【課題】コールドクルーシブル溶解炉において、溶解した金属の溶湯を安定して出湯することのできる出湯用電磁ノズル装置を提供する。
【解決手段】コールドクルーシブル溶解炉１０のるつぼ底部１６に、出湯用ノズル２０とその外側のノズルコイル２２とから成る出湯用電磁ノズル装置１８を設ける。その出湯用電磁ノズル装置１８は、ノズルコイル２２を上コイル２２-１と下コイル２２-２とに分割し、出湯用ノズル２０の出湯口径をＤとして、上コイルをその下端が出湯用ノズル２０の下端よりもＤ以上の上側となる上位置に配置し、また下コイル２２-２をその下端が出湯用ノズル２０の下端よりも（１／２）Ｄ以上下方に突出した下位置に配置しておく。 （もっと読む）

【課題】下地基板を融液に浸漬させることにより下地基板の表面上に形成される結晶薄板の生産を停止することなく安定した原料の追加供給を行なうことができ、また品質の劣化やばらつきを低減するとともに結晶薄板の製造歩留まりを向上することによって、結晶薄板の生産性を向上させることができる溶融炉を提供する。
【解決手段】融液を保持するための主坩堝と、主坩堝の融液を加熱するための主坩堝加熱装置と、主坩堝に供給される融液を保持するための副坩堝と、副坩堝の融液を加熱するための副坩堝加熱装置と、固体原料を投入するための固体原料投入装置と、副坩堝から主坩堝に融液を供給するための融液搬送部と、固体原料投入装置から副坩堝への固体原料の投入の有無を決定する固体原料投入制御装置とを備えた溶融炉である。 （もっと読む）

【課題】金属坩堝を１０００℃以上の高温で使用するための坩堝炉において、高温時の坩堝近傍の雰囲気を制御すると共に、ルツボ内の温度制御の精密化、ルツボの長寿命化が可能となる坩堝炉を提供する。
【解決手段】１０００℃以上の高温において、金属坩堝４中で化合物の処理を行うための坩堝炉であって、坩堝４の周辺に耐熱性で着脱可能な薄い緻密質セラミックスからなる第一のスリーブ１を置き、該第一のスリーブ１の外側に断熱材からなる第二のスリーブ２並びに加熱装置３を置いたことを特徴とする坩堝炉である。 （もっと読む）

【課題】高炉製銑法に代わり、高エネルギ効率で溶融銑鉄を製造することができ、また所謂都市鉱山から貴金属等を回収することができ、更に、シリコン基板を高効率で製造することができるマイクロ波加熱炉を提供する。
【解決手段】マイクロ波ビームは、円筒状の支持板からこの円筒中心に配置された溶解炉１０の反応容器１１に向けて照射され、この間に、電力密度を増加させる。マイクロ波ビームは、溶解炉１０のマイクロ波窓１４から溶解炉１０内部に導入され、副反射鏡１６で反射して主反射鏡１３に向かい、主反射鏡１３で反射して、反応容器１１の容器空間内の収容物１２に向かう。収容物１２及び反応容器１１からは、赤外線が放射されるが、この赤外線は、主反射鏡１３の一部に設けられた段差反射面１５により反射して、収容物１２に戻る。マイクロ波ビーム及び赤外線が、主反射鏡１３と反応容器１１との間に閉じ込められて、収容物１２が加熱される。 （もっと読む）

【課題】被処理物収容部から被処理物を投入可能な状態のままで被処理物通路の出口端を移動させることが容易で作業性の良い被処理物投入装置を提供する。
【解決手段】被処理物を収容する被処理物収容部と、被処理物が気密状態で通過して出口端１２ａから処理装置に投入可能な被処理物通路１２と、前記被処理物収容部から前記被処理物通路１２へと被処理物を気密状態で取り出し可能な被処理物取出機構と、前記被処理物通路１２の処理装置側と被処理物収容部側とを遮断可能な閉鎖部１４と、前記被処理物通路１２のうちで前記閉鎖部１４よりも被処理物収容部側の位置にて、前記被処理物通路を分離及び接合可能なジョイント部１５とが設けられており、前記被処理物通路１２は、前記ジョイント部１５の接合位置を維持したままで、前記出口端が前記接合位置に対して接近・離反するようにして伸縮可能である。 （もっと読む）

