【課題】 基板上に堆積する物質の膜厚又は成膜速度の測定において、安定した測定手段によって成膜中リアルタイムで膜厚又は成膜速度を監視する。
【解決手段】 発振回路を有する水晶振動子上に堆積する物質の膜厚又は膜厚変化量をモニタする測定装置であって、水晶振動子の振動周波数を送信する送信手段、水晶振動子および送信手段を連動して移動させる移動手段、並びに水晶振動子の振動周波数を受信する受信手段を有し、水晶振動子上への物質堆積時に送信手段の送信部が移動する移動経路内の任意の一点と受信手段の受信部とが常に略一定距離を保つように構成した。 （もっと読む）

シート状基材を処理するための方法および設備を提供する。前記方法および設備は、シート状基材の両主表面上へのコーティングの蒸着に有用である。また、両主表面上にコーティングを有する基材を提供する。好ましくは、基材の対向する主表面上のコーティングは、構造が異なるが、少なくとも２つの膜領域、いくつかの実施形態においては、少なくとも３つの膜領域の構造配列が共通している。
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【目的】成膜対象基板の所望する部位に成膜材料を成膜する際に、マスクの位置合わせや、レーザ走査位置の位置合わせを不要とし、容易な成膜処理を実現する。
【構成】成膜対象となる基板にレーザ光を照射して成膜材料をアブレーションさせて成膜対象基板の成膜対象面に溶射する成膜方法にて、成膜材料から成るターゲット基板と、成膜対象となる基板の成膜面との間にあらかじめ形成すべき成膜パターンに対応した間隙寸法差を形成し、その寸法差による成膜条件の違いを利用して、パターニングを行う。 （もっと読む）

【課題】安定して所望する膜厚の薄膜からなる表示素子を製造することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を構成する薄膜を形成するための材料源を備えた蒸着源４１０と、待機位置５０１において蒸着源４１０と対向し蒸着レートを測定する計測機構４２０と、待機位置とは異なる処理位置５０２において処理対象基板ＳＵＢの主面を蒸着源４１０に対向した状態で走査する走査機構４３０と、計測機構４２０により測定された蒸着レートに基づき蒸着源４１０から材料源の飛散が開始されてからの時間の経過に伴う処理対象基板主面上での成膜厚の変化を補償するように走査機構４３０の走査速度を設定する速度設定機構４４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】鉛直状態で移送されるトレイを安定かつ高速に移送し、トレイの進入及び排出を感知することができるトレイ移送装置を提供する。
【解決手段】基板及びマスクが固着され、下端に棒状の密着部材が設置された鉛直状態のトレイ１１２の移送のためにトレイ下部に密着して移送経路を形成し、駆動源によって回転される複数のプーリー１１４を備えた移送部と、前記トレイ１１２の移送路上にセンサーを備え、トレイ１１２の進入及び排出を感知できる感知部とを含んでなる移送装置１００。 （もっと読む）

基材上に薄いコーティングをスパッタリングするための改良されたスパッタリングチャンバである。あるスパッタリングチャンバは、チャンバ内部の方向、および、スパッタリングターゲットの方向に内向きかつ上向きに配置されている剥離片シールドを含み、該剥離片シールドは、さもなければ被コーティング基材上に落下する可能性のあるオーバーコーティングされたスパッタリング材料の保持に役立ち得る。別のスパッタリングチャンバは、鉛直線に対して内側に、かつ、互いの方向に向けられているマグネットを有するターゲットを含む。マグネットを内側に回転することにより、より多くの材料をチャンバの開放された底部中心の方向へ、より少ない材料をチャンバの側壁の方向へ蒸着することができる。さらに別のスパッタリングチャンバは、下側の２つのターゲットの間およびそこから上向きに配置されている第３ターゲットを含み、これにより、スパッタリングチャンバ内部の一部を第１および第２ターゲットからスパッタリングされた材料から保護する。いくつかのチャンバは、三角形、例えば、二等辺三角形または正三角形を形成する３つのターゲットを有している。スパッタリングターゲットのそのような三角形構成を有するあるチャンバにおいて、第１および第２ターゲットは、二等辺三角形の底辺を形成し、かつ、鉛直線に対して内向きで互いの方向に向かって設置されているマグネットを有する。提供されるスパッタリングチャンバは、チャンバの内部に堆積するオーバーコーティングスパッタリング材料の量の低減、および／または、さもなければ被コーティング基材上に落下するであろうオーバーコーティングスパッタリング材料の保持に役立ち得る。
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【課題】連結ホールが形成された鉛直状態のトレイと、連結ホールと係合される連結アームが形成されたホルダープレートを具備し、トレイ及びトレイホルダーの曲がりが防止されたトレイ及びトレイホルダー用整列システムを提供する。
【解決手段】基板及びマスクが固着されることができ、連結突起を具備する複数の連結ホール１１０が形成されて鉛直状態で移送されるトレイ１００と、このトレイ１００と連結されるように前記連結ホール１１０に挿入され得る連結アーム２１０であって、前記連結ホール１１０に挿入された状態で前記連結突起に係合し得る連結溝が形成された連結アーム２１０、及び前記連結アーム２１０が設けられたホルダープレート２９０を含むトレイホルダー２００とを含んでなる。 （もっと読む）

