【課題】複数の異なる構造および膜組成をもつタンデム積層型有機薄膜機能素子を同一真空槽内で効率的に簡便に形成することが可能な有機薄膜形成装置を実現する。
【解決手段】薄膜形成装置において、真空槽、真空槽内部に形成され各々独立の成膜雰囲気を維持可能な複数の小成膜室、各小成膜室に配置される少なくとも１つの蒸着源、蒸着源に対面する所定の成膜位置に基板を配置させる基板保持手段、および、基板保持手段を駆動する移送機構を備え、移送機構を用いて任意の小成膜室内に任意の基板を配置させ、各小成膜室において基板それぞれが独立してかつ所望の時間に成膜される構成とした。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層における柱状結晶の成長状態が均一で、画質ムラがない蛍光体シートを製造することができる蛍光体シート製造装置の提供。
【解決手段】真空チャンバ１２と、真空チャンバ内を、側面に設けられた排気口を介して排気する真空排気手段と、容器に収納された蓄積性蛍光体層の成膜材料を抵抗加熱によって加熱し、容器の開口部から成膜材料の蒸気を放出させる抵抗加熱手段と、抵抗加熱手段の上方において、基板を保持する基板保持手段１４と、蛍光体層の成膜中に、真空チャンバ内の真空度を調整するために、少なくとも１つのガス導入口を介して真空チャンバ内に不活性ガスを導入するガス導入手段とを有する。ガス導入口６０ａ，６２ａの縁部と排気口の縁部とを直線的に結んで形成される第１の領域と、抵抗加熱手段の容器の開口部の縁部と基板Ｓの縁部とを直線的に結んで形成される第２の領域とが交わらないようにガス導入口が設けられている。 （もっと読む）

【課題】 設置される場所の省スペース化。
【解決手段】 搬送室２と、搬送室２に接続されて基板を傾斜させて支持して真空処理する複数の処理室３−１〜３−６と、搬送室２の内を移動する基板搬送装置６とを備えている。基板搬送装置は、複数の処理室３−１〜３−６のうちの１つの処理室から搬送室２に基板を傾斜させて支持して搬出し、複数の処理室３−１〜３−６のうちの他の処理室に搬送室２から基板を傾斜させて支持して搬入する。複数の処理室３−１〜３−６は、複数の右側処理室３−１〜３−３と、搬送室２を隔てて右側処理室３−１〜３−３の反対側にそれぞれ配置される複数の左側処理室３−４〜３−６とから形成される。このような真空処理装置１は、複数の処理室３−１〜３−６がクラスター型に配置されるときより、狭い場所に設置することができる。 （もっと読む）

基板洗浄装置は、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種との第一比率を有する活性ガスを形成するために水素含有ガスを遠隔励起するリモートソースを有する。本装置は、基板支持体と、遠隔励起ガスをろ過して、イオン水素含有化学種とラジカル水素含有化学種の第二比率を有し、第二比率が第一比率と異なる、ろ過された励起ガスを形成するイオンフィルタと、チャンバにろ過された励起ガスを導入するガス分配器とを備えたプロセスチャンバを有する。
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【課題】前処理工程における基板の汚染の問題がなく、しかも基板とマスクとの正確な位置合わせを行って精細な有機発光層を形成することが可能な有機ＥＬ素子製造技術を提供する。
【解決手段】本発明は、基板１０に対する前処理工程を有する有機ＥＬ素子製造方法であって、前記前処理工程が、真空中で前記基板１０を加熱及び冷却する工程を有し、当該冷却工程の終了後、当該基板１０に対して成膜用マスク１１の位置合わせを行い、さらに、成膜用マスク１１を介して基板１０上にホール輸送層を形成し、その後、少なくとも１色の有機発光層の形成を行うものである。前処理工程における冷却は、ベーク室２３における加熱処理の後と、前処理室２５における真空プラズマ処理の後に、冷却室２４において行う。 （もっと読む）

【課題】 基板の汚染を防止して優れた膜質の成膜を行うことができると共に複数の基板の膜質を均一化することができ、且つコストを低減した成膜処理方法を提供する。
【解決手段】 内部が真空状態の搬送室によって繋がれた基板の成膜処理を行うチャンバー間で前記基板を前記搬送室内を通過させて搬送する際に、一方のチャンバーで成膜処理が終わった当該基板を前記搬送室内で待機させることなく前記搬送室を可及的速やかに通過させて他方のチャンバーに搬送する。 （もっと読む）

