巻取式表面処理装置および表面処理方法
【課題】 表面処理中のベースフィルムの表面或いは裏面とガイドローラーが接触することに起因する汚染等を防止し、また、ベースフィルム内部に残留する水蒸気や酸素等不純物ガスの積層膜への影響をなくすことが可能な巻取式表面処理装置及び表面処理方法を提供する。
【解決手段】 ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成とした。また、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離を可能にした。
【解決手段】 ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成とした。また、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離を可能にした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成樹脂や金属等から成る帯状の可撓性フィルム（以下、「ベースフィルム」という。）に真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、プラズマエッチング等の表面処理を施す巻取式表面処理装置および表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フィルム上に反射防止膜、発光膜等の機能膜を形成するため、表面処理として、蒸着処理、スパッタリング処理、ＣＶＤ処理等が用いられている。
【０００３】
図３は、従来のロールツーロール方式によりフィルム表面に処理を行って例えば膜を形成する表面処理装置の構成例を示す図である。図３に示すように、予め所定の経路に沿ってセットされたベースフィルム２は、上流側のベースフィルムロール３から送り出されてガイドローラー２５、２６、２７を経由し、主ロール５、６を介して、下流側のガイドローラー２８、２９を経由して、巻取ロール１２で巻き取られる。ベースフィルムロール３から送り出されるベースフイルム２は、表面処理部１５に到達する前に、上流側のガイドローラー２５、２６間に配置されたプラズマ処理電極２０によりベースフイルム２の表面と薄膜との密着性を向上させるためのプラズマ処理が行われ、表面処理部１５で主ロール５、６の周面を通るベースフィルム２の表面に膜が形成される。
【０００４】
ここで、ベースフィルム２の処理面とは、ベースフィルム２の表面処理が行われる面をいう。
【０００５】
表面処理部１５は、ベースフィルム２に対して蒸着処理を行う場合には真空蒸着源であり、またスパッタリング処理ではスパッタリング用ターゲット及びカソードが配設され、プラズマＣＶＤ処理ではＲＦ電極が配設されている。なお、表面処理部１５は真空処理の形態により処理方法が決められる。
【０００６】
図３に示す表面処理装置を使用して、一旦巻き取られたベースフィルム２上に形成された膜の上にさらに膜を形成する場合には、表面処理装置のベースフィルム２の走行は一方向だけでなく、逆走行が可能となっているため、新たな真空条件と走行条件を設定して、一度巻き取ったベースフィルム２を逆走行させ、表面処理部１５を通過させることにより、ベースフイルム２上に次の膜を形成することができる。
【０００７】
ロールツーロール方式の表面処理装置で、例えば、真空蒸着法により有機物をその種類を変えて連続して積層する場合には、真空圧等の真空条件は同一であるため、図３に示すように、ベースフィルム２の走行方向に対して積層する分子を蒸着させる表面処理部１５の真空蒸発源を仕切５０で隔てて並べればよく、一つのチャンバでも連続して積層させることは可能であり、積層を完了したベースフィルム２は巻取ロール１２で巻き取られる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１７３７７３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のロールツーロール方式の表面処理装置では、ベースフィルム２は所定の張力を与えてズレを防止するガイドローラーを経由して巻取ロール１２で巻き取られるので、ガイドローラーの外周面が例えばベースフィルム２から剥離または転写された膜等の不純物で汚染されている場合、ベースフィルム２の処理面とガイドローラー２７、２８の外周面とが接触し、また、ベースフィルム２の裏面とガイドローラー２５、２６、２９の外周面とが接触することによって、ベースフィルム２の処理面又は裏面に不純物が付着してしまう。さらに、処理済のベースフィルム２が巻取ロール１２に巻き取られた状態では、処理面はベースフィルム２自身の裏面に密着した状態となるため、汚染されたベースフィルム２の裏面と処理面とが密着している時間に応じて処理面の汚染の拡散が進行し、積層界面の品質に影響を与える。このため、ロールツーロール方式の表面処理装置では、処理を完了したベースフィルムの巻き取りにより発生する処理面の汚染を防止することが課題となっている。
【００１０】
また、一般的に、ベースフィルム２が合成樹脂製の場合、水蒸気や酸素等の不純物ガスの透過率は大きく、ベースフィルム２内部にこれらの不純物ガスの一部が放出しきれず残留していた場合には、ベースフィルム２の処理面は、巻き取り後の裏面との密着により、水蒸気や酸素等不純物ガスの影響を受けて、積層膜の特性が劣化してしまうおそれがある。特に、不純物ガスの影響を受けやすい有機ＥＬの発光層（有機物の積層膜）では大きな課題となっている。
【００１１】
