【課題】蛍光体層を真空蒸着で形成し、かつ、蒸着レートおよび膜厚を正確に制御できる放射線像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】成膜中にレーザ変位計２０ａ〜２０ｆ等を用いて蛍光体層の膜厚を測定し、その測定結果に応じて、加熱制御手段２４によりルツボ５０ａ〜５０ｆの発熱を調整して、ルツボ毎の蒸着レートを制御する。 （もっと読む）

【課題】 高品質であって、かつ生産効率が高い薄膜形成が可能なスパッタリング装置及
び電気光学装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に、スパッタリング用ターゲットを用いて薄膜形成させるスパッタ
リング装置であって、バッファー槽を備え、当該バッファー槽の周囲に、少なくともスパ
ッタリング用真空槽と、アッシング用真空槽と、を配置するとともに、バッファー槽を介
して、各真空槽へ基板を移送するための移送手段を備えたスパッタリング装置とし、それ
を用いて電気光学装置を製造する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング法による光学多層膜形成装置において、高精度で再現性に優れた膜厚制御を行う装置及び方法を提供する。
【解決手段】真空槽からなるスパッタ室、スパッタ室内部で基板を保持して移動する移動部材、及び基板に光学薄膜を形成するために複数のターゲット材のプラズマを発生させる複数の対からなるスパッタカソードを備えた光学多層膜を形成するスパッタリング装置において、スパッタカソードの各対が基板の移動経路を挟んで対向する位置に配置され、基板が該スパッタカソードの各対の近傍を複数回通過するように移動部材を動作させる手段を含む構成とした。 （もっと読む）

【課題】被蒸着膜のｉｎ−ｓｉｔｕ膜厚測定が簡便な方法で実現できる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置１は、基板４とターゲット２間を遮蔽する第一の遮蔽板５と、基板の一部分にのみ被蒸着膜が成膜されるように開口部２３を設けた第二の遮蔽板２０を備えている。蒸着処理が開始されると、モニター用基板２２の表面上に被蒸着膜が成膜される。この時、モニター用基板２２上には、第二の遮蔽板の平面上に設けられた開口部２３を通してのみ被蒸着膜が成膜され、開口部以外の箇所には成膜されない。
膜厚測定用基板ステージ１６に設置されたモニター用基板２２の表面上に膜厚測定部１８が接触し、被蒸着膜の膜厚を測定し、現在の設定処理時間での膜厚と、設定膜厚との差を比較し、処理時間を再設定する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置とその製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置は、真空チャンバ、該真空チャンバ内部をインライン（ｉｎ−ｌｉｎｅ）で移動しながら通過するドナー基板、及び該真空チャンバ内に形成され、該ドナー基板上に転写層を形成させる蒸着装置を含むことを特徴とする。前記レーザ転写用ドナー基板の製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法は、真空チャンバ内部をドナー基板がインラインに移動しながら通過し、前記真空チャンバ内に形成された蒸着装置が前記ドナー基板上に転写層を形成することを特徴とする。高真空を維持する真空チャンバ内で転写層、特に低分子有機発光層を連続して形成することができ、また該転写層で形成されたレーザ転写用ドナー基板を大量生産することができると言うメリットがある。また、これを用いた大面積の有機電界発光素子が製造できるメリットを提供する。 （もっと読む）

本発明は、シート状基板の概ね対向する主面上に薄膜を堆積させるためのコーター及びコーターの使用方法を提供する。コーターは、基板が、完全に鉛直な位置にあるのではなく、むしろ鉛直から鋭角度分だけオフセットされた鉛直オフセット構成で基板を支持するよう適合させた基板移送システムを有する。移送システムは、コーターを通って延びる基板進行路を規定する。移送システムは、基板を基板進行路に沿って搬送するよう適合されている。好ましくは、移送システムは、基板のうら主面を支持するためのサイドサポートを含む。好ましいサイドサポートは、コーティング材料が基板のうら主面上に堆積される場合に、そのようなコーティング材料が通過する少なくとも１つのパッセージを画定する。好ましくは、コーターは、基板進行路の両側のそれぞれに（例えば、コーティング材料を供給するよう適合させた）少なくとも１つのコーティング装置を含む。コーティング装置は、好ましくは、基板を基板進行路に沿って一度だけ通過させて、基板の概ね対向する両主面上にコーティングを堆積させるよう適合されている。 （もっと読む）