【課題】 被処理基板へのスパッタ処理の際のバイアス電圧の印加や、スパッタ法によるエッチング処理の際の給電を良好に行える表面処理装置を提供する。
【解決手段】
本発明の表面処理装置は、表面処理が施される被処理基板を基板ホルダにより一体的に保持した後に表面処理を行う表面処理装置において、上記基板ホルダに給電可能な突出部が設けられていることを特徴とする。かかる構成とすることによって、基板ホルダを介して被処理基板から外方に離間した位置で給電することが可能となる。それにより、プラズマ生成領域の外で給電出来る。また、被処理基板に給電痕を残さずに該基板の両面をプラズマ処理することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】生産効率を向上させ得る搬送装置を提供する。
【解決手段】中心孔が形成された基材１０１を保持する保持部３３と、中心孔とその装着用突起部とが嵌めあわされて基材１０１が装着されるマスク２０１に対して接離する向きに沿って保持部３３を移動させる移動機構３１と、マスク２０１に対して接離する向きを回転軸として保持部３３を回転させる回転機構３２と、制御部とを備え、制御部は、回転機構３２を制御して保持部３３を回転させつつ移動機構３１を制御して保持部３３を移動させることによって保持部３３に保持されている基材１０１をマスク２０１に対して着脱させる。 （もっと読む）

基板クリーニング装置を備えたコータを開示する。また、基板クリーニング装置を備えたコータにおける基板の処理方法も開示する。基板クリーニング装置は、イオン銃（つまり、イオン源）を備えている。イオン銃は、コータ内に延びている基板走行路の下方（例えば、基板支持部の下方）に配置され、基板の底主面の処理に適している。一定の実施形態は、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置を備えている。この種のいくつかの実施形態において、上向コーティング装置は、基板の底主面に対し、光触媒コーティングを上方に向かって堆積するように構成されている。本発明のある実施形態は、下向コーティング装置を備えており、基板クリーニング装置は、基板走行路に沿って、前記下向コーティング装置よりも先方にある。この種のいくつかの実施形態はまた、基板走行路に沿って、基板クリーニング装置よりも先方に、上向コーティング装置も備えている。
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スパッタ付着プロセスを改良する方法が提供されている。本方法は、下記のステップ、(ａ）真空を設けるステップと、(ｂ）設けられた真空中に電極（１０、３４、３４’、４４、４４’）を設けるステップと(ｃ）、前記電極（１０、３４、３４’、４４、４４’）と接触しない、前記真空中に基板を設けるステップと、（ｄ）真空中に装置（２２、２２’、２４、２４’、２６、２６’、２８、２８’、３０、３６、３６’、４８、４８’）をもたらすステップとを備える。本装置は、電極に対して相対運動状態であり、接触ゾーン全体にわたり電極と接触している。本装置は、電極から固体物質を取り除いたりあるいは電極に固体物を貼付したりする。本方法は、簡単なメカニズムによって行われる。複雑なエレクトロニクスあるいは精巧な制御アルゴニズムを必要としない。本方法は、真空中で行われる、すなわち、真空を破壊する必要なく、そのために機械停止期間が減少される。
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【課題】 複数の真空処理室あるいは真空処理容器とこれらに共通の搬送室を備えた真空処理装置であって、メンテナンスや機器の取り付け、取り外しといった作業が容易な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 多角形の搬送チャンバの隣合う辺に取付けられた２つの真空容器と、前記各真空容器に接続された真空排気装置と、前記２つの真空容器及び前記真空排気装置の下方に各々配置されたステージと、前記各ステージと前記各真空容器との間に各々配置された複数の支持柱を有し、これら各支持柱のうちの１本は前記２つの真空容器間の狭隘部に配置され、前記２つの真空容器と前記２つのステージとに連結され、前記支持柱のうち他の複数の支持柱が前記真空容器の下方にそれぞれ配置されかつ前記真空排気装置を挟んで対応する側に配置された真空処理装置。 （もっと読む）

【課題】基板搬送機構に非接触の駆動伝達機構を採用し、成膜ゾーンに間隙無く基板トレーを搬送することにより無駄な成膜を低減する新方式の基板搬送機構を提供する。
【解決手段】成膜室に配した成膜ゾーンに、成膜される基板を連続的に搬送する連続式成膜装置において、基板を保持する基板保持手段、および基板保持手段に非接触で動力を伝達する駆動伝達機構からなる構成とした。 （もっと読む）

【課題】 真空成膜装置に使用され、 搬送ローラの位置の移動にステンレス・ベローズを使用しない基板の搬送機構、基板の幅の変更に対処しうる搬送機構を提供すること。
【解決手段】 真空成膜装置の移載室２において、ガラス基板ＧをキャリアＣから取出トレイＴｏへ移し換えるに際してキャリアＣを上昇、下降させるが、その時にキャリアＣを支持して搬送する搬送ローラ２３が支障とならないように、移載室２の側壁２ｓを挿通される搬送ローラ２３の回転軸３１を大気側回転軸３１ａと真空側回転軸３１ｂがそれぞれに設けたマグネットにより、大気側回転軸３１ａに属している真空隔壁３８を介して、マグネットカップリングされたものとし、真空側回転軸３１ｂに取り付けられてキャリアＣの搬送位置にある搬送ローラ２３を、カップリングを解除し真空側回転軸３１ｂを大気側へ移動させることによって退避位置とする。 （もっと読む）

