本発明は、硫化水素を硫黄および水素から製造する反応容器に関し、この場合この反応容器は、部分的または全体的に、反応混合物、その化合物、または元素に対して安定性の材料からなり、この場合この材料は、高い温度の場合でも安定性を維持する。 （もっと読む）

【課題】基材の反りや破断を抑制し、しかも、低コストで、かつ、簡便に、セラミックス等からなる基材表面を粗面化する手段を用いて、耐プラズマ性溶射膜の密着力を向上させることができる脆性材料基材への溶射膜形成方法を提供する。
【解決手段】セラミックス、ガラスまたは石英等の脆性材料からなる基材表面を、マスキング材またはメッシュを用いたマイクロブラスト加工により粗面化した後、該基材表面にプラズマ溶射法により溶射膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】多数の冷却管と各冷却管を連結する連結部材とからなる冷却式排管の表面の全体に自溶合金層を確実に形成するためのフュージング処理方法を提供する。
【解決手段】多数の冷却管と各冷却管を連結する連結部材とからなる冷却式排管の表面に自溶合金層を形成するフュージング処理方法であって、前記冷却式配管の内周面に溶射された溶射被膜のうち、冷却管に対応する第１の領域を第１の受熱温度で加熱し、前記第１の領域を除く残りの第２の領域を第１の受熱温度よりも高い第２の受熱温度で加熱して自溶合金層を形成することを特徴とするフュージング処理方法。 （もっと読む）

【課題】円筒内面を粗面として溶射皮膜の密着度を高めつつ、円筒内面の軸方向端部を利用した圧漏れ試験や内径測定を適正に実施可能とし、かつ軸方向端部での溶射皮膜の剥離を防止する。
【解決手段】シリンダボア内面５に対し、溶射皮膜６０を形成する前の下地処理として粗面９を形成する。シリンダボア内面５のクランクケース側の端部については粗面９を形成せず、この部位に樹脂製のコーティング層２９を形成する。シリンダブロック１の上面にも、同様な上部コーティング層４９を形成する。これら各コーティング層２９，４９を形成する部位を利用して圧漏れ試験機３１にてシリンダボア３内の圧漏れ試験および、ギャップセンサ５３による内径測定を行う。その後、シリンダボア内面５に形成する溶射皮膜は、コーティング層２９，４９には形成されず、粗面９とした部位のみに高密着度で形成される。 （もっと読む）

耐食性中性子吸収コーティングの形成方法であって、スプレー、堆積、スパッタリング、または溶接処理をしてスプレー材料、あるいは、堆積材料、あるいは、スパッタリング材料、あるいは溶接材料と、中性子吸収材料と、からなる複合材料を形成するステップを含む。スプレー材料、あるいは、堆積材料、あるいは、スパッタリング材料、あるいは溶接材料と、中性子吸収材料と、からなる複合材料を含む耐食性中性子吸収コーティングも開示されている。
（もっと読む）

【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置などの容器内配設部材の耐久性の向上を図ること。
【解決手段】金属製または非金属製基材の表面に、直接またはアンダーコート層を介して、周期律表ＩＩＩａ族の酸化物を溶射することによって多孔質層からなる層を形成し、そしてその上に、電子ビームやレーザービームなどの高エネルギーを照射処理を施すことによって、二次再結晶層を形成することにより、半導体加工装置用セラミック被覆部材を製造する。 （もっと読む）

【課題】強い腐食性環境下で、プラズマエッチング加工が行われる半導体加工用装置などの容器内配設部材の耐久性の向上を図ること。
【解決手段】金属製または非金属製基材の表面に、直接またはアンダーコート層を介して、周期律表ＩＩＩａ族酸化物の溶射皮膜からなる多孔質層を有し、その層上には、電子ビームやレーザービームなどの高エネルギーを照射処理によって形成される二次再結晶層が形成されてなるセラミック被覆部材。 （もっと読む）