そこで、本発明は、一つのチャンバで処理条件の異なる処理を行ってベースフィルム上に積層膜を形成する場合に、処理中のベースフィルムの表面或いは裏面とガイドローラーが接触することに起因する汚染等を防止し、また、ベースフィルム内部に残留する水蒸気や酸素等不純物ガスの積層膜への影響をなくすことが可能な巻取式表面処理装置および表面処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明による巻取式表面処理装置は、ロール室と表面処理室とを有するチャンバ内において、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成としたことを特徴とする。ここで、保護フィルムとは、プラズマ処理などで清浄な表面をもった合成樹脂等からなる帯状の可撓性フィルム、若しくは、予めベースフィルムとの密着面側にガスバリア膜等の薄膜が形成されているものをいう。また、本発明による巻取式表面処理装置は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記重ね合わせ手段により表面処理済のベースフィルムと保護フィルムとの剥離を行って、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能な構成としたことを特徴とする。また、本発明による巻取式表面処理装置の前記チャンバは、減圧による真空雰囲気及び／又は不活性ガスの導入による不活性ガス雰囲気を保持可能な構成としたこと特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能なことを特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能なことを特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理をし、保護フィルムとの重ね合わせを行ってベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取りが可能なことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、一つのチャンバでベースフィルム上に処理条件の異なる表面処理を行う場合に、保護フィルムをプラズマ処理などで表面を清浄に処理した後、ベースフィルムの処理面に重ね合わせて巻き取ることにより、保護フィルムでベースフィルムの処理面を清浄に保護でき、表面処理が行われるベースフィルムの処理面又は裏面とガイドローラとが接触することに起因する汚染等を防止することができ、ベースフィルムの処理面の汚染を低減することができる。
【００１４】
また、保護フィルムが、例えば、ガスバリア膜で被覆されている場合、ベースフィルム内部に水蒸気や酸素等不純物ガスの一部が放出しきれずに残留していたとしても、表面処理後のベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取ることにより、ベースフィルムの処理面に影響を及ぼさない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明による巻取式表面処理装置および表面処理方法の実施の形態について図１及び図２を参照して説明する。図１及び図２は、本発明による巻取式表面処理装置の構成を示す図である。なお、従来の巻取式表面処理装置と同一の構成及び機能を有するものについては、同じ符号を付して説明する。
【００１６】
図１及び図２に示すように、本発明による巻取式表面処理装置１は、チャンバ１９により密閉空間が形成されており、この密閉空間内に仕切１６を介して形成されるロール室３１、表面処理室３２とを有している。チャンバ１９には、表面処理室３２内の排気を行う表面処理室用排気配管１８と、ロール室３１内の排気を行って減圧するためのロール室用排気配管１７が配設されている。表面処理室用排気配管１８およびロール室用排気配管１７は、配管の末端にそれぞれ排気装置１８ｂ、１７ｂが設けられており、排気配管の途中に設けた可変バルブ１８ａ、１７ａにより開閉が行えるようになっている。また、チャンバ１９には、表面処理室３２内に不活性ガスの供給を行う表面処理室用ガス供給配管３８と、ロール室３１内に不活性ガスの供給を行うロール室用ガス供給配管３７が配設されており、各ガス供給配管の途中に設けた可変バルブ３８ａ、３７ａにより開閉が行えるようになっている。
【００１７】
巻取式表面処理装置１は、ベースフィルムの処理面に膜形成等の表面処理を行うための帯状のベースフィルム２を巻き取って収納した上流側のベースフィルムロール３と、ベースフィルムロール３を図示せぬ駆動手段によりＣＷ（Ｃｌｏｃｋ Ｗｉｓｅ。時計回り。）、ＣＣＷ（Ｃｏｕｎｔｅｒ Ｃｌｏｃｋ Ｗｉｓｅ。反時計回り。）の両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させベースフィルム２を供給する供給用回転軸４と、帯状のベースフィルム２の搬送経路上に設けられてベースフィルム２をガイドするガイドローラー２５、２６及び２７と、ガイドローラー２５と２６との間に介装されベースフィルム２の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２０と、ロール室３１を通りロール室３１と表面処理室３２の仕切１６の隙間を通ってベースフィルム２を表面処理室３２に案内して膜形成等の表面処理を行うための主ロール５と、主ロール５の回転中心下方に配されてベースフィルム２の処理面に膜形成等の表面処理を行う表面処理部１５が設けられており、表面処理部１５によって表面処理室３２内で表面処理済のベースフィルム２は、主ロール５の外周面で案内されながら下流側に位置する重合せローラー３５を経由して巻取ロール１２により巻き取られる。この巻取ロール１２は、図示せぬ回転手段によりＣＷ、ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させる巻取ロール用回転軸１３により支持されている。また、主ロール５と下流側の重合せローラー３５との間に介装されベースフィルム２の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２１が設けられている。
【００１８】
そして、本発明による巻取式表面処理装置１は、ロール室３１内に設けられて表面処理済のベースフィルム２の処理面と保護フィルム７との重ね合わせを行ってベースフィルム２を案内する重ね合わせ手段（第１の重ね合わせ手段）を備えている。すなわち、この重ね合わせ手段は、帯状の保護フィルム７を収納した保護フィルムロール８と、保護フィルムロール８を図示せぬ駆動手段によりＣＷ，ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させて保護フィルム７を送り出して供給する保護フィルム用回転軸１０と、ガイドローラ２８を経由して重合せローラー３５により表面処理済のベースフィルム２の処理面と保護フィルム７との重ね合わせを行った後に巻取ロール１２により巻き取られる。また、ガイドローラ２８と重合せローラー３５との間には、保護フィルム７の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２３が設けられている。