【課題】 ワーク搬送手段との間でワークを搬入出する際に発生する大気開放時間を、適正に制御可能な真空処理システムを提供する。
【解決手段】 真空処理システム１００は、内部を減圧可能な真空槽１０と、前記真空槽１０の内部に空気を導入するための開閉手段１３と、前記真空槽１０との間でワーク１６を搬入出するワーク搬送手段２０、３０と、を備え、減圧状態にある前記真空槽１０の内部と前記ワーク搬送手段２０、３０との間で、前記ワーク１６を前記真空槽１０に搬入または前記真空槽１０から搬出する際に、前記ワーク搬送手段２０、３０と前記真空槽１０との間の前記ワーク１６の搬送状況に基づいて、前記開閉手段１３を開いて前記真空槽内部に空気が導かれるシステムである。 （もっと読む）

【課題】パルスレーザアブレーション蒸着（ＰＬＤ−パルスレーザ蒸着）の方法、及び移動する基材をコーティングするために、移動ターゲットのアブレーションによって最適な表面品質を生ずること。
【解決手段】本発明は、金属、ガラス、又はプラスチック製の部材をコーティングする方法に関し、可能な限り均一な品質を有する表面を作り出すために、前記部材を移動ターゲットからアブレーションされた材料プラズマファン中を移動させつつ、部材がレーザアブレーションによってコーティングされる。本発明はまた、当該方法によって生産される製品に関する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、異常放電などを引き起こすことなく、１枚のガラス基板から複数枚のパネルを安定に調製することを可能にする、基板へのスパッタ薄膜の形成方法および当該方法を実施するための搬送キャリアを提供すること。
【解決手段】 搬送キャリアを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、枠体との間で絶縁した状態で、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材に、基板が搬送キャリアに載置されている状態を形成するための保持部材としての機能、および／または、基板における２つ以上のスパッタ薄膜形成領域を画定するためのマスク部材としての機能を担わせる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機電界発光素子製造に使われる基板上に複数の薄膜を蒸着する装置に関する。
【解決手段】本装置は、マスク付着チャンバ、蒸着チャンバ、及びマスク回収チャンバを有する工程チャンバを有する。各々のチャンバ内の上部には移送ガイドが配置され、基板を支持する基板支持体は、蒸着チャンバ内で、工程実行時、そして工程チャンバ間の移動時、移送ガイドに沿って水平移動する。本発明の装置によると、工程にかかる時間を縮めることができ、設備面積が減る。また、一つまたは複数個のチャンバ単位でグループ付けられ、各グループ別の内部が他のグループの内部と隔離可能になるように、各グループ別の境界に位置する開口を開閉するゲートバルブが設けられる。これにより、特定グループに属するチャンバの維持補修時、他のグループに属するチャンバの内部は、継続的に真空で維持することができる。 （もっと読む）

【課題】 成膜プロセス領域内の局所的な成膜レートの違いにより基板間で生じる膜厚の差を、膜厚分布に関する情報として取得することが可能な薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置１は、基板Ｓとターゲット２２ａ、２２ｂとの間において、ターゲット面上の異なる複数の位置に対応して配設され、成膜プロセス領域内での発光を夫々受光する複数の光ファイバ３１−１〜３１−５を備えている。光ファイバ３１−１〜３１−５で受光した光から成膜プロセス領域２０から発光する光を夫々受光して、光学測定装置３３で所定の波長における発光強度を測定することにより膜厚分布に関する情報を取得する。更に、取得した膜厚分布に関する情報に基づいて、スパッタガスの流量調整や補正小片を駆動制御することで、成膜レートを局所的に調整して基板間で均一な膜厚となるようにする。 （もっと読む）

【課題】液化した有機材料が蓋体の下面に結露しても、この有機材料が坩堝の外部に漏れ出さない構造の蒸着装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置に用いられる基板の下方へ配され、有機材料を真空蒸着するための坩堝２２があり、坩堝２２は、貯留部２４と、蓋体２６と、ヒータを有し、また、蓋体２６には有機材料が吹出す吹出口２８が開口し、蓋体２６の外周部近傍の下面には、貯留部２４の開口部の内側に嵌合するひさし部３０が下方に突出している。 （もっと読む）

【課題】 低コストで信頼性の高い真空処理装置を提供する。
【解決手段】 ２つの真空容器２０３，２０４の間に配置され各々を連通して一方から他方に処理対象の試料が搬送される封止されたゲート１１０と、このゲートの経路上に配置され第１の開口２０５および第２の開口２０６の各々に面する第１の弁体２１０ａおよび第２の弁体２１０ｂとこれら弁体が連結されたシャフト２１１とを有して前記開口の各々を選択的に開閉するゲートバルブ２０８とを備えた真空処理装置であって、ゲートバルブ２０８は、２１１シャフトの他端側に連結されシャフトをその軸の方向に移動させる軸方向駆動部３０１と、シャフト２１１の一端側と他端側との間に配置されシャフト２１１の軸と交差する所定の回転軸２０７の周りにシャフトを回転させる回転駆動部２１３とを有し、シャフト２１１の軸方向について回転軸２０７と他端との間のシャフト上の部位に回転させる力が伝達される。 （もっと読む）