本発明は、物品の多孔質外表面の少なくとも一部の細孔を封孔するための方法に関し、前記方法は、（ｉ）前記物品の多孔質外表面上にシーラント溶液を塗布すること、（ｉｉ）多孔質外表面の少なくとも一部に前記シーラント溶液を浸透させること、及び（ｉｉｉ）浸透したシーラント溶液を反応させ、それにより、浸透後固体析出物を形成し、前記浸透後固体析出物は、前記物品の多孔質外表面の少なくとも一部の細孔を封孔することを含む。この方法は、例えば、集積回路製造装置、内部チャンバ構成部品、及び静電チャック製品を保護するのに役立つ。 （もっと読む）

【課題】耐プラズマエロージョン性に優れるプラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】基材の表面に直接、または金属溶射皮膜からなるアンダーコートを介し、Ａｒガスの気圧が５０〜２００ｈＰａの減圧下での溶射によって、純度：９５ａｍｓｓ％以上のＹ_２Ｏ_３からなる減圧プラズマ溶射皮膜を被覆形成してなるプラズマ処理容器内用高純度溶射皮膜被覆部材と、この部材の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】塩素系ガスあるいは塩素系ガスプラズマに曝される材料であり、塩素系ガスあるいは塩素系ガスプラズマに曝された後に、材料表面が大気に曝されても吸湿しないことを特徴とする耐食性部材。
【効果】塩素系ガスあるいはそのプラズマに曝される面が耐食材料から塩化物パーティクルを生じることがなく、また、水系で洗浄する場合においても基材を腐蝕する液性を示すことがないので、基材に損傷を与えることがなく、耐食性能が低下することのない耐食性部材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】評価に至る工数を低減することができ、ワークの無駄も生じることなく、円筒内面に形成される溶射皮膜を正しく評価できる評価用皮膜を得ることが可能な内径溶射の評価用皮膜形成方法及びこれに用いる試験片取付治具を提供する。
【解決手段】試験片取付穴４を有する平板状の試験片取付治具１の試験片取付穴４に、試験片３を平坦面３ａが試験片取付治具１の第１面２ａと同一面となるように着脱自在に取付けて、複数の試験片取付治具１により第１面２ａを内側とする筒状体６を形成し、筒状体６内で溶射ガン９によって試験片３の平坦面３ａに評価用皮膜１１を形成する。溶射皮膜の組織の連続性が保たれるので、試験片に形成された評価用皮膜から溶射皮膜を正しく評価することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】単位面積の溶射皮膜に与えられるプラズマ出力が０．８Ｗ／ｃｍ^２以上である高出力プラズマに対する耐プラズマエッチング性に優れた溶射皮膜の形成に適した溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、原料粉末を造粒して大気中で焼結して得られるイットリア造粒−焼結粒子を含有してなる。イットリア造粒−焼結粒子を構成する一次粒子の平均粒子径は、０．５〜１．５μｍで且つ原料粉末の平均粒子径の１．１１倍以上である。 （もっと読む）

【課題】 腐食作用による損傷が少なく、かつ、その腐食生成物が環境汚染原因となって、半導体加工装置の品質低下、生産コストの増大を招くことのないプラズマ処理装置用部材を得る。
【解決手段】 プラズマ処理装置用部材の表面に、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃またはＡｌ₂Ｏ₃−Ｙ₂Ｏ₃複酸化物からなる溶射皮膜を、平均粗さＲａ３．３０〜２８．０μｍ、かつスキューネス値（Ｒｓｋ）を正の値を示すような表面形状とすることによって、パーティクル等の付着、堆積特性に優れ、かつ再飛散防止特性に優れる他、耐プラズマエロージョン性に優れた部材とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 冷却負荷が大きいため表面に酸化皮膜が形成されにくいパネル下部側や下部ヘッダーに配置しても、Ａｌ合金母材表面の腐食損傷防止効果に優れた伝熱管、その製造方法とこの伝熱管を用いたＬＮＧ気化器を提供することである。
【解決手段】 複数の伝熱管３ａをカーテン状に配列したパネル３と、パネル３の下部と上部にそれぞれ連結した下部ヘッダー２と上部ヘッダー４からなるＡｌ合金製のパネルユニットＵを備え、パネルユニットＵの上部からパネル３の表面に沿って流下させた海水と伝熱管３ａ内を流通するＬＮＧとの熱交換により、ＬＮＧを気化させるＬＮＧ用気化器で、伝熱管３ａの、少なくともパネル３の下部側の外表面と下部ヘッダー２の外表面に、ブラスト粗面処理を行なった後、Ｍｇを１〜８０質量％の範囲で含有し、膜厚が１００〜１０００μｍの、犠牲防食効果を有するＡｌ−Ｍｇ合金溶射皮膜を形成したのである。 （もっと読む）

