【課題】表示装置および表示装置提供方法を提供する。
【解決手段】第１表示板と、前記第１表示板と対向して配置され、第１領域および前記第１領域を囲む第２領域を有する一面を含む第２表示板と、前記第２表示板の前記第１領域および前記第２領域の少なくともいずれかに形成され、前記第１表示板と接触する一つ以上の第１スペーサ、および前記第２表示板の前記第１領域および前記第２領域に形成され、前記第１表示板と離隔する一つ以上の第２スペーサを含み、前記第２領域に形成された前記第２スペーサの断面積の合計は、前記第１領域に形成された前記第２スペーサの断面積の面積の合計より小さいかまたは０である表示装置。 （もっと読む）

【課題】絶縁層上の有機半導体層をレーザ光を用いてパターニングしたときであっても、有機半導体層に損傷が生じ難い半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、（Ａ）基体１０上にゲート電極１２を形成した後、（Ｂ）基体１０及びゲート電極１２上にゲート絶縁層１３を形成し、次いで、（Ｃ）基体１０に到達する分離溝１６をゲート絶縁層１３に形成した後、（Ｄ）ゲート絶縁層１３上及び分離溝１６の底部に露出した基体１０上に有機半導体層１４を形成し、次に、（Ｅ）少なくとも分離溝１６の底部に露出した基体１０上に形成された有機半導体層１４の部分にレーザ光を照射して分離溝１６の底部の少なくとも一部を露出させる一方、有機半導体層１４の上に一対のソース／ドレイン電極１５を形成する各工程から成る。 （もっと読む）

【課題】高コントラスト、高速応答および低消費電力を実現可能な表示装置を提供する。
【解決手段】電気泳動素子は、泳動粒子と、その泳動粒子とは光学的反射特性が異なる非泳動粒子を保持する繊維状構造体を含む多孔質層と、その多孔質層の一部を包含する光透過性の隔壁とを備えている。 （もっと読む）

【課題】フリンジフィールドスイッチングモードで駆動する液晶表示装置の作製方法において、フォトマスク数を削減することで製造工程の簡略化及び製造コストの削減をする。
【解決手段】透光性を有する絶縁基板上に第１の透明導電膜及び第１の金属膜を順に成膜し積層し、第１のフォトマスクである多階調マスクを用いて第１の透明導電膜及び第１の金属膜を形状加工し、絶縁膜、第１の半導体膜、第２の半導体膜、第２の金属膜を順に成膜し積層し、第２のフォトマスクである多階調マスクを用いて第２の金属膜、第２の半導体膜を形状加工し、保護膜を成膜し、第３のフォトマスクを用いて保護膜を形状加工し、第２の透明導電膜を成膜し、第４のフォトマスクを用いて第２の透明導電膜を形状加工する。 （もっと読む）

【課