本発明の薄膜の形成方法は、基板を保持するための基板ホルダ１３の搬送速度を制御しながら、基板ホルダ１３を、中間薄膜形成工程を行う領域と膜組成変換工程を行う領域との間を繰り返し搬送させて、最終的に形成される薄膜の膜組成を調整し、ヒステリシス現象が起きる領域の光学的特性値を有する薄膜を形成する光学的特性調整工程とを備える。
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【課題】
大気とは異なる環境において長寿命を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
移動テーブル４の表面側と裏面側に振り分けて回転台２４と駆動ユニット２５とを配置したので、重量バランスを適正にとることができ、スライダ３の負担を抑えることで超寿命化を図ることができる。また、回転台２４と駆動ユニット２５を支持する移動テーブル４の剛性も低くて足りるので、これを小型化することで構成のコンパクト化を図ることができ、更にモータ９の定格出力も小さくすることができてコスト低減を図れる。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に低下させ、かつ設置面積を大幅に小とすることのできる真空装置を提供する。
【解決手段】ロードロックチャンバ１ａ，１ｂ及びバッファチャンバ２を排気する第１の主ターボ分子ポンプ系５と、プロセスチャンバ１０ａ，１０ｂを排気する第２の主ターボ分子ポンプ系６０とを備え、これら第１、第２の主ターボ分子ポンプ系５，６０を構成するターボ分子ポンプ６ａ〜６ｃ及びターボ分子ポンプ１２ａ，１２ｂのそれぞれの背圧を低下させる補助ポンプ５０を共通の１個のポンプで構成する。 （もっと読む）

【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
連結部材１２が、フレーム１の上板１ｂと、真空チャンバＣの頂板下面Ｃ２とを連結するが、フレーム１と真空チャンバＣの側面とを連結しないので、真空チャンバＣの内外で生じる差圧に従い、比較的大きな変形が、真空チャンバＣの側面で生じた場合でも、かかる差圧がフレーム１に与える影響を低く抑えることができる。又、真空チャンバＣの側面で変形が生じた場合、真空チャンバＣの底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離が変化することになるが、連結部材１２の薄板部材１２ｃがたわむことによって、底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離の変化に対応できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】インライン形態の薄膜蒸着システムにおいて、基板を固定及び支持して鉛直蒸着を具現し、移送中微細粒子の影響を最小化してマスクの平坦度を充分に確保することができる整列システム、垂直型トレイ移送装置及びこれを具備した蒸着装置を提供すること。
【解決手段】鉛直に基板１０が固着された基板トレイ１００と、前記基板トレイ１００と整列されるように鉛直にマスク３０が固着されたマスクトレイ３００と、前記基板トレイ１００とマスクトレイ３００が締結部によって締結されるトレイホルダーと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 複雑なシャッター機構を設けることなく真空槽内のプリスパッタ等の前処理が可能な成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】 直列に接続された複数の真空槽１のそれぞれに複数のトレー４を順次に移送して、トレー４に保持したワーク６に各真空槽１内で成膜処理を施す成膜装置において、複数のトレー４はそれぞれ、各真空槽１内の所定の成膜位置に配置された時に槽両端の開口２ａをトレー４自体の通過を許容する隙間を残して閉塞して、コンダクタンスにより真空槽１内に所定の雰囲気を保持する閉塞部としての突部１０を少なくとも端部に有した構造とする。複数のトレー４の内の一部は、ワーク６を搬送しないダミートレー４ｂとし、ダミートレー４ｂが移送された真空槽１内でプリデポジション処理が行われるように構成する。トレー４自体を遮蔽手段として密封して各真空槽１に個別の雰囲気を保持できる。 （もっと読む）