多段階基板真空処理を簡素化し、柔軟性を改善するために、ロードロックおよび処理タワーＬＬＰＴ１はロードロック装置ＬＬＡならびに処理装置ＰＭＡを含む。運搬装置ＴＡにおいて、ロードロック装置ＬＬＡは一方では外部雰囲気ＡＴと、他方では真空雰囲気Ｖと連通する。プロセスモジュール装置ＰＭＡおよび運搬装置ＴＡ間の基板のハンドリングは開放部を介して行われる。
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【課題】 単純な構造でありながら、様々な成膜用基材を装着することができ、かつ、成膜装置等への脱着が容易である可搬式基材ホルダを提供する。
【解決手段】 相互に略平行に配設された２本の棒状体１，２と、２本の棒状体１，２に、２本の棒状体１，２を含む平面に垂直な方向から見て２本の棒状体１，２の間に位置するように取り付けられた成膜用基材Ｗを保持するための基材保持部８とを備える。 （もっと読む）

【課題】 表面処理中のベースフィルムの表面或いは裏面とガイドローラーが接触することに起因する汚染等を防止し、また、ベースフィルム内部に残留する水蒸気や酸素等不純物ガスの積層膜への影響をなくすことが可能な巻取式表面処理装置及び表面処理方法を提供する。
【解決手段】 ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成とした。また、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離を可能にした。 （もっと読む）

【課題】 赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。
【解決手段】本発明は、所望の蒸着領域に対して小さい開口を有するマスクを用い、該マスクを精密に移動させることによって、所望の蒸着領域全体に蒸着を行うことを特徴の一つとしている。また、マスクを移動させることに限定されず、マスクと基板とが相対的に移動すればよく、例えば、マスクを固定して基板をμｍレベルで移動させてもよい。 （もっと読む）

本発明は、前駆体の荷電液滴の静電蒸着を実現し、該液滴の重合によって基板表面上に薄膜を形成するように、基板に向かって重合可能な前駆体を電気流体力学噴霧する過程を備えた、基板表面の機能化のための基板上への高分子薄膜蒸着法に関するものであり、本方法は、励起核種を噴霧された前駆体液滴と相互作用させ、それによって前記前駆体の重合反応を促進する過程をさらに備えることを特徴とする。本発明は、該方法の実施のための、とくに流れている基板フィルム上に高分子薄膜を蒸着するための装置にも関するものである。 （もっと読む）

本発明は、基板の真空コーティング用の設備に関し、当該設備は、真空室と、少なくとも１つの基板を保持する装置と、基板をコーティング領域に搬送する搬送装置とを備えており、真空室の少なくとも１つの第１のコーティング領域に、少なくとも１つのプラズマインパルス化学蒸着用の装置が設けてあり、真空室の少なくとも１つの第２のコーティング領域に、少なくとも１つのスパッタコーティング用の装置が設けてある。
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【課題】安価で加工が容易な材料を用いて作成された蒸着用容器を用いて、蒸着材料の蒸着を行っても詰まりを生じさせず、安定して蒸着を行うことが可能な蒸着用容器および蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着用容器のフタの側面に蛇腹構造を設ける。または、蒸着用容器のフタを蒸着源の開口部分より大きくして、加熱部に直接接するようにする。このような構成によれば、フタの開口部付近が冷えにくい構造となり、容器の胴部とフタとで温度差が生じにくくなる。従って、開口部で蒸発した材料が詰まることがなく、長時間に渡って安定して蒸着を行うことが可能となり、蒸着レートの安定化、生産性の向上を実現することができる。 （もっと読む）