【００１９】
また、本発明による巻取式表面処理装置１は、図２に示す構成とすることによって、ベースフィルムロール３に予め保護フィルム７を重ねて巻き直してあるものを使用し、第１層膜形成前に保護フィルム７を剥離してからベースフィルム２の処理面に第１層膜を形成し、その後、別の保護フィルム７を重ね合わせて巻き取ることも可能となる。
【００２０】
すなわち、図２に示すように、重ね合わせ手段（第２の重ね合わせ手段）は、上流側であるベースフィルムロール３側にも設けられており、この第２の重ね合わせ手段は、帯状のベースフィルム２と帯状の保護フィルム７とが予め重ねて巻き取られたベースフィルムロール３と、ベースフィルムロール３から繰り出されたベースフィルム２と保護フィルム７とがガイドローラ２５を経由して重合せローラー３６により第１層膜を形成する前に保護フィルム７とベースフィルム２とが剥離されて保護フィルム７は、ガイドローラ２９を経由して保護フィルム７が保護フィルムロール９により収容される。保護フィルムロール９は、図示せぬ駆動手段によりＣＷ、ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転されて保護フィルム７を巻き取る保護フィルム用回転軸１１により支持されている。また、重合せローラー３６とガイドローラー２９との間には、保護フィルム７の両側に１対設けられて保護フィルム７の表面に清浄性付与のための前処理を行うプラズマ処理電極２０が設けられている。
【００２１】
本発明による巻取式表面処理装置１に使用する保護フィルム７は、保護フィルム７のベースフィルム２の処理面と接触する面側には、保護膜としてのガスバリア膜を被覆するようにしてもよい。また、保護フィルム７のフィルムは、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等であり、ガスバリア膜は、ＳｉＯｘ（ケイ素酸化物）等で形成されている。成膜等の表面処理後のベースフィルム２の処理面に保護フィルム７を重ね合わせて巻き取ることにより、ベースフィルム２内部に水蒸気や酸素等不純物ガスの一部が放出しきれずに残留していた場合でも、保護フィルム７のガスバリア膜が水蒸気や不純物ガスを遮断してベースフィルム２の処理面に影響を及ぼさないようにすることができる。
【００２２】
また、保護フィルム７は、ＩＴＯ（酸化インジウム）をフイルムの表面に成膜等の表面処理をして導電性を付加するようにしてもよい。保護フィルム７に導電性を付加することによりベースフィルム２への静電気の帯電を低減させることができ、静電気によるベースフィルム２の処理面への影響を防止することができる。
【００２３】
また、本発明による巻取式表面処理装置１は、チャンバ１９内は密閉空間で気密状態が保持されており、排気装置１８ｂ、１７ｂによりチャンバ１９内を減圧して表面処理が可能であり、表面処理部１５は、蒸着処理により成膜を行う場合には真空蒸着源等であり、またスパッタリング処理により成膜を行う場合は、スパッタリング用ターゲット及びカソード等が配設され、プラズマＣＶＤ処理により成膜を行う場合は、ＲＦ電極等が配設される。
【００２４】
また、チャンバ１９内のロール室用ガス供給配管３７、表面処理室用ガス供給配管３８からアルゴン、窒素等の不活性ガスを供給することにより、前記のような減圧だけでなく、大気組成と異なる空間環境を保持することも可能である。
【００２５】
また、表面処理部１５には、例えば、プラズマ処理電極を配設してベースフィルム２上に形成されている薄膜のプラズマエッチングを行ったり、インクジェットヘッドを配設してベースフィルム２上に液体状の膜形成物質を微粒子で飛散させて印刷を行うようにしてもよく、ベースフィルム２の処理面に対して成膜処理以外の表面処理が可能である。
【００２６】
なお、プラズマＣＶＤ処理、プラズマエッチング等のプラズマを発生させる表面処理を行う場合、表面処理部１５は、図１および図２に示すプラズマ処理電極２０、２１、２２、２３と同様の構成でなるプラズマ処理電極（図示せず）を配設して、該プラズマ処理電極間にベースフィルム２を通過させる構成として表面処理を行うようにしてもよい。
【００２７】
ベースフィルム２に膜を形成する場合は、成膜前にベースフィルム２上の有機物等の異物を除去し表面を活性化させて密着性を改善することが可能であり、また、前記のようなエッチングを行う場合は、表面処理部１５でのエッチング後の異物を除去することができるからである。
【００２８】
また、保護フィルム７に使用する場合も、保護フィルム７上の有機物等の異物を除去して清浄性を高めることができるからである。
【００２９】
次に、本発明による巻取式表面処理装置１によるベースフイルム２の処理面の表面処理方法（成膜処理）について説明する。
【００３０】
図１に示すように、図示せぬ駆動手段によってベースフィルムロール３、巻取ロール１２、保護フィルムロール８が回転制御されて駆動すると、ベースフィルム２と保護フィルム７は同時に走行が開始され、ベースフィルム２の処理面には、プラズマ処理電極２０を通過してプラズマ処理が行われる。そして、ベースフィルム２は、主ロール５の外周面に沿って案内され、主ロール５の回転中心下方に対向配置された表面処理部１５の近傍を通過中に表面処理部１５の真空蒸着源からの蒸発物質により第１層目の成膜が行われる。表面処理部１５を通過後のベースフィルム２は、保護フィルムロール８から別経路で繰り出されてプラズマ処理電極２３でプラズマ処理された保護フィルム７と重合せローラー３５の外周面で重ね合わされて巻取ロール１２に巻き取られる。第１層の成膜が終了すると、ベースフィルム２および保護フィルム７の走行は停止して、真空蒸着源の蒸発が停止される。
【００３１】
このようにベースフイルム２の処理面に形成された膜は、重合せローラー３５に接触する前に表面が清浄化された保護フィルム７に重ね合わせられて巻き取られるため、膜表面の汚染は低減される。
【００３２】
次に、本発明による巻取式表面処理装置１によるベースフイルムの処理面への表面処理方法（成膜処理）について、図２を参照して説明する。
【００３３】