【課題】半導体等の製造におけるプラズマ処理装置（プラズマクリーニング装置、アッシング装置、スパッタ装置）等プラズマを用いる装置に使用する部材はプラズマによるエッチングによる消耗や、パーティクル発生による製品の汚染、歩留まり生産性低下等の問題があった。
【解決手段】少なくともＳｉ、Ｏ及び、３ａ族元素又は２ａ族とＺｒとから構成された耐蝕性溶射膜が表面にコーティングされた真空装置用部材は、プラズマに対する耐蝕性が高く、パーティクルの発生が少なく、このような耐蝕性部材は、例えば、窒化ケイ素、シリカ及び３ａ族酸化物粉末と、ジルコニア粉末との混合粉末を基材に対して溶射することによって製造することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置を構成する構成部材の表面に堆積膜を形成することにより、当該構成部材の耐久性や、前記腐食性ガスに対する耐食性を向上させること。
【解決手段】 処理容器、処理容器内に設けられる部品、処理ガスを処理容器に供給するための配管、この配管に接続されるガス供給機器、または排気管から選択される構成部材の処理ガスとの接触面に原料ガスと反応ガスを交互に供給して、堆積を行うことにより、処理ガスとの接触面に、アルミニウム、ハフニウム、ジルコニウム、イットリウムのいずれかを含む酸化物よりなる堆積膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】 シリンダの軸方向における温度差を小さくすることのできるシリンダライナ及びエンジンを提供する。
【解決手段】 このシリンダライナ２では、高熱伝導皮膜３をライナ上部２５のライナ外周面２２に形成するとともに、低熱伝導皮膜４をライナ下部２６のライナ外周面２２に形成した。また、ライナ上部２５とライナ下部２６との間に位置するライナ中部２７のライナ外周面２２に高熱伝導皮膜３の一部と低熱伝導皮膜４の一部とが積み重なる皮膜積層部を形成した。 （もっと読む）

【課題】 外周面が鋳ぐるまれるシリンダライナ等において、表層として形成された金属層とシリンダブロック等との間で、より大きな接合力を生じさせる。
【解決手段】 ライナ外周面６がベース金属相８ａと分散金属相８ｂとからなる不均一系金属層である溶射層８にて被覆されている。このため鋳ぐるみ時に溶湯が分散金属相８ｂ部分から溶射層８内に進入し、凝固後に形成されるシリンダブロックは溶射層８内に疑似植物根状態に入り込んだ状態となり、凝固後にシリンダブロック表面はシリンダライナ２表面に強固に固定された状態となる。こうしてシリンダブロックはシリンダライナ２との間で、単に表層に溶湯を接触した処理では得られない大きな接合力を生じ、更に高い熱伝導性を得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】 苛酷な腐食環境下で長期間使用されても腐食や白錆の発生がなく耐久性に優れた溶接めっき鋼管を提供する。
【解決手段】 Ｚｎめっき層，Ｚｎ−Ａｌ合金めっき層又はＺｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっき層１４が設けられているめっき鋼帯から造管された溶接めっき鋼管であり、溶接後のビードカットでめっき層が除去された溶接部及び溶接部近傍の下地鋼１５の表面に溶射補修層１７を設ける。そして、この溶射補修層１７を、下層よりＡｌ→Ｚｎ→Ａｌの順に溶射して形成した三層の金属からなるものとする。最下層にＡｌ溶射層を備えているので下地鋼との密着性に優れ、第２層のＺｎの犠牲防食作用を有効に活用しつつ、その上面に形成したＡｌ層によりＺｎ起因の白錆の発生を抑制でき、結果として、白錆や赤錆の発生がなく耐久性に優れた溶接めっき鋼管が得られる。 （もっと読む）

【課題】位置決めによる粘着操作を省き、作業効率を上げるとともに熱伝導効果を高めることができる低融点金属合金被覆層を有する放熱装置とその製造方法を提供する。
【解決手段】放熱装置は放熱器１および低融点金属合金被覆層２を有しており、その製造にあたっては、低融点金属合金材を融点以上に加熱し、溶融状態となった低融点金属合金材を放熱器にスプレーし、直接放熱器１に被覆層２を形成する。製造時間を節約すると共に、作業が便利となり、かつ被覆層と発熱端の接触を利用して熱伝導効果をより高めることができる。 （もっと読む）

【課題】非金属製部材の表面積を拡大して、グロー放電処理によって発生する微細な粒子を堆積しやすくして、再飛散による被処理体表面の汚損を防止する。
【解決手段】非金属製部材の表面に直に、酸化物系セラミックス質を溶射法によって皮膜を形成し、溶射皮膜特有の粗い表面を利用してグロー放電現象によって発生した微細な粒子を多量に堆積させるととともに、その再飛散を防止する。また、有彩色の酸化物系セラミックス質皮膜を形成させることによって、石英ヒータや石英ランプの加熱源に赤外線を多く含むようにしてその効率を向上させ、また、多孔金属板を用いた溶射法によって、皮膜表面積の拡大をはかり、半導体製品品質の向上を図る。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐食性を備え、かつ溶射膜と基材との密着性にも優れた耐食性部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 腐食性環境下で用いられる耐食性部材は、基材５３と、該基材５３表面の一部もしくは全部を被覆するセラミックスの溶射膜５２とを備えている。この溶射膜５２は、膜厚が５０〜５００μｍであり、基材５３から剥離した状態で、溶射膜５２全体の気孔率が１０％を超えるとともに、溶射膜５２の表面と基材５３側の剥離面との両方から、それぞれ表面粗さが０．５μｍに達するまで研磨したときの研磨後の溶射膜内部の気孔率が７％以下である。 （もっと読む）