処理チャンバに配置された材料をアニールしてケイ化物層を形成するための方法及び装置が提供される。１つの態様において、シリコン材料が配置された基板を、チャンバ内の基板支持体上に配置するステップと、少なくともシリコン材料上に金属層を形成するステップと、上記基板をその場でアニールして、金属ケイ化物層を生成するステップとを備えた基板面を処理する方法が提供される。別の態様において、この方法は、ロードロックチャンバと、該ロードロックチャンバに結合された中間基板移送領域であって、第１基板移送チャンバ及び第２基板移送チャンバで構成される中間基板移送領域と、上記第１基板移送チャンバに配置された物理的気相堆積処理チャンバと、上記第２基板移送チャンバに配置されたアニールチャンバとを備えた装置において実行される。
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【課題】 成膜室の容積を小さくして同成膜室の雰囲気を速く減圧にすることのできるコンパクトな真空成膜装置、薄膜素子の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに基板搬送室２と独立させるためのゲートバルブＧＢを備えた。また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 （もっと読む）

【課題】 単純な開口形状を有するマスクを用いて、短時間で所望の膜厚分布を有する薄膜を形成することができる新規な薄膜形成方法、並びに、この方法で用いるマスク及びそのマスクを用いた薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 本発明に用いるマスクは、蒸発源から飛散する物質を通過させる開口部を複数の同一形状の開口部に分割して有している。このように開口部が複数の開口部に分割されているので、個々の開口部の面積を一層小さくすることができ、これにより、開口部を通過する物質の分布を一層均一にすることができる。また、分割された複数の開口部を基板の相対移動方法に配列させているので、蒸着効率を低下させることなく所望の膜厚分布の薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】成膜材料の有効利用が可能であり、かつ、良好な膜質の膜を成膜することが可能な成膜源を提供する。
【解決手段】成膜源１０２は、成膜材料１２１が内部に充填される成膜材料収容部である坩堝１２２と、充填された成膜材料１２１の表面に載置される加熱体である加熱板１２３とを備える。加熱板１２３には複数の貫通孔１２５が所定のパターンで形成されている。また、加熱板１２３の貫通孔１２５が形成されていない領域には、ヒータ１２６が配設されている。成膜時には、ヒータ１２６によって加熱された加熱板１２３により、坩堝１２２内の成膜材料１２１の表面が加熱され、該表面の成膜材料１２１が蒸発して蒸着成膜が実施される。 （もっと読む）

本発明は乾燥したナノ粒子（１８ｂ）のための移送システムを提供する。このシステムでは、移送するためにナノ粒子（１８ｂ）を磁化又は帯電させ、移送通路内に場発生器（２０ａ、２０ｂ）によって磁界又は電場を発生させ、その中でナノ粒子（１８ｂ）を移送通路（１２）を経て移動させる。ナノ粒子を、例えば放出開口部（１３）を通して放出することで配量が可能である。ナノ粒子（１８ｂ）の凝集又は内壁（２６）への堆積を回避するために、壁のコーティング（２７）をピエゾ駆動機構（２８）によって振動させ、その振動をナノ粒子（１８ｂ）へ伝達する。この移送システムによって、乾燥したナノ粒子の取扱いが効果的に可能になるので、ナノ粒子を懸濁液として処理する必要がない。
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【解決手段】 物品を真空支援処理するための方法と装置が開示されており、ここでは、システムの効率と製品の品質を高めるために、段取り室（１５）と処理室（１１）を実質的に等しい低圧に維持しながら物品は両室間で移動させ、且つ、処理の前及び後に物品を移送するために磁気連結式駆動機構（４３）が使用されている。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも一種類の高融点の金属（３）の炭化物から成る層を少なくとも１つの対象物（８）に高率電子ビーム蒸着によって真空チャンバ（１）内で析出するための方法に関する。本発明によれば、真空チャンバ（１）内に反応性ガスの流入によって炭素含有の雰囲気を発生させ；高融点の金属（３）を電子ビーム（５）によって蒸発させ；析出をプラズマによって助成し、この場合、該プラズマを拡散アーク放電によって、蒸発させたい高融点の金属（３）の表面に発生させ；被覆率が、少なくとも２０ｎｍ／ｓであり、析出の間の対象物温度を５０℃〜５００℃の間に保持することが提案される。
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