まず、ベースフィルムロール３からベースフィルム２と保護フィルム７とが同時に繰り出されて走行が開始される。ベースフィルムロール３から繰り出された保護フィルム７は、重合せローラー３６でベースフィルム２と分離されて保護フィルムロール９に巻き取られ、ベースフィルム２は、重合せローラー３６で保護フィルム７と分離された後にプラズマ処理電極２１を通過してプラズマ処理が行われる。そして、ベースフィルム２は主ロール５の外周面に沿って案内されて表面処理部１５を通過中に表面処理部１５の真空蒸着源からの蒸発物質により第１層目の成膜が行われる。表面処理部１５を通過後のベースフィルム２は、保護フィルムロール８からプラズマ処理電極２３でプラズマ処理された保護フィルム７とベースフィルム２の処理面とが重合せローラー３５の外周面で重ね合わされ、その状態のまま巻取ロール１２に巻き取られる。第１層の成膜が終了したらベースフィルム２及び保護フィルム７の走行は停止して、真空蒸着源の蒸発を停止する。
【００３４】
このように第１層膜の表面は、重合せローラー３５に接触する前に表面を清浄化された保護フィルム７に重ね合わせられ巻き取られるため、処理面の汚染は低減される。また、上流側であるベースフィルムロール３から繰り出されたベースフィルム２と保護フィルム７は、重合せローラー３６で分離されて主ロール５に供給されるものであるから、清浄化されたベースフィルム２が主ロール５に供給される。
【００３５】
次に、チャンバ１９は真空を保持したままで、真空条件及びフィルム走行条件は第２層目成膜のために新たに設定され、プラズマ処理電極は２１から２２へ切り替えがなされて、表面処理部１５の真空蒸発源の蒸発物質も切り替えられる。ベースフィルム２及び保護フィルム７は、第２層の成膜のため第１層目の走行方向とは逆に走行させられ、重合せローラー３５を通過後に保護フィルム７から分離されたベースフィルム２はプラズマ処理電極２２で表面を活性化後に再度表面処理部１５を通過し、真空蒸発源により第２層目が成膜され、第２の重ね合わせ手段としての保護フィルムロール９から別経路で繰り出されてプラズマ処理電極２０でプラズマ処理された保護フィルム７と重合せローラー３６の外周面で重ね合わされ、その状態のままベースフィルムロール３へ巻き取られる。以上により、第２層が成膜されたベースフィルム２は、保護フィルム７と共にベースフィルムロール３へ巻き取られる。そして、本発明による巻取式表面処理装置１は、第１及び第２の重ね合わせ手段を備えてなるので清浄化されたベースフィルム２が搬送経路に供給される。
【００３６】
したがって、第１層膜上に第２層膜を積層する場合でも、第１層膜を成膜後、ベースフィルム２を保護フィルム７で重ね合わせて巻き取り、第２層膜を成膜後もベースフィルム２を保護フィルム７で重ね合わせて巻き取って処理面は保護され、さらに保護フィルムにガスバリア膜が被膜されているものを使用すれば、ベースフィルム内部の水蒸気や酸素等不純物ガスを保護フィルムで遮断して、ベースフィルムの積層膜の成膜に影響を及ぼさなくすることもできる。
【００３７】
以上述べたように、本発明による巻取式表面処理装置によれば、単層のみならず、多層薄膜を積層する場合であっても、各層毎の成膜毎に保護フィルムで重ね合わせて巻き取ることにより、膜の界面では劣化が少なく、かつベールフィルムのロール内で品質の一定した積層膜を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明による巻取式表面処理装置の構成を示す図である。
【図２】保護フィルムロールを、ベースフィルムの繰り出し側と巻き取り側の２カ所に設けた巻取式表面処理装の構成を示す図である。
【図３】フィルム表面に真空処理して成膜を行う従来のロールツーロール方式による表面処理装置の構成例を示す図である。
【符号の説明】
【００３９】
１ 巻取式表面処理装置
２ ベースフィルム
３ ベースフィルムロール
４ 供給用回転軸
５、６ 主ロール
７ 保護フィルム
８、９ 保護フィルムロール
１０、１１ 保護フィルム用回転軸
１２ 巻取ロール
１３ 巻取ロール用回転軸
１５ 表面処理部
１６ ロール室と表面処理室の仕切
１７ ロール室用排気配管
１７ａ、１８ａ、３７ａ、３８ａ 可変バルブ
１７ｂ、１８ｂ 排気装置
１８ 表面処理室用排気配管
１９ チャンバ
２０、２１、２２、２３ プラズマ処理電極
２５、２６、２７、２８、２９ ガイドローラー
３１ ロール室
３２ 表面処理室
３５、３６ 重合せローラー
３７ ロール室用ガス供給配管
３８ 表面処理室用ガス供給配管
【技術分野】
【０００１】
本発明は、合成樹脂や金属等から成る帯状の可撓性フィルム（以下、「ベースフィルム」という。）に真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ、プラズマエッチング等の表面処理を施す巻取式表面処理装置および表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フィルム上に反射防止膜、発光膜等の機能膜を形成するため、表面処理として、蒸着処理、スパッタリング処理、ＣＶＤ処理等が用いられている。
【０００３】
図３は、従来のロールツーロール方式によりフィルム表面に処理を行って例えば膜を形成する表面処理装置の構成例を示す図である。図３に示すように、予め所定の経路に沿ってセットされたベースフィルム２は、上流側のベースフィルムロール３から送り出されてガイドローラー２５、２６、２７を経由し、主ロール５、６を介して、下流側のガイドローラー２８、２９を経由して、巻取ロール１２で巻き取られる。ベースフィルムロール３から送り出されるベースフイルム２は、表面処理部１５に到達する前に、上流側のガイドローラー２５、２６間に配置されたプラズマ処理電極２０によりベースフイルム２の表面と薄膜との密着性を向上させるためのプラズマ処理が行われ、表面処理部１５で主ロール５、６の周面を通るベースフィルム２の表面に膜が形成される。
【０００４】
ここで、ベースフィルム２の処理面とは、ベースフィルム２の表面処理が行われる面をいう。
【０００５】
表面処理部１５は、ベースフィルム２に対して蒸着処理を行う場合には真空蒸着源であり、またスパッタリング処理ではスパッタリング用ターゲット及びカソードが配設され、プラズマＣＶＤ処理ではＲＦ電極が配設されている。なお、表面処理部１５は真空処理の形態により処理方法が決められる。