【課題】 窒化物含有率が高く、かつ、厚くて緻密な窒化物膜と、そのような窒化物膜を基材上に容易に形成できる成膜方法とを提供すること。
【解決手段】 本発明の窒化物膜の成膜方法では、溶射原料である金属元素又は非金属元素の粉末とその元素の窒化物の粉末とから実質的に構成される混合物が溶射することによって窒化物膜を得るので、元素粉末の窒化反応に伴う結晶成長による凝集が、窒化物粉末の存在によって抑制され、その結果として、緻密な厚膜を容易に得ることができる。また、窒化物粉末を予め混合しておくことにより、窒化物含有量を増大できると共に、相対的に未反応の元素粉末の割合を低減できるために、結果的に、窒化物含有率の高い厚膜を得ることができる。
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【課題】耐食性及び加工性に優れたＺｎ系めっき鋼板と、該鋼板を、めっき浴や浴内ロール等の周辺機器を交換することなく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）鋼板表面に施されためっき層内に、溶射して形成される、粒径が平均円相当径で０．５〜５０μｍの、Ｚｎに比べてイオン化傾向の高い金属及び／又は該金属からなる金属間化合物が、めっき層全体に対して、平均体積％で０．２〜３０％の割合で分散して存在し、かつ、（ｂ）めっき層表面に存在するクレーターの最大深さが、平均めっき層厚の２０％未満であることを特徴とする耐食性及び加工性に優れたＺｎ系めっき鋼板であって、溶融状態のめっき層に、上記金属及び／又は金属間化合物を溶射して製造する。 （もっと読む）

【課題】 製鋼工場の転炉排ガス処理設備などの、高温腐食、エロージョン摩耗、及び露点腐食の雰囲気に対して耐食性と耐摩耗性に優れた水冷鋼管構造体を提供する。
【解決手段】 水冷鋼管構造体の表面に、質量％で、Ｃｒ：１０〜２０％、Ｂ：２〜４．５％、Ｓｉ：２〜５％、Ｃ：０．４〜１．１％、Ｆｅ≦：５％、Ｃｏ≦１％、Ｍｏ≦４％、Ｃｕ≦４％、残部Ｎｉの合金であるＮｉ基自溶性合金に、質量％で、Ｃｒ：２０〜２３％、Ｍｏ：８〜１０％、Ｆｅ：２〜７％、（Ｎｂ＋Ｔａ）：１〜４％、残部Ｎｉ及び不可避の不純物からなるＮｉ基合金を質量で１０〜９０％配合した被膜材を溶射し、再溶融処理を施して被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】マイクロプラズマ中に極微量の溶液原料を効率的に霧化・供給させるシステム及びその溶液原料からマイクロプラズマを利用してＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法溶射法、蒸着法等により、基板上に反応生成物や材料等をデポジション又は堆積させるための技術を提供する。
【解決手段】マイクロプラズマガス供給ラインの上流又は途中において、同ラインとほぼ直交するように液体を供給し、該液体をマイクロプラズマにより反応、分解又は霧化させ、マイクロプラズマ下流に設置した基体上に反応生成物又は微粒子をデポジットさせることを特徴とするマイクロプラズマデポジション方法。 （もっと読む）

【技術課題】 長尺の管体の内面又は外面に溶射皮膜を形成する装置を提供する。
【解決手段】 基台１上に設けたターンテーブル７上に管体ａを立設し、この管体ａ内を経由するように構成した駆動チェン２１に溶射ガン３９を取り付けて、管体ａを回転させながら、溶射ガン３９を上昇させることにより、管体ａ内に溶射皮膜を形成する。この溶射に併せて、管体ａ内に圧縮空気を送入して管体ａ内を冷却し、管体ａの外には溶射ガン３９に追従して上昇しながら管体ａに冷却水を噴霧する冷却水噴霧スプレー２６を設ける。また、管体ａの上端開口部ｂに臨ませて排気ダクト３１の吸引口３２を配し、管体ａ内から排出される排気とダスト等は排気ダクト３１を介して強制的に吸引し、系外に排出する。又は、冷却水噴霧スプレー２６に代えてここに溶射ガン３９を取り付けることにより、管体ａの外面に溶射皮膜を形成することができる。 （もっと読む）