を環をたどる方向の中心線を中心に回転させることによりシート部材３４に対し放射状の張力を作用させることによりシート部材３４が例えば熱応力等により変形することを回避する。 （もっと読む）

【課題】安価で且つ効率良く製作し得る、回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体、それを用いたスパッタリングカソード組立体、及び回転円筒型マグネトロンスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】回転円筒型マグネトロンスパッタリングカソード用ターゲット組立体Ａは、６面以上の多面筒状支持体１の各外側面１aにバルク状の短冊形ターゲット材料片２をそれぞれ接合して、このターゲット材料片２の外周面を円筒状に加工して構成される。 （もっと読む）

本発明の1つの目的は、気化させる粒子状材料を再装填する効率的な方法を提供することである。この目的は、気化ゾーンを有する蒸着チェンバーの中に材料を供給してその材料を気化させて層を形成する方法によって達成される。改善点として、材料の汚染を防ぐために制御された環境下で材料を受け取るキャビティを規定するカートリッジを用意するステップと、そのキャビティからの材料を受け取り、受け取ったその材料を供給路に沿って気化ゾーンまで移動させるステップと、カートリッジを蒸着チェンバーに取外し可能に固定するステップを含んでいる。
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【課題】放電遅れ時間の小さいプラズマディスプレイパネル用の保護膜を実現し、高精細プラズマディスプレイパネルとして長寿命で高品質の画像表示が可能なプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】蒸着室２０１において前面ガラス基板１１上に酸化マグネシウムの保護膜を形成する保護膜形成装置であって、酸素を蒸着室２０１へ導入する酸素吐出口２２２と、前面ガラス基板１１搬送方向の下流から水蒸気を蒸着室２０１へ導入する水蒸気吐出口２１０と、蒸着室２０１内の水素イオン強度と酸素イオン強度とを測定する質量分析器２２４と、質量分析器２２４により測定されたイオン強度によって水蒸気の導入流量を制御するマスフローコントローラ２１５と酸素の導入流量を制御するマスフローコントローラ２２１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】可視光透過率が減少せず、コーティングの色に悪影響を与えず、耐久性が高い、赤外放射の反射率が高い低放射率コーティングの提供。
【解決手段】前記コーティングは、３つの赤外反射フィルム領域を備え、それぞれ銀を含む。また、本発明によれば、対向する第１および第２主面を有するコーティングされた透明窓板であって、前記コーティングされた窓板は第２の窓板を含む複層断熱グレージングユニットの一部であって、前記断熱グレージングユニットは、窓板間のスペースを有し、前記コーティングされた窓板の前記第２主面はこの窓板間のスペースに曝されており、前記第２主面は、前記低放射率コーティングを備え、前記コーティングされた窓板の可視光透過率は、０．６０を超えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 処理基板の成膜する側の面とターゲットプレートとを、平行に対向させ、マグネトロンスパッタ方式でスパッタを行うスパッタ装置で、従来の、ターゲットプレートの非エロージョン部分に、該ターゲットプレートから飛散したものが付着し、厚くなり、付着したものが剥れて、処理基板への異物付着となり、処理基板に異物欠陥やＰＨ等の欠陥を発生させるという問題を、解決できるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】 処理基板の成膜する側の面とターゲットプレートとを、平行に対向させ、マグネトロンスパッタ方式でスパッタを行うスパッタ装置であって、前記ターゲットプレートは、バッキングプレートに沿い保持された状態でスパッタ処理に供されるもので、前記ターゲットプレートの前記処理基板面側をエロージョン部分のみとしている。更に、該ターゲットの外周に沿い防着板を設けている。 （もっと読む）

【課題】 より低い温度で基板を加熱した場合でも金属材料を十分にホールに埋め込むことができる高温リフロースパッタリングの技術を提供する。
【解決手段】 セパレーションチャンバー１の周囲に気密に接続された複数の処理チャンバーのうちの一つはスパッタチャンバー４であり、二段階成膜が行われる。第一の行程ではターゲット４２と基板９との距離は長い第一の距離とされてホール９０の内面にベース薄膜９３が作成され、第二の工程ではターゲット４２と基板９との距離が短い第二の距離とされ、ヒータ４４１で基板９を加熱して薄膜をリフローさせてホール９０内に埋め込む。セパレーションチャンバー１は、冷凍機１３により１３０Ｋ〜５０Ｋに冷却されるパネル１２が設けられ、不純ガスがパネル１２の表面に凝縮される。 （もっと読む）

【課題】窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット自体の反応を防止し、所望の光学的・物理的特性を有する窒化物含有薄膜を形成することを可能にする。
【解決手段】ターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタして基板Ｓの表面にケイ素を付着させるマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと、このマグネトロンスパッタ電極２１ａ，２１ｂと離間した位置に形成された反応プロセス領域６０Ａに基板Ｓを搬送する回転ドラム１３と、反応プロセス領域６０Ａに窒素ガスを供給する反応性ガス供給手段７０と、反応プロセス領域６０Ａ内で窒素ガスのプラズマを発生させて基板Ｓに付着したケイ素を窒化ケイ素に変換するプラズマ発生手段６０と、を備えた。ターゲット２２ａ，２２ｂに窒素ガスが供給されないため、窒素ガス等の反応性ガスによるターゲット２２ａ，２２ｂ自体の反応が防止される。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象となる基板とメタルマスクとの位置ずれを抑制することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を画素毎に備えた表示装置の製造装置であって、有機活性層を構成する第１機能層を蒸着する第１チャンバ２１０と、各画素に対応した開口部を有するメタルマスク２２２を備え第１機能層上における画素毎にメタルマスク２２２を介して第２機能層を蒸着する第２チャンバ２２０と、第１チャンバ２１０と第２チャンバ２２０とを接続し第１機能層を蒸着済みの処理基板ＳＵＢを第２チャンバ２２０に搬送する搬送チャンバ２３０と、搬送チャンバ２３０内の処理基板ＳＵＢを所定温度に保温する保温機構２４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】暗点欠陥の原因となる分解物質や副生成物などのゴミが成膜中に混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことを目的とする。
【解決手段】開口部を有する蓋付きの坩堝内に金属酸化物と金属酸化物よりも熱伝導率の高い物質であるセラミックスとを充填して蒸着を行うことで、成膜中に暗点欠陥の原因となるゴミが混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことができる。よって、膜質及び成膜の再現性が向上する。 （もっと読む）