【０００６】
図３に示す表面処理装置を使用して、一旦巻き取られたベースフィルム２上に形成された膜の上にさらに膜を形成する場合には、表面処理装置のベースフィルム２の走行は一方向だけでなく、逆走行が可能となっているため、新たな真空条件と走行条件を設定して、一度巻き取ったベースフィルム２を逆走行させ、表面処理部１５を通過させることにより、ベースフイルム２上に次の膜を形成することができる。
【０００７】
ロールツーロール方式の表面処理装置で、例えば、真空蒸着法により有機物をその種類を変えて連続して積層する場合には、真空圧等の真空条件は同一であるため、図３に示すように、ベースフィルム２の走行方向に対して積層する分子を蒸着させる表面処理部１５の真空蒸発源を仕切５０で隔てて並べればよく、一つのチャンバでも連続して積層させることは可能であり、積層を完了したベースフィルム２は巻取ロール１２で巻き取られる。
【０００８】
【特許文献１】特開２００２−１７３７７３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のロールツーロール方式の表面処理装置では、ベースフィルム２は所定の張力を与えてズレを防止するガイドローラーを経由して巻取ロール１２で巻き取られるので、ガイドローラーの外周面が例えばベースフィルム２から剥離または転写された膜等の不純物で汚染されている場合、ベースフィルム２の処理面とガイドローラー２７、２８の外周面とが接触し、また、ベースフィルム２の裏面とガイドローラー２５、２６、２９の外周面とが接触することによって、ベースフィルム２の処理面又は裏面に不純物が付着してしまう。さらに、処理済のベースフィルム２が巻取ロール１２に巻き取られた状態では、処理面はベースフィルム２自身の裏面に密着した状態となるため、汚染されたベースフィルム２の裏面と処理面とが密着している時間に応じて処理面の汚染の拡散が進行し、積層界面の品質に影響を与える。このため、ロールツーロール方式の表面処理装置では、処理を完了したベースフィルムの巻き取りにより発生する処理面の汚染を防止することが課題となっている。
【００１０】
また、一般的に、ベースフィルム２が合成樹脂製の場合、水蒸気や酸素等の不純物ガスの透過率は大きく、ベースフィルム２内部にこれらの不純物ガスの一部が放出しきれず残留していた場合には、ベースフィルム２の処理面は、巻き取り後の裏面との密着により、水蒸気や酸素等不純物ガスの影響を受けて、積層膜の特性が劣化してしまうおそれがある。特に、不純物ガスの影響を受けやすい有機ＥＬの発光層（有機物の積層膜）では大きな課題となっている。
【００１１】
そこで、本発明は、一つのチャンバで処理条件の異なる処理を行ってベースフィルム上に積層膜を形成する場合に、処理中のベースフィルムの表面或いは裏面とガイドローラーが接触することに起因する汚染等を防止し、また、ベースフィルム内部に残留する水蒸気や酸素等不純物ガスの積層膜への影響をなくすことが可能な巻取式表面処理装置および表面処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明による巻取式表面処理装置は、ロール室と表面処理室とを有するチャンバ内において、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成としたことを特徴とする。ここで、保護フィルムとは、プラズマ処理などで清浄な表面をもった合成樹脂等からなる帯状の可撓性フィルム、若しくは、予めベースフィルムとの密着面側にガスバリア膜等の薄膜が形成されているものをいう。また、本発明による巻取式表面処理装置は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記重ね合わせ手段により表面処理済のベースフィルムと保護フィルムとの剥離を行って、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能な構成としたことを特徴とする。また、本発明による巻取式表面処理装置の前記チャンバは、減圧による真空雰囲気及び／又は不活性ガスの導入による不活性ガス雰囲気を保持可能な構成としたこと特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能なことを特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能なことを特徴とする。また、本発明による表面処理方法は、前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理をし、保護フィルムとの重ね合わせを行ってベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取りが可能なことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、一つのチャンバでベースフィルム上に処理条件の異なる表面処理を行う場合に、保護フィルムをプラズマ処理などで表面を清浄に処理した後、ベースフィルムの処理面に重ね合わせて巻き取ることにより、保護フィルムでベースフィルムの処理面を清浄に保護でき、表面処理が行われるベースフィルムの処理面又は裏面とガイドローラとが接触することに起因する汚染等を防止することができ、ベースフィルムの処理面の汚染を低減することができる。
【００１４】
また、保護フィルムが、例えば、ガスバリア膜で被覆されている場合、ベースフィルム内部に水蒸気や酸素等不純物ガスの一部が放出しきれずに残留していたとしても、表面処理後のベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取ることにより、ベースフィルムの処理面に影響を及ぼさない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明による巻取式表面処理装置および表面処理方法の実施の形態について図１及び図２を参照して説明する。図１及び図２は、本発明による巻取式表面処理装置の構成を示す図である。なお、従来の巻取式表面処理装置と同一の構成及び機能を有するものについては、同じ符号を付して説明する。
【００１６】
