【課題】 実機の摺動面の隙間で発生するプラズマを用いて、その場でプラズマコーティングし、摺動しつつプラズマコーティングを行うことにより、コーティングと同時になじみ運転も行うことができる技術を提供する。また、摩擦または摺動により、薄膜には絶えず接線力を加えた状態でコーティングし、接線力による膜中の組織の配向を発生させ、極めて高い耐摩耗性、良潤滑性の膜をコーティングできる技術を提供する。
【解決手段】 摺動体と回転体を摩擦又は摺動させることにより、これらの間にトライボマイクロプラズを発生させ、該摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体を構成する物質の少なくとも一部からなる膜を形成することを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング方法。 （もっと読む）

原子層堆積法及び分子層堆積法を用いて柔軟性基板上に被覆された被膜。この被膜の厚さは１００ｎｍ以下である。この被膜は、アルミナのような無機材料の層を含み、柔軟性を付与する層により分離され、この柔軟性を付与する層は、無機材料層に共有化学結合で結合するように堆積され、原子層堆積法で堆積されたシリカ、分子層堆積法で堆積された有機ポリマー、又は分子層堆積法で堆積された複合有機−無機ポリマー、のうちの１又はそれ以上である。
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【課題】 光学素子の反射防止層上に、光学素子の視認性を損なうことなく、耐久性の優れた防汚層を備えた反射防止層の成膜方法及び同成膜を行うための装置を提供する。
【解決手段】 基材上に反射防止層を成膜し、前記反射防止層上に、厚さ１０ｎｍ以下のポリテトラフルオロエチレン膜を防汚層としてＣＶＤ法により積層することを特徴とする。 （もっと読む）

プラスチックガラスを修復する方法並びにプラスチックから過剰の又は不要のプラスチックを取り除いたことによって生じたエッジにプラズマ付着装置を用いてプラズマコーティングを局所的に適用するための方法が記載されている。
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有機成分を気化し、および該蒸気をマニホールド中の開口部を通じて該マニホールドから間隔をあけられた基板表面へ供給して、少なくとも二つの有機成分から構成された膜を形成する方法であって：単一の第１有機成分の第1の量を気化デバイスに供給し、そこでは該成分が気化され及び第1の所定速度で該マニホールドへ供給され；該第1有機成分を含む所定比率の有機成分混合物の或る量を輸送装置へ供給し；該輸送装置が該有機成分混合物を第2の所定速度で急速加熱領域に供給し、そこでは該混合物が気化され及び該マニホールドへ供給され；および、該有機成分を該マニホールド中で混合し、該混合気化成分が該開口部を通って該基板表面に堆積されることを可能にして、該膜を形成すること、を含んでなる方法。 （もっと読む）

【課題】触媒気相成長法と物理気相成長法により連続してガスバリア層を積層形成することにより、基材フィルム表面にプライマー処理を施すことなくガスバリア性に優れたガスバリア積層フィルム、及び該フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材フィルムの少なくとも一方の面に、厚さ０．１〜５００ｎｍの無機及び／又は有機の薄膜層（Ａ層）、及び厚さ０．１〜５００ｎｍの無機薄膜層（Ｂ層）を順次形成してなるガスバリア積層フィルムであって、上記Ａ層が加熱触媒体を用いて材料ガスを接触熱分解する触媒化学気相成長法により形成され、かつＢ層が物理気相成長法により形成されたガスバリア積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】水蒸気や酸素の透過を防止して種々の物品を保護し得るガスバリヤフィルムを簡便かつ効率的に低コストで提供する。
【解決手段】 ガスバリヤフィルムは、プラスティックフィルム（１）の一方の主面上に順に積層された第１、第２、および第３の有機・無機ハイブリッド層（２、３、４）を含み、これらのいずれの有機・無機ハイブリッド層も意図的に導入された炭素シリコン窒素および水素を含み、第１と第３の有機・無機ハイブリッド層（２、４）は第２の有機・無機ハイブリッド層（３）に比べて大きな炭素組成比を有し、第２の有機・無機ハイブリッド層（３）においては第１と第３の有機・無機ハイブリッド（２、４）に比べてシリコンと窒素の合計組成比が大きく設定されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】高品質の有機物／無機物薄膜を製造して商用化することができる有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る時間分割型有機物／無機物複合薄膜の蒸着方法および蒸着装置は、有機物／無機物材料が含有されているソースタンクと、これを活性化させる熱開始剤が含有されている触媒ソースタンクとを各々装着することによって、大面積の基板上に有機物／無機物複合薄膜を蒸着する時、厚さを正確に調節することができ、蒸着を均一に行うことができる。また、１つ以上の有機物／無機物複合薄膜を蒸着する場合にも、厚さ及び組成を精密に調節することができる。 （もっと読む）