【課題】プラズマエッチング装置において、エッチング処理室やエッチング処理室内部品を構成するアルミミニウム基材の腐食を防止し、溶射被膜の飛散による生産性の低下をなくす。
【解決手段】プラズマエッチング装置において、アルミニウム合金から成るエッチング処理室及びエッチング処理室内部品と耐プラズマ性に良好なセラミックス溶射膜の間に、陽極酸化被膜を配置する。この陽極酸化被膜は５μｍ以下として耐熱性を持たせる。 （もっと読む）

【課題】ダイレクトドライブモータに４点接触型の玉軸受等の多点接触型の玉軸受を使用した場合でも、絶縁性能の確保と、耐久性の確保と、低コスト化とを高次元で並立させる。
【解決手段】玉軸受に組み込む各玉１４を金属製とする。又、外輪１２の表面のうちで外輪軌道１５を設けた面以外の面を、セラミックス製の絶縁層２２により被覆する。これにより、上記各玉１４をセラミックス製とする事なく、玉軸受の絶縁性能を確保できる。又、これら各玉１４と上記外輪軌道１５及び内輪軌道１６との間で、材料特性の違いにより剥離が生じる事を防止できる。更に、上記各玉１４をセラミックス製とした構造と比べて、製造コストを低くできる。 （もっと読む）

【課題】被溶射対象物表面のき裂を封止して環境隔離することによりき裂の進展を防止又は抑制する。
【解決手段】溶射装置は、溶射粒子を供給する溶射粒子供給機１２と、燃料を供給する燃料供給機１３と、酸素を供給する酸素供給機１４と、供給された燃料および酸素の反応熱を用いて溶射粒子を加熱し加速して被溶射対象物表面４１に衝突させることにより被溶射対象物表面４１に圧縮応力が残留する溶射皮膜４５を形成する溶射ガン１１と、を有する。 （もっと読む）

【目的】耐食性に優れ、加工性も良好な溶射層で溶接部を補修した溶接めっき鋼管を提供する。
【構成】Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっき層１１が設けられているめっき鋼帯から造管された溶接めっき鋼管Ｐであり、溶接後のビードカットでめっき層１１が除去された溶接部及び溶接部近傍にＡｌ−Ｍｇ合金の溶射補修層１４が設けられている。 （もっと読む）

【課題】均質性に優れ製造コストが安価で溶射皮膜の長さと厚みの調整で所望の電気抵抗値を得ることが可能な低温用の溶射発熱体及びその製造方法並びにそれを用いた加熱装置を提供する。
【解決手段】加熱装置１０の加熱源として使用できる低温用の溶射発熱体１１であって、導電性の立体、パイプ１３、及び板材のいずれか１つを基材としその表面に溶射処理形成された絶縁溶射皮膜１５と、絶縁溶射皮膜１５の表面上に溶射処理形成された鉄酸化物の導電性溶射皮膜１６と、導電性溶射皮膜１６の表面上に形成され導電性溶射皮膜１６の酸化を防止すると共に絶縁を行う絶縁保護皮膜１８とを有する。 （もっと読む）

【課題】従来の亜鉛めっき塗布層等と比較して少なくとも同様に優れた少なくとも耐腐食性を有する溶射表面を形成する溶射法を用いること。
【解決手段】本発明は、溶射法によって被処理品の表面を被覆するための、亜鉛を含む溶射材料（５）に関するものである。また、本発明は、溶射法、および、溶射材料（５）が溶射された溶射被覆に関するものである。 （もっと読む）

【課題】溶射部の耐食性に優れ、かつ溶射時の防爆性に優れたマグネシウム合金溶射材料を提供する。
【解決手段】質量％で、Ａｌ：１３〜４２％、Ｃａ：１〜５％を含有し、残部がＭｇ及び不可避的不純物からなることを特徴とする溶射時の防爆性及び溶射部の耐食性に優れたマグネシウム合金溶射材料。 （もっと読む）