図１及び図２に示すように、本発明による巻取式表面処理装置１は、チャンバ１９により密閉空間が形成されており、この密閉空間内に仕切１６を介して形成されるロール室３１、表面処理室３２とを有している。チャンバ１９には、表面処理室３２内の排気を行う表面処理室用排気配管１８と、ロール室３１内の排気を行って減圧するためのロール室用排気配管１７が配設されている。表面処理室用排気配管１８およびロール室用排気配管１７は、配管の末端にそれぞれ排気装置１８ｂ、１７ｂが設けられており、排気配管の途中に設けた可変バルブ１８ａ、１７ａにより開閉が行えるようになっている。また、チャンバ１９には、表面処理室３２内に不活性ガスの供給を行う表面処理室用ガス供給配管３８と、ロール室３１内に不活性ガスの供給を行うロール室用ガス供給配管３７が配設されており、各ガス供給配管の途中に設けた可変バルブ３８ａ、３７ａにより開閉が行えるようになっている。
【００１７】
巻取式表面処理装置１は、ベースフィルムの処理面に膜形成等の表面処理を行うための帯状のベースフィルム２を巻き取って収納した上流側のベースフィルムロール３と、ベースフィルムロール３を図示せぬ駆動手段によりＣＷ（Ｃｌｏｃｋ Ｗｉｓｅ。時計回り。）、ＣＣＷ（Ｃｏｕｎｔｅｒ Ｃｌｏｃｋ Ｗｉｓｅ。反時計回り。）の両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させベースフィルム２を供給する供給用回転軸４と、帯状のベースフィルム２の搬送経路上に設けられてベースフィルム２をガイドするガイドローラー２５、２６及び２７と、ガイドローラー２５と２６との間に介装されベースフィルム２の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２０と、ロール室３１を通りロール室３１と表面処理室３２の仕切１６の隙間を通ってベースフィルム２を表面処理室３２に案内して膜形成等の表面処理を行うための主ロール５と、主ロール５の回転中心下方に配されてベースフィルム２の処理面に膜形成等の表面処理を行う表面処理部１５が設けられており、表面処理部１５によって表面処理室３２内で表面処理済のベースフィルム２は、主ロール５の外周面で案内されながら下流側に位置する重合せローラー３５を経由して巻取ロール１２により巻き取られる。この巻取ロール１２は、図示せぬ回転手段によりＣＷ、ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させる巻取ロール用回転軸１３により支持されている。また、主ロール５と下流側の重合せローラー３５との間に介装されベースフィルム２の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２１が設けられている。
【００１８】
そして、本発明による巻取式表面処理装置１は、ロール室３１内に設けられて表面処理済のベースフィルム２の処理面と保護フィルム７との重ね合わせを行ってベースフィルム２を案内する重ね合わせ手段（第１の重ね合わせ手段）を備えている。すなわち、この重ね合わせ手段は、帯状の保護フィルム７を収納した保護フィルムロール８と、保護フィルムロール８を図示せぬ駆動手段によりＣＷ，ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転させて保護フィルム７を送り出して供給する保護フィルム用回転軸１０と、ガイドローラ２８を経由して重合せローラー３５により表面処理済のベースフィルム２の処理面と保護フィルム７との重ね合わせを行った後に巻取ロール１２により巻き取られる。また、ガイドローラ２８と重合せローラー３５との間には、保護フィルム７の両側に１対設けられたプラズマ処理電極２３が設けられている。
【００１９】
また、本発明による巻取式表面処理装置１は、図２に示す構成とすることによって、ベースフィルムロール３に予め保護フィルム７を重ねて巻き直してあるものを使用し、第１層膜形成前に保護フィルム７を剥離してからベースフィルム２の処理面に第１層膜を形成し、その後、別の保護フィルム７を重ね合わせて巻き取ることも可能となる。
【００２０】
すなわち、図２に示すように、重ね合わせ手段（第２の重ね合わせ手段）は、上流側であるベースフィルムロール３側にも設けられており、この第２の重ね合わせ手段は、帯状のベースフィルム２と帯状の保護フィルム７とが予め重ねて巻き取られたベースフィルムロール３と、ベースフィルムロール３から繰り出されたベースフィルム２と保護フィルム７とがガイドローラ２５を経由して重合せローラー３６により第１層膜を形成する前に保護フィルム７とベースフィルム２とが剥離されて保護フィルム７は、ガイドローラ２９を経由して保護フィルム７が保護フィルムロール９により収容される。保護フィルムロール９は、図示せぬ駆動手段によりＣＷ、ＣＣＷの両回転方向に所定のトルクで回転制御して回転されて保護フィルム７を巻き取る保護フィルム用回転軸１１により支持されている。また、重合せローラー３６とガイドローラー２９との間には、保護フィルム７の両側に１対設けられて保護フィルム７の表面に清浄性付与のための前処理を行うプラズマ処理電極２０が設けられている。
【００２１】
本発明による巻取式表面処理装置１に使用する保護フィルム７は、保護フィルム７のベースフィルム２の処理面と接触する面側には、保護膜としてのガスバリア膜を被覆するようにしてもよい。また、保護フィルム７のフィルムは、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等であり、ガスバリア膜は、ＳｉＯｘ（ケイ素酸化物）等で形成されている。成膜等の表面処理後のベースフィルム２の処理面に保護フィルム７を重ね合わせて巻き取ることにより、ベースフィルム２内部に水蒸気や酸素等不純物ガスの一部が放出しきれずに残留していた場合でも、保護フィルム７のガスバリア膜が水蒸気や不純物ガスを遮断してベースフィルム２の処理面に影響を及ぼさないようにすることができる。
【００２２】
また、保護フィルム７は、ＩＴＯ（酸化インジウム）をフイルムの表面に成膜等の表面処理をして導電性を付加するようにしてもよい。保護フィルム７に導電性を付加することによりベースフィルム２への静電気の帯電を低減させることができ、静電気によるベースフィルム２の処理面への影響を防止することができる。
【００２３】