【課題】例えば１０００℃以上の高温でガラス溶融を行った場合でも、イリジウムの揮発によるクラックを容易かつ十分に抑制することが可能なガラス製造用容器を提供する。
【解決手段】ＩｒまたはＩｒを含む合金からなり、ガラス融液と接触する内表面と、ガラス融液と接触しない外表面とを有する容器本体と、前記容器本体の外表面に電気的に接続されており、かつ、前記容器本体に電子を供与する電子供与性物質からなる電子供与体とを備えるガラス製造用容器であって、酸化性雰囲気下で使用されることを特徴とするガラス製造用容器。 （もっと読む）

【課題】寿命が長く、溶湯の品質を高く維持でき、しかも誘導加熱コイルが焼損する危険を低下させ、安全性の高い誘導加熱式アルミニウム溶解・保持炉を提供する。
【解決手段】コイル導体を適宜の間隔をおいて複数回巻回して円筒状の誘導加熱コイル２１を形成し、このコイル成形体の全体を耐熱性のキャスタブルセメントにより包み込んで成形して、全体が耐火性無機質セメント被覆層２５で覆われたほぼ円筒状の誘導加熱コイル成形体２０を形成し、この誘導加熱コイル成形体２０を炉枠内に固定的に設置し、前記円筒状の誘導加熱コイル成形体２０の中央空所に、磁性を有する鉄材で形成した鍋状のるつぼ１１を出し入れ可能に収納し、前記鉄材製るつぼの外周を前記誘導加熱コイル２１により取り囲む。 （もっと読む）

【課題】ルツボを築炉する際に、手間および時間を軽減することが可能な真空溶解装置と、その真空溶解装置で用いられるルツボユニットを提供すること。
【解決手段】真空吸引されるチャンバ２０内でコイル１２０に高周波電流を導通させて、鉄換算で５０ｋｇ以上の原料を誘導加熱して溶解するルツボユニットを有する真空溶解装置１０であって、コイル１２０の空芯部１２５に配置されると共に材質がセラミックスである外ルツボ１４０と、外ルツボ１４０の内筒部１４４に配置されると共に、材質をセラミックスとする内ルツボ１５０と、を具備し、内ルツボ１５０は、外ルツボ１４０よりも熱膨張係数が大きなセラミックスを材質として形成されていると共に、外ルツボ１４０の内筒面１４４ａと内ルツボ１５０の外周面１５３ａとの間の隙間寸法Ｓは、原料の溶解の際の熱膨張において外ルツボ１４０側から内ルツボ１５０側へ圧力を及ぼす状態に設定されている。 （もっと読む）

【課題】ＣＣＩＭ法を用いて、健全な長尺の鋳塊を安定して製造することができる長尺鋳塊の溶解製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】溶湯４を芯金用鋳型９に注湯して軸状の芯金鋳塊１を作製する第一工程と、溶湯４を棒状原料鋳型１０内に立設した芯金鋳塊１の周囲に複数回に分けて注湯することで棒状原料２を作製する第二工程と、るつぼ底６が上下方向に移動自在に形成された水冷銅製るつぼ５内に棒状原料２を装入して誘導加熱で溶解し下方に引き抜くことで、その引抜方向の長さが直径に対して１．５倍以上の長尺鋳塊３を製造する第三工程とよりなる。 （もっと読む）