分子層堆積法を用いて有機ポリマー又は有機−無機複合ポリマーの超薄層を基板上に堆積する。この方法は、第１の官能基を有する気相反応物を用いる。この気相反応物は表面に単官能性でのみ反応して、ポリマー鎖に一つの単位を追加する。更に、追加の気相反応物は第１の官能基とは異なる第２の官能基を有するか、又はブロックされ、マスクされ若しくは保護された官能基、又はこのような官能基の前駆体を有する。
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【課題】良好なプロトン伝導体であり、電池を作製する方法に対して感度が高すぎることのない電解質材料、およびそのような材料を作製する方法を提供する。
【解決手段】本発明の材料は、燃料電池の電解質（３０６）を構成するのに適した材料であって、炭素（Ｃ）、フッ素（Ｆ）、酸素（Ｏ）および水素（Ｈ）、およびケイ素（Ｓｉ）を含む疎水性マトリックスを有する。本発明の材料は、その材料を含む電解質の性能を、およびその結果としてそのような電解質を組み込んだ燃料電池の性能を改良するのに役立つ。本発明はさらに、蒸着速度があまり制限されないそのような材料を作製する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】化学的に活性の低い金表面とポリパラキシリレン被膜の密着性を向上させる。
【解決手段】金電極を有し、この金電極表面がポリパラキシリレン被膜で保護されている放射線固体検出器において、金電極とポリパラキシリレン被膜との間に、下記一般式


（ここでＲ^１は炭素数１から４の炭素数を含む脂肪族基、エーテル基から選択される２価の連結基であり、Ｒ^２は１から３の飽和炭化水素であり、Ｒ²はＲ¹とともに環を形成してもよい。Ｘ^１，Ｘ^２はＯ，Ｓ，Ｎ−Ｒ^３からなる群より選択される二価の基である。）で表されることを特徴とする密着改良剤からなる密着層を設ける。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板Ｗの自然酸化膜を低温で除去することが可能であり、単結晶のＳｉＧｅ膜を成長させることが可能な、膜形成装置３を提供する。
【解決手段】シリコン基板Ｗ上の自然酸化膜を揮発性物質に変換するための三フッ化窒素ガス供給手段３５および水素ラジカル供給手段３０と、シリコン基板Ｗを加熱する手段と、を備えたエッチング室２０と、シリコン基板Ｗ上にＳｉＧｅ膜を成長させるための原料ガスの供給手段５０を備えたＳｉＧｅ成長室４０と、エッチング室２０からＳｉＧｅ成長室４０に対して、シリコン基板Ｗを管理雰囲気下で移送する基板移送室１６と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

