【課題】アルミニウム金属又はアルミニウム合金よりなる半導体製造装置部品にダメージを与えることなく、堆積した付着物を除去することができ、安全な洗浄方法を提供する。
【解決手段】ａ）半導体製造装置部品を、フッ化物：カルボン酸：ホウ酸とを例えば、１ｐｐｍ〜４％：０．１〜２０％：０．１〜５％の組成比（重量比）で含んでなる組成物で洗浄する工程、ｂ）半導体製造装置部品を非イオン系界面活性剤及び／又は酸化剤を、０．０１〜１０重量％含んでなる組成物で洗浄する工程、のａ）、ｂ）両工程で洗浄する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被覆ゴムとスチールコードとの初期接着性、耐熱接着性及びトリート放置後の接着性、並びに被覆ゴムの耐久性に優れたゴム物品、更にはスチールコード−ゴム複合体補強用スチールワイヤの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のスチールコード−ゴム複合体は、スチールコード−ゴム複合体表面におけるＺｎ及びＣｕを除く遷移金属の濃度が０．０１質量％以上、リン濃度が２．５質量％以下、及び亜鉛濃度が１５質量％以下であるブラスめっきを周面に施したスチールワイヤを複数本撚り合せてなるスチールコードを、ゴム成分１００質量部に対してホウ素含有化合物を０．５〜５質量部配合してなるゴム組成物を用いた被覆ゴムで被覆してなる。 （もっと読む）

【課題】一定の幅を有する無端状ベルトを、複数本同時に均一かつ強力に、すすぎ洗浄する洗浄方法及び洗浄装置を提供すること。
【解決手段】すすぎ液槽内に一定方向に流れるすすぎ液流を形成し、無端状ベルトを、その幅方向がすすぎ液流の流れ方向に沿うようにすすぎ液槽内に配置する。その結果、無端状ベルトと水との間に発生するせん断力により、無端状ベルトが、すすぎ洗浄される。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、鋼板Ｗから金属粉Ｗ１を確実に取り除くことができる鋼板洗浄装置を提供する。
【解決手段】回転手段によって回転されるマグネットベルト３１と、マグネットベルト３１の回転外側に密着されて共に回転され、一部がマグネットベルト３１から離れてマグネットベルト３１の回転軌道より外回りをして回収部４を形成し、マグネットベルトと密着して回転される一部が平板状からなる鋼板に接触される金属粉磁着部３８を形成する非磁性体ベルト３２とからなり、
鋼板Ｗ表面に付着した金属粉Ｗ１は、マグネットベルト３１の磁力により磁着され、マグネットベルト３１および非磁性体ベルト３２の回転に伴って鋼板Ｗ１表面から取り除かれ、回収部４に回収される。 （もっと読む）

【課題】細棒材に形成された止まり穴の内部を簡単に且つ確実に洗浄する。
【解決手段】止まり穴２が形成された中間素材１を閉鎖容器１０に収容し、減圧ポンプ１１によって閉鎖容器１０の内部を減圧すると共に液タンク１２から洗浄液を供給して中間素材１、止まり穴２を浸漬し、昇圧部材１３によって閉鎖容器１０の内部を昇圧し、洗浄液を排水した後、閉鎖容器１０の内部を再度減圧することで、中間素材１に形成された止まり穴２を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 処理槽内の異物を確実に除去することができる処理槽における処理液濾過装置を提供する。
【解決手段】 処理槽２のワーク搬出側の表層処理液１を回収する開口部６と、処理槽２のワーク搬入側の中層処理液１を回収する分離部４と、処理槽２のワーク搬入側底面の底層処理液１を回収するホッパ５と、処理槽２の底面８に配設されワーク搬送方向と逆方向且つ底面８を指向した第１処理液吐出ノズル１５と、処理槽２の両側面に配設されワーク搬送方向と逆方向且つワークを指向した第２処理液吐出ノズル１９と、開口部６、分離部４、ホッパ５で回収された処理液１を濾過して異物を夫々分離するサイクロン装置２５，３１，４４，５０，６５と、これらのサイクロン装置２５，３１，４４，５０，６５で分離された異物を主に貯留する分離槽６０と、この分離槽６０に貯留された異物と処理液１から異物のみを分離して排出するスクリューコンベア６２を備えた。 （もっと読む）

【課題】高倍率に希釈しても、短時間で接着剤を洗浄除去できる洗浄性と、洗浄の際に基材に対してダメージを与えない非侵食性が優れている洗浄剤原液を提供すること。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１）で表される化合物（ａ）と、水酸化アルキルアンモニウム（ｂ）とを水中に含有することを特徴とする仮止め接着剤用洗浄剤原液。
Ｒ１Ｒ２Ｎ−Ｒ３−ＯＨ （１）
（上記一般式において、Ｒ１、Ｒ２は、水素または炭素数が１〜４のアルキル基を表し、また、Ｒ３は、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、または、−ＣＨ₂−ＣＨ（ＣＨ₃）−を表す。） （もっと読む）