【課題】 ハロゲン化合物を含む環境などの腐食作用による損傷が少なく、かつ、その腐食生成物が環境汚染原因となって、半導体加工装置の品質低下、生産コストの増大を招くことのない各種半導体装置用溶射皮膜被覆部材を得る。
【解決手段】 基材の表面に形成したＡｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃またはＡｌ₂Ｏ₃−Ｙ₂Ｏ₃複酸化物などからなる溶射皮膜の表面を、電子ビーム照射処理によって、パーティクル等の付着、堆積特性に優れ、その再飛散を有効に防止できる耐プラズマエロージョン性に優れた部材とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 接合性や耐久性に優れ高信頼性の緻密なアモルファス金属ガラス層と基材との積層体を提供する。
【解決手段】 本発明の金属ガラス積層体は、基材表面に、予め調製されたアモルファス相の金属ガラスを原料としてアモルファス相の金属ガラス溶射被膜層が形成された金属ガラス積層体であって、金属ガラスの過冷却液体温度領域△Ｔｘが３０℃以上であり、金属ガラス溶射被膜層に連続空孔（ピンホール）が存在せず、金属ガラス溶射被膜層の気孔率が２％以下であり、金属ガラスが複数の元素から構成され、構成元素として少なくともＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｐｄの何れか一つの元素を含むことを特徴とする。金属ガラス溶射被膜層は緻密且つ均一なアモルファス相であり、耐食性、耐磨耗性など金属ガラスの機能性が十分に発揮できる。厚膜化、大面積化も可能であり、また、基材を除去すれば、金属ガラスバルク体を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】鉛フリーはんだ、特に溶融状態のＳｎ−Ａｇ系鉛フリーはんだに対する耐侵食性が優れたＣｏ基合金溶射層を形成するための溶射用Ｃｏ基合金粉末を提供する。
【解決手段】Ｃｒ：２０．０〜３５．０％、Ｆｅ：０．１〜４０．０％、Ｃ：０．０５〜１．２０％、Ｍｎ：０．５〜２．０％、Ｓｉ：０．１〜３．０％、Ｂ：０．００１〜０．３％を含有し、さらに必要に応じて下記の（ａ）〜（ｃ）の内の１種または２種以上を含有し、残部がＣｏおよび不可避不純物からなる組成を有する溶射用Ｃｏ基合金粉末。ただし、（ａ）Ｗ：３．０〜１５．０％、（ｂ）Ｌａ：０．０１〜０．１５％およびＣｅ：０．０１〜０．１５％の内の１種または２種、（ｃ）Ｍｇ：０．００１〜０．０５％。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエロージョン性等に優れるプラズマ処理容器内部材と、その有利な製造方法とを提案する。
【解決手段】プラズマ使用環境におけるハロゲンガス雰囲気下での化学的腐食による損傷ならびにプラズマエロージョンによる損傷の両方に対する大きな抵抗力が求められる基材の表面が、純度：９５ｍａｓｓ％以上の高純度Ｙ_２Ｏ_３溶射皮膜によって被覆されているプラズマ処理容器内部品。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリア粒子及びアルミナ粒子を含有してなる。溶射用粉末中のアルミナ粒子の含有量は５０〜３０００質量ｐｐｍである。イットリア粒子はイットリア造粒−焼結粒子であることが好ましく、イットリア粒子の平均粒子径は２０〜６０μｍであることが好ましい。アルミナ粒子は遷移アルミナからなることが好ましく、アルミナ粒子の平均粒子径は１μｍ以下であることが好ましい。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエッチング性に優れる溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、イットリアとイットリウム−アルミニウム複酸化物とを含む造粒−焼結粒子を含有してなる。造粒−焼結粒子中のアルミニウム含有量はアルミナ換算で５０〜１００００質量ｐｐｍである。この溶射用粉末は大気圧プラズマ溶射用途で用いられることが好ましい。 （もっと読む）