【課題】 長尺なプラスチックフィルムの基材上に電子ビームを使い蒸着薄膜を連続的に形成する巻き取り式電子ビーム真空蒸着装置の除電器に関する。除電器の長期間使用においても除電装置の電極起因のゴミのプラスチックフィルムに巻き込まれによる不良を防ぎ、ゴミの電極とアースとの間に入り短絡することを防ぐ。
【解決手段】 除電器の電極表面を炭素材料により構成する。 （もっと読む）

ウエハ製造方法および製造システムが述べられており、本システムの占める床面積は実質的に複数のプロセスチャンバに近いサイズ内である。一連のウエハは、システムを通して水平方向に移動し、プロセスチャンバのグループ内で同時に処理がなされる。半導体ウエハ製造に採用される種々の製造プロセスが、本システムのプロセスチャンバとして含まれる。
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本発明は、光電池を製造するべく基板上に薄いレイヤを堆積させる装置を有しており、この場合に、隣接する反応チャンバの相互汚染を防止すると共に、それぞれの反応チャンバ内の圧力レベルを制御しつつ、同時に、機械的な障害物を伴うことなしに、１つの反応チャンバから次のチャンバへの基板の連続した搬送を実現する低圧の隔離ゾーンにより、個別の反応チャンバが互いに分離されている。 （もっと読む）

【課題】搬送効率を向上させ得る搬送装置を提供する。
【解決手段】ベース部３１を回動させるモータ３２と、ベース部３１の中心部に挿通された中心軸３３を回動させるモータ３４と、基材１０１を保持可能に構成されると共に中心軸３３に対して接離する方向に沿ってスライド可能にベース部３１に配設されたスライダ３５ａ，３５ｂと、中心軸３３の回動に応じてスライダ３５ａ，３５ｂをスライドさせるリンク機構とを備えている。これにより、基材１０１を搬送する効率を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ケーブル、帯、柱状材などの被処理材を長手方向に移動させながら、その表面に厚み２μｍ以上の厚い薄膜を作製することが可能な薄膜作製方法及び装置を提供すること。
【解決手段】直径よりも軸方向長さの方が２倍以上長い管状材１を一方の電極とし、もう片方の電極を管状材１中を通過するケーブル、帯、柱状材などの長尺の被処理材２そのものとする筒状スパッタ装置４を構成する。この筒状スパッタ装置又はこれと二極平板型のスパッタ装置を総計で２以上配置し、これら２以上のスパッタ装置のそれぞれの電極間にプラズマを発生させ、このプラズマ中に被処理材を長手方向に順次に通過させ、被処理材２の表面にスパッタによる金属、半導体、絶縁体などの各種薄膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】 タクトタイムを短縮して、生産性を向上させるとともに、安価な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室と、基板を載置して搬送する基板キャリア１２、１４と、基板を大気側と真空側との間で搬入、搬出するためにＬ／ＵＬ室３０とを具備した真空処理装置１０において、真空処理装置１０の大気側の基板搬送を行う大気側基板キャリア１２と、真空処理装置１０の真空側の基板搬送を行う真空側基板キャリア１４と、大気側基板キャリア１２及び真空側基板キャリア１４相互間で、基板を受け渡しする基板受け渡し機構とを備えた構成とした。
また、タクトタイムを短縮するには、大気側基板キャリア１２をＬ／ＵＬ室３０の基板入れ替え口の前面に２以上配置可能な構成とすると一層効果的である。 （もっと読む）

本発明は、ある実施形態において、薄膜を付し、その後、そのスパッタフィルムの上を覆って仮保護フィルムを付すスパッタ堆積技術を提供する。薄膜は、任意的に、酸化ガス及び／又は不活性ガスを含有するガススパッタリング雰囲気において、ターゲットをスパッタすることによって付すことができる。本発明は、ある実施形態において、例えば、スパッタリングによって、少なくとも１つの主表面上に堆積させた、仮保護フィルムを担持する薄膜コーティングを有する断熱板ガラスユニット又はモノリシック窓板に関する。本発明は、また、そのような製品の高効率な製造方法を含む実施形態も提供する。 （もっと読む）