【課題】建築鋼構造物等に対して、旧塗膜の剥離、酸化被膜の除去の後に再塗装を行うために、自然環境に優しく、また粉塵の発生や騒音も少ない作業環境を改善した素地調整工法を提供すること。
【解決手段】金属基材上の酸化皮膜及び有機被膜や無機被膜の旧塗膜を除去するための素地調整工法において、
該旧塗膜上に塗膜浸透軟化剤を塗布する工程、
該塗膜浸透軟化剤と共に該旧塗膜を剥離・除去する工程、
該旧塗膜が除去された金属基材上に黒皮除去剤を塗布する工程、
該黒皮除去剤と共に酸化被膜を除去する工程、
を有するブラスト処理を必要としないことを特徴とする素地調整工法。 （もっと読む）

【課題】アルミ切粉に含まれている樹脂切粉を除去し、アルミ溶融回収でのアルミ回収率を高めると共に環境改善を図る。
【解決手段】洗浄槽、洗浄液槽および樹脂処理槽を備えるアルミ切粉洗浄装置によって原料アルミ切粉を洗浄液で洗浄し、原料アルミ切粉に含まれている樹脂切粉を除去するアルミ切粉洗浄方法であって、原料アルミ切粉を洗浄槽に投入して、密度がアルミよりも低く、樹脂よりも高い洗浄液で洗浄することにより樹脂切粉を洗浄液に浮遊せしめ、アルミ切粉を沈降させて、樹脂切粉が浮遊する上層洗浄液を樹脂処理槽に取り出して樹脂切粉を分離し、洗浄槽の残りの洗浄液を洗浄液槽に排出してアルミ切粉を取り出し回収する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高耐食性および塗膜との高密着性を有するアルミホイールの製造方法、およびアルミホイールを提供する。
【解決手段】アルミニウム系基材を成型してなるアルミホイールの表面を、０．５ｇ／Ｌ〜１０ｇ／Ｌの金属イオンと、１０ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌの硝酸とを含む酸洗処理液を用いて酸洗する。また、上記酸洗処理液には、上記金属イオンとして、Ｆｅ^３＋イオン、Ｎｉ^２＋イオン、Ｃｏ^２＋イオン、Ｍｏ^６＋イオン、およびＣｅ^４＋イオンからなる群より選択される少なくとも１種の金属イオンを含むものを用いる。これにより、アルミホイールの表面の清浄化を高め、結果として、該アルミホイールを塗装した際、塗膜との密着性および耐食性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】超音波を用いてアルミニウム基体表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能な洗浄方法、洗浄装置を提供することにあり、更に、異常成長の原因が少ないアルミニウム基体洗浄方法、及びそれを用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【解決手段】少なくとも脱脂工程およびリンス工程を有する洗浄工程を有するアルミニウム基体を洗浄する洗浄方法において、該脱脂工程においては２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つの脱脂槽の洗浄液に印加し、該リンス工程においては１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つのリンス槽の洗浄液に印加することを特徴とする基体洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ブラシローラを有する鋼板用洗浄装置に関して、ブラシローラ中央部の洗浄液等の滞留を抑制する。
【解決手段】鋼板１１をその長手方向に搬送しながら洗浄する鋼板１１の洗浄装置１であって、鋼板１１の表裏両面にそれぞれ当接して鋼板１１の表裏面を洗浄液で洗浄する少なくとも一対のブラシローラ３０（３１，３２）を備え、これらのブラシローラ３０を回転することによって鋼板１１は洗浄されるとともに搬送され、ブラシローラ３０は、軸方向中心部に周囲に渡り所定の幅Ｗａを有した帯状の中央ブラシ部７０と、この中央ブラシ部７０によって軸方向において左右に分割された一対の側ブラシ部７１を有し、この側ブラシ部７１は、所定の幅Ｗｂを有し、鋼板１１との接触によって中央ブラシ部７０から鋼板１１の幅方向端部ＲＥＵ，ＬＥＵに向かって洗浄液ＰＯＬを送ることができる螺旋状に設けた。 （もっと読む）

【課題】高速連続プレス加工において加工性、耐かじり性、塗膜密着性に優れたアルミニウム板を提供する。
【解決手段】アルミニウム板表面に、ＧＤＳ深さ方向分析においてＭｇの最大発光強度が２Ｖ以下となる表面処理を施し、乾燥後の樹脂塗膜厚さが１５０％以下の粒径となる、粒状ポリエチレンワックスを含む塗料を塗布し、ワックスの融点以下で塗膜を加熱乾燥させ、その後、ワックスの融点から５℃〜１０℃低い表面温度にて、ワックスを塗布する。 （もっと読む）