一端に放出口をもつ液体供給導管を有するアトマイザの提供、放出口の上流で液体供給導管のポートに開口するガス供給導管、及び、アトマイザに振動エネルギーを与えるための手段を含む、液体を噴霧化する方法。１つの実施形態において、液体供給導管及びガス供給導管は、互いに関して同軸になるように配置される。本方法は、更に、ガスをガス供給導管を通して流すのと同時に、液体を液体供給導管を通って放出口に流すことと、放出口から出てる液体を噴霧化するために振動エネルギーをアトマイザに与えることを含む。ポートでガスを導入することによって、液滴スプレーの寸法特性が改善される結果を得る。
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【課題】
室温で容易に重合する性質を有する含酸素フッ素化合物、特にテトラフルオロフランを、そのエッチング性能等を実質的に低下させることなく安定にプラズマ処理装置へ供給する方法、及びそのようにして供給された含酸素フッ素化合物をプラズマ化し、被処理物をプラズマ処理するプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】
式：Ｃ_４Ｆ_４Ｏで表される繰り返し単位からなる重合体を熱分解して、式：Ｃ_４Ｆ_４Ｏで表される含酸素フッ素化合物を得た後、得られた含酸素フッ素化合物をプラズマ処理装置へ供給することを特徴とする含酸素フッ素化合物のプラズマ処理装置への供給方法、この供給方法により、含酸素フッ素化合物をプラズマ処理装置へ供給し、該装置内で、前記含酸素フッ素化合物をプラズマ化し、被処理物をプラズマ処理することを特徴とするプラズマ処理方法、このプラズマ処理方法を用いることを特徴とする半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】容器の取出口の開封及び再封の度に生ずる、引っ張り等の物理的負荷を受けてもガスバリア性の低下が小さい、ガスバリア性が維持される粘着フィルムを提供する。
【解決手段】粘着フィルムは、粘着フィルム基材１とその上に設けた粘着剤層２とからなる。粘着フィルム基材１は、プラスチックフィルムからなる基材フィルム２とその少なくとも片面に形成した無機酸化物蒸着膜３と、無機酸化物蒸着膜３上に形成した、一般式Ｒ¹_nＭ（ＯＲ²）_m（但し、式中、Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の有機基、Ｍは金属原子を表し、ｎは０以上の整数を表し、ｍは１以上の整数を表わし、ｎ＋ｍは原子価を示す）で表される少なくとも１種以上のアルコキシド、ポリビニルアルコール系樹脂及び／又はエチレン・ビニルアルコール共重合体を含有し、更にゾルゲル法によって重縮合して得られるバリア性組成物からなるコート材を塗布してなるバリア性被膜とからなる。 （もっと読む）

【課題】 大面積の単結晶膜を得ることができるルブレン系化合物単結晶の製造方法及び有機半導体素子の製造方法並びに有機半導体素子を提供する。
【解決手段】 ルブレン系化合物単結晶膜を基板上に形成する際に、前記基板を１５０℃以上に保持すると共にこの基板上に前記ルブレン系化合物の気体を供給することにより当該基板上にルブレン系化合物の単結晶を成長させて単結晶膜を得る。 （もっと読む）

オーブン、炉等（CVI/CVDオーブン等）へ、更に具体的には、オーブン内側の反応室（１６）へ、ガスを供給するためのパイプ（１２）であって、パイプの外側で半径方向に伸長しかつパイプに沿った実質的気密な通路を形成する気密管状封止装置を有する。前記管状封止装置は、好適には、軸方向かつ／または横切る方向において少なくとも一部が可撓性であって、反応室内の場所とオーブンへガス供給パイプが侵入する場所間の位置決めの欠陥（例えば非対称の熱膨張／収縮による欠陥）に対応する。 （もっと読む）

電気又は電子装置を式(Ｉ) [式中R¹、R²及びR³は独立に水素、アルキル、ハロアルキル又は場合によりハロ置換されたアリールより選択され、またR⁴はX-R⁵基であり、式中R⁵はアルキル又はハロアルキル基であり、またXは結合、式-C(O)O(CH₂)_nY-で示される基(式中nは1ないし10の整数であり、Yは結合又はスルホンアミド基である)、又は-(O)_pR⁶(O)_q(CH₂)_t-基(式中R⁶は場合によりハロ置換されたアリールであり、pは0又は1、qは0又は1であり、またtは0であるか又は1ないし10の整数であり、ただしqが1ならばtは0以外である)である。] で示される化合物を含んでなるパルスプラズマに、該装置の表面上に高分子層を堆積させるに足る時間にわたり暴露することによって形成されることを特徴とする高分子被膜を有する電気又は電子装置。この種の装置は液体特に環境液体による損傷から保護される。
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開放性火炎に基づく噴射のための本発明の装置および方法は、機械的に圧送された反応性かつ可燃の液体溶液をノズルを用いて小さいオリフィスまたはノズルを経て予熱、与圧および霧化し、それから一組の点火炎により該噴射を燃焼させるものである。液体原料はノズルに達する前に超臨界温度に予熱され、入口に関する原料流経路の出口ポートの大きさの削減によって噴射の前に加圧される。補足のコリメーションまたは被覆ガスが原料の流経路に供給され、原料および補給ガスの両方が噴射の前に均一に加熱される。この配置によりノズルの目詰まりが避けられ、噴射手法の粒子生産物の特性が充分に制御される。 （もっと読む）

【課題】均一かつ細密に充填したＳＡＭを大面積の基板に形成することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えるようにした。 （もっと読む）