また、本発明による巻取式表面処理装置１は、チャンバ１９内は密閉空間で気密状態が保持されており、排気装置１８ｂ、１７ｂによりチャンバ１９内を減圧して表面処理が可能であり、表面処理部１５は、蒸着処理により成膜を行う場合には真空蒸着源等であり、またスパッタリング処理により成膜を行う場合は、スパッタリング用ターゲット及びカソード等が配設され、プラズマＣＶＤ処理により成膜を行う場合は、ＲＦ電極等が配設される。
【００２４】
また、チャンバ１９内のロール室用ガス供給配管３７、表面処理室用ガス供給配管３８からアルゴン、窒素等の不活性ガスを供給することにより、前記のような減圧だけでなく、大気組成と異なる空間環境を保持することも可能である。
【００２５】
また、表面処理部１５には、例えば、プラズマ処理電極を配設してベースフィルム２上に形成されている薄膜のプラズマエッチングを行ったり、インクジェットヘッドを配設してベースフィルム２上に液体状の膜形成物質を微粒子で飛散させて印刷を行うようにしてもよく、ベースフィルム２の処理面に対して成膜処理以外の表面処理が可能である。
【００２６】
なお、プラズマＣＶＤ処理、プラズマエッチング等のプラズマを発生させる表面処理を行う場合、表面処理部１５は、図１および図２に示すプラズマ処理電極２０、２１、２２、２３と同様の構成でなるプラズマ処理電極（図示せず）を配設して、該プラズマ処理電極間にベースフィルム２を通過させる構成として表面処理を行うようにしてもよい。
【００２７】
ベースフィルム２に膜を形成する場合は、成膜前にベースフィルム２上の有機物等の異物を除去し表面を活性化させて密着性を改善することが可能であり、また、前記のようなエッチングを行う場合は、表面処理部１５でのエッチング後の異物を除去することができるからである。
【００２８】
また、保護フィルム７に使用する場合も、保護フィルム７上の有機物等の異物を除去して清浄性を高めることができるからである。
【００２９】
次に、本発明による巻取式表面処理装置１によるベースフイルム２の処理面の表面処理方法（成膜処理）について説明する。
【００３０】
図１に示すように、図示せぬ駆動手段によってベースフィルムロール３、巻取ロール１２、保護フィルムロール８が回転制御されて駆動すると、ベースフィルム２と保護フィルム７は同時に走行が開始され、ベースフィルム２の処理面には、プラズマ処理電極２０を通過してプラズマ処理が行われる。そして、ベースフィルム２は、主ロール５の外周面に沿って案内され、主ロール５の回転中心下方に対向配置された表面処理部１５の近傍を通過中に表面処理部１５の真空蒸着源からの蒸発物質により第１層目の成膜が行われる。表面処理部１５を通過後のベースフィルム２は、保護フィルムロール８から別経路で繰り出されてプラズマ処理電極２３でプラズマ処理された保護フィルム７と重合せローラー３５の外周面で重ね合わされて巻取ロール１２に巻き取られる。第１層の成膜が終了すると、ベースフィルム２および保護フィルム７の走行は停止して、真空蒸着源の蒸発が停止される。
【００３１】
このようにベースフイルム２の処理面に形成された膜は、重合せローラー３５に接触する前に表面が清浄化された保護フィルム７に重ね合わせられて巻き取られるため、膜表面の汚染は低減される。
【００３２】
次に、本発明による巻取式表面処理装置１によるベースフイルムの処理面への表面処理方法（成膜処理）について、図２を参照して説明する。
【００３３】
まず、ベースフィルムロール３からベースフィルム２と保護フィルム７とが同時に繰り出されて走行が開始される。ベースフィルムロール３から繰り出された保護フィルム７は、重合せローラー３６でベースフィルム２と分離されて保護フィルムロール９に巻き取られ、ベースフィルム２は、重合せローラー３６で保護フィルム７と分離された後にプラズマ処理電極２１を通過してプラズマ処理が行われる。そして、ベースフィルム２は主ロール５の外周面に沿って案内されて表面処理部１５を通過中に表面処理部１５の真空蒸着源からの蒸発物質により第１層目の成膜が行われる。表面処理部１５を通過後のベースフィルム２は、保護フィルムロール８からプラズマ処理電極２３でプラズマ処理された保護フィルム７とベースフィルム２の処理面とが重合せローラー３５の外周面で重ね合わされ、その状態のまま巻取ロール１２に巻き取られる。第１層の成膜が終了したらベースフィルム２及び保護フィルム７の走行は停止して、真空蒸着源の蒸発を停止する。
【００３４】
このように第１層膜の表面は、重合せローラー３５に接触する前に表面を清浄化された保護フィルム７に重ね合わせられ巻き取られるため、処理面の汚染は低減される。また、上流側であるベースフィルムロール３から繰り出されたベースフィルム２と保護フィルム７は、重合せローラー３６で分離されて主ロール５に供給されるものであるから、清浄化されたベースフィルム２が主ロール５に供給される。
【００３５】
次に、チャンバ１９は真空を保持したままで、真空条件及びフィルム走行条件は第２層目成膜のために新たに設定され、プラズマ処理電極は２１から２２へ切り替えがなされて、表面処理部１５の真空蒸発源の蒸発物質も切り替えられる。ベースフィルム２及び保護フィルム７は、第２層の成膜のため第１層目の走行方向とは逆に走行させられ、重合せローラー３５を通過後に保護フィルム７から分離されたベースフィルム２はプラズマ処理電極２２で表面を活性化後に再度表面処理部１５を通過し、真空蒸発源により第２層目が成膜され、第２の重ね合わせ手段としての保護フィルムロール９から別経路で繰り出されてプラズマ処理電極２０でプラズマ処理された保護フィルム７と重合せローラー３６の外周面で重ね合わされ、その状態のままベースフィルムロール３へ巻き取られる。以上により、第２層が成膜されたベースフィルム２は、保護フィルム７と共にベースフィルムロール３へ巻き取られる。そして、本発明による巻取式表面処理装置１は、第１及び第２の重ね合わせ手段を備えてなるので清浄化されたベースフィルム２が搬送経路に供給される。
【００３６】
したがって、第１層膜上に第２層膜を積層する場合でも、第１層膜を成膜後、ベースフィルム２を保護フィルム７で重ね合わせて巻き取り、第２層膜を成膜後もベースフィルム２を保護フィルム７で重ね合わせて巻き取って処理面は保護され、さらに保護フィルムにガスバリア膜が被膜されているものを使用すれば、ベースフィルム内部の水蒸気や酸素等不純物ガスを保護フィルムで遮断して、ベースフィルムの積層膜の成膜に影響を及ぼさなくすることもできる。
【００３７】