【課題】バンプショートの発生を防止して半導体素子の歩留まりを向上させるフラックスの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】フラックス洗浄剤によりウェーハ１を洗浄する洗浄処理工程（Ａ）と、前記洗浄処理後、連続して、液温４０℃以上の脱イオン水によりウェーハ１をリンスする第１リンス処理工程（Ｂ）と、前記第１リンス処理後、連続して、液温２５℃以下の脱イオン水によりウェーハ１をリンスする第２リンス処理工程（Ｃ）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物がたとえ複雑形状を有する場合であっても、被洗浄物表面上の汚染物質を十分に除去できる洗浄方法および洗浄装置を提供する。
【解決手段】純水にオゾンを溶解させたオゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得るための紫外線照射処理槽６、紫外線照射処理槽６内で得られた洗浄液を供給する管路１５および洗浄液を被洗浄物に接触させるための手段７を備え、オゾン水に紫外線を照射して洗浄液を得た直後に、当該洗浄液を被洗浄物に接触させる。 （もっと読む）

【課題】極板用芯材として用いられる多孔質金属基板に混入した金属不純物の洗浄を、生産性を十分確保しつつも好適に行う。
【解決手段】多孔質金属基板のシート１１をフープ１０から巻き出すとともに、液槽１３に貯留された溶液の内部を通過された後に巻き取るようにすることで、フープ１０から巻き出されたシート１１に対して、金属不純物の洗浄を順次連続的に行うようにした。こうして多孔質金属基板をシート１１の状態で溶液に浸すことで、斑無く、一様に金属不純物を洗浄することが可能となり、また同時に溶液に浸される多孔質金属板の量が限られるため、化学反応による発熱は少なく、溶液の温度管理が容易ともなる。 （もっと読む）

本発明は、含浸剤組成物の回収法において、含浸された金属部材を、少なくとも１の塩少なくとも０．７質量％を含む塩含有清浄化組成物と接触させることを特徴とする方法に関する。さらに本発明は、含浸剤の回収のための少なくとも１の工程を含む金属部材の含浸法に関する。 （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属の洗浄において、低温（５０±５℃）で十分な洗浄性能、噴霧洗浄が可能な低起泡性能、および防錆機能を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式（１）で表される非イオン界面活性剤、および下記の一般式（２）で表される非イオン界面活性剤を含有することを特徴とする金属洗浄剤組成物。
Ｒ^１−ＣＨ（Ｒ^２）−ＣＨ_２−Ｏ−（ＡＯ^１）ｎ−Ｈ ・・・（１）
（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は直鎖または分岐の脂肪族炭化水素基を表し、ＡＯ^１は炭素数が２〜４のオキシアルキレン基を表し、ｎは１〜１００である。ＡＯ^１の付加形態はランダム付加、ブロック付加またはこれらの混合付加である。）
Ｒ^３−Ｏ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｐ−［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］−Ｈ ・・・（２）
（式中、Ｒ^３は炭素数８〜１５である脂肪族炭化水素基、ｐ，ｑ，ｒは平均付加モル数（ｐ＝０〜５、ｑ＝０〜１５、ｒ＝０〜５、ｐ＋ｑ＋ｒ＞５）、ＡＯ^２は炭素数３または４のオキシアルキレン基、［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ／（ＡＯ^２）ｒ］はモル比ｑ／ｒのランダム重合鎖である。） （もっと読む）

【課題】 被処理基板への銅の再付着を防止できる銅の再付着防止方法を提供すること。
【解決手段】 銅含有物質を含む膜が形成された被処理基板をチャンバ内に設置する工程（ステップ１）と、チャンバ内に設置された被処理基板から銅含有物質を、有機化合物を用いたドライクリーニングを用いて除去する工程（ステップ２）と、銅含有物質が除去された被処理基板を前記チャンバから搬出する工程（ステップ３）と、銅含有物質が除去された被処理基板がチャンバ内に無い状態で、このチャンバ内に飛散した銅含有飛散物を被覆する被覆膜をチャンバ内に堆積する工程（ステップ４）と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】Ｐｂフリーハンダフラックスのフラックス残渣に対する洗浄性が向上したハンダフラックス用洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される化合物からなる成分（Ａ）を６５〜９０重量％、環式炭化水素基を有するモノアミン又はジアミンのアルキレンオキサイド付加物からなる成分（Ｂ）を５〜１５重量％、及び水を５〜２０重量％含有し、成分（Ａ）、成分（Ｂ）、及び水の総含有量が９９〜１００重量％である、ハンダフラックス用洗浄剤組成物。


［上記式（Ｉ）において、Ｒ¹は炭素数１〜８の炭化水素基を示し、Ｒ²は水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基を示し、ＥＯ及びＰＯはそれぞれオキシエチレン基及びオキシプロピレン基を示し、ｎ及びｍはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数を示し、ｎは１〜８の数であり、ｍは０〜７の数であり、ｎ≧ｍである。］ （もっと読む）