【課題】Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系またはＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｒｕ系の金属、およびＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＣｏＯ、Ｔａ₂Ｏ₅のうちのいずれか１つまたは複数の金属酸化物からなるターゲットから、工程数を少なくかつ不純物の混入を少なく金属を回収する。
【解決手段】ターゲット１を、貫通孔１２Ｂが底面にある上段ルツボ１２および該貫通孔１２Ｂの下に設けられた下段ルツボ１４を備えてなる２段ルツボ１０の該上段ルツボ１２内で、ターゲット１にＴｉＯ₂およびＴａ₂Ｏ₅のどちらも含まれない場合は１４００〜１７９０℃で加熱し、ターゲット１にＴｉＯ₂が含まれ、Ｔａ₂Ｏ₅が含まれない場合は１４００〜１６３０℃で加熱し、ターゲット１にＴａ₂Ｏ₅が含まれる場合は１４００〜１４６０℃で加熱して、溶融した前記金属を下段ルツボ１４内に流れ込ませて前記金属酸化物から分離する。 （もっと読む）

【課題】高温強度、特に底部と側壁部とを連結する角部の高温強度に優れるタングステン製ルツボを提供すること。
【解決手段】純度９９．９％以上のタングステンからなり、底部２と側壁部３とが角部４を介して連結された上部開放の有底筒状のタングステン製ルツボ１であって、前記タングステンは、粒径が１０μｍ以上１００μｍ以下のタングステン結晶粒の割合が粒子数の割合で９０％以上であるもの。また、焼結工程やＨＩＰ焼結により製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ノズルが、その周囲の温度変化による影響を受けにくいようにしてノズル温度を安定化し、流出ガラスの失透やガラス塊への脈理の発生を抑え、ガラス塊の質量バラツキを小さくすることができるガラスの供給装置及び供給方法を提供する。
【解決手段】ガラス材料を加熱して溶融ガラスとするガラス溶融炉２と、該ガラス溶融炉２の底部に接続され、前記溶融ガラスを導出する白金又は白金合金製のガラス流出管３と、ガラス流出管３を通電加熱する通電加熱手段４と、ガラス流出管３の先端に設けられ、溶融ガラスを流出させるノズル５と、を有するガラスの供給装置であって、ノズル５の外周を囲うようにして配置された白金又は白金合金製の円筒形状のマッフル６と、該マッフル６を加熱するためのマッフル加熱手段７と、マッフル６の温度を熱電対８により検出しながら制御する温度制御手段９と、を有するガラスの供給装置１。 （もっと読む）

【課題】三相誘導電器を用いて加熱装置を構成する場合において、装置構成及び組み立てを簡単にする。
【解決手段】３本の脚鉄心部２１を三角配置し、それら脚鉄心部２１の上端部同士及び下端部同士を連結するヨーク鉄心部２２を有する三相誘導電器２と、被加熱物を内部に収容し、三相誘導電器２により直接通電される加熱容器３とを備え、三相誘導電器２の出力端子２３が三角配置され、加熱容器３の入力端子３１が三角配置され、加熱容器３を三相誘導電器２の上部又は下部に配置した状態において、三相誘導電器２の出力端子２３及び加熱容器３の入力端子３１が対向するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】鋳造欠陥の発生を抑制でき、健全な大型の鋳塊を製造することができる鋳塊の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ＣＣＩＭ法で、溶解原料３を供給しつつ、るつぼ底１を下方に引き抜いて鋳塊６を製造する方法において、水冷銅製るつぼ２を構成する銅製セグメント７間に形成されているスリット８の下端位置を、高周波コイル４の下端位置より下方に配置すると共に、溶湯プール５と鋳塊６との凝固界面が水冷銅製るつぼ２の内面に接する位置が、高周波コイル４の下端位置と高周波コイル４の高さの半分の高さ位置の間に収まるようにして鋳塊６を製造する。 （もっと読む）

【課題】ＧａＡｓ単結晶等の成長に使用されるＢＮるつぼを低コストで製造する方法の提供。
【解決手段】
高分子フィルムを硼素と窒素を含む雰囲気で熱処理することにより窒化硼素（ＢＮ）に転化させてＢＮるつぼを製造する方法であり、より具体的には、高分子フィルムを硼素及び窒素を含むガス中で１２００℃〜２０００℃の温度で処理して少なくとも表面部が硼素及び窒素からなる中間体を生成させる第一の工程と、得られた中間体を２０００℃以上３０００℃以下の温度範囲で本焼成してＢＮるつぼを得る第二の工程とを含むＢＮるつぼの製造方法。 （もっと読む）