以上述べたように、本発明による巻取式表面処理装置によれば、単層のみならず、多層薄膜を積層する場合であっても、各層毎の成膜毎に保護フィルムで重ね合わせて巻き取ることにより、膜の界面では劣化が少なく、かつベールフィルムのロール内で品質の一定した積層膜を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明による巻取式表面処理装置の構成を示す図である。
【図２】保護フィルムロールを、ベースフィルムの繰り出し側と巻き取り側の２カ所に設けた巻取式表面処理装の構成を示す図である。
【図３】フィルム表面に真空処理して成膜を行う従来のロールツーロール方式による表面処理装置の構成例を示す図である。
【符号の説明】
【００３９】
１ 巻取式表面処理装置
２ ベースフィルム
３ ベースフィルムロール
４ 供給用回転軸
５、６ 主ロール
７ 保護フィルム
８、９ 保護フィルムロール
１０、１１ 保護フィルム用回転軸
１２ 巻取ロール
１３ 巻取ロール用回転軸
１５ 表面処理部
１６ ロール室と表面処理室の仕切
１７ ロール室用排気配管
１７ａ、１８ａ、３７ａ、３８ａ 可変バルブ
１７ｂ、１８ｂ 排気装置
１８ 表面処理室用排気配管
１９ チャンバ
２０、２１、２２、２３ プラズマ処理電極
２５、２６、２７、２８、２９ ガイドローラー
３１ ロール室
３２ 表面処理室
３５、３６ 重合せローラー
３７ ロール室用ガス供給配管
３８ 表面処理室用ガス供給配管
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロール室と表面処理室とを有するチャンバ内において、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、
前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成としたことを特徴とする巻取式表面処理装置。
【請求項２】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記重ね合わせ手段により表面処理済のベースフィルムと保護フィルムとの剥離を行って、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能な構成としたことを特徴とする請求項１に記載の巻取式表面処理装置。
【請求項３】
前記チャンバは、減圧による真空雰囲気及び／又は不活性ガスの導入による不活性ガス雰囲気を保持可能な構成としたこと特徴とする請求項１又は請求項２に記載の巻取式表面処理装置。
【請求項４】
ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能なことを特徴とする表面処理方法。
【請求項５】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能なことを特徴とする請求項４に記載の表面処理方法。
【請求項６】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理をし、保護フィルムとの重ね合わせを行ってベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取りが可能なことを特徴とする請求項４に記載の表面処理方法。
【請求項１】
ロール室と表面処理室とを有するチャンバ内において、ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段とを備え、
前記重ね合わせ手段は、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能な構成としたことを特徴とする巻取式表面処理装置。
【請求項２】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記重ね合わせ手段により表面処理済のベースフィルムと保護フィルムとの剥離を行って、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能な構成としたことを特徴とする請求項１に記載の巻取式表面処理装置。
【請求項３】
前記チャンバは、減圧による真空雰囲気及び／又は不活性ガスの導入による不活性ガス雰囲気を保持可能な構成としたこと特徴とする請求項１又は請求項２に記載の巻取式表面処理装置。
【請求項４】
ベースフィルムと、ベースフィルムの処理面を保護する保護フィルムとの重ね合わせが可能な重ね合わせ手段により、前記ベースフィルムの処理面と保護フィルムとを重ね合わせて巻き取り及び／又は剥離が可能なことを特徴とする表面処理方法。
【請求項５】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理が可能なことを特徴とする請求項４に記載の表面処理方法。
【請求項６】
前記ベースフィルムの処理面と前記保護フィルムとの重ね合わせがなされた表面処理済のベースフィルムの走行方向を逆方向にして、前記保護フィルムとの剥離を行い、前記表面処理済のベースフィルムの処理面に同一又は異なる表面処理をし、保護フィルムとの重ね合わせを行ってベースフィルムの処理面に保護フィルムを重ね合わせて巻き取りが可能なことを特徴とする請求項４に記載の表面処理方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００６−４３９６５（Ｐ２００６−４３９６５Ａ）
【公開日】平成１８年２月１６日（２００６．２．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２２５９０７（Ｐ２００４−２２５９０７）
【出願日】平成１６年８月２日（２００４．８．２）
【出願人】（０００２２７２９４）キヤノンアネルバ株式会社 (564)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月１６日（２００６．２．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月２日（２００４．８．２）
【出願人】（０００２２７２９４）キヤノンアネルバ株式会社 (564)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]