【課題】真空槽の内部で被処理物の処理を行うに際して、速やかにかつ繰り返して、所望の量の被処理物を追加装入することが可能な真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置１は、真空槽１０と、真空槽１０の内部１０ａを真空雰囲気に排気可能な排気手段２０と、真空槽１０の内部で被処理物Ｗに所定の処理を行う処理手段３０と、処理手段３０に被処理物Ｗを供給する供給機構４０とを備え、供給機構４０は、真空槽１０の内部１０ａに設けられ、被処理物Ｗが貯蔵された貯蔵部４１と、貯蔵部４１から被処理物Ｗを所望の量だけ取り出して処理手段３０へ搬送する搬送手段４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】溶解炉内において、固液界面が凹面状から水平面状となるようにし、一方向性の大粒径の結晶成長を可能とする、
【解決手段】上部より導電性の被溶解材料１３を添加しつつ、前記被溶解材料１３を加熱して溶湯を形成する溶解炉１０において、前記被溶解材料１３を誘導加熱して溶湯を形成する誘導加熱コイル１８を設ける。さらに、前記誘導加熱コイル１８の下部側であって前記誘導加熱コイル１８が巻回されていない溶解炉の外周領域から、前記溶湯１４に対して水平方向の直流磁場を印加する磁性体２１（磁極２１Ｎ、２１Ｓ）を設ける。 （もっと読む）

【課題】出湯用のノズルの下端に残った凝固塊を出湯後に加熱により良好にノズルから除去することができ、その際に除去用コイルの絶縁被覆を焼損してしまうことのないコールドクルーシブル溶解炉の出湯用ノズル装置を提供する。
【解決手段】ノズルコイルによりるつぼ底部１６で凝固した凝固金属を高周波誘導溶解して、るつぼ内の溶湯を出湯するようになしたコールドクルーシブル溶解炉の出湯用ノズル装置１８において、ノズルコイル２２を、ノズル２０の下端に残った凝固塊ｋ-１を高周波誘導加熱にて除去する除去用コイル２４を備えたものとなして、その除去用コイル２４をノズル２０の下端部に且つその下端がノズル２０の下端に、また上端がノズル２０の下端から０．５Ｄ〜２Ｄ（Ｄ＝ノズル２０の口径）の高さに位置する状態に配置し、凝固塊ｋ-１に１０ｋｇ（質量）以上の錘Ｗをぶら下げて除去用コイル２４に通電を行い、凝固塊ｋ-１を除去するようになす。 （もっと読む）

【課題】耐火物の表面にコーティング層を形成することにより、高い耐食性を有する放射性廃棄物処理用の耐火物形成体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】放射性廃棄物処理用の耐火物形成体１０は、少なくとも酸化アルミニウムを６０重量％以上含有してなる耐火物本体２０と、この耐火物本体２０の表面に形成され、酸化ジルコニウムを７０〜９６重量％およびシリコン化合物を３０〜４重量％含有してなるコーティング層３０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】トリチウムによる放射性汚染物としての取り扱い難さをなくし、かつ使用するエネルギーを少なくして、取り扱い易い小塊の形で使用済の放射性汚染ベリリウムから放射性汚染のないベリリウム金属を回収する。
【解決手段】内部空間部には、ベリリウム塊を加熱してベリリウム塊中に含まれたトリチウムを抽出させ、トリチウムが抽出された前記ベリリウムの塊を更に加熱して溶融させる加熱部と、前記加熱部の加熱温度が所定の状態になったことによって溶融したベリリウム塊に重力が作用するようにしてベリリウム小塊の形状で滴下分離させるベリリウム小塊分離手段と、重力落下方向に滴下分離したベリリウム小塊が落下する落下路と、を配設し、落下するベリリウム小塊を冷却、収納するベリリウム小塊冷却、収納部を配設した。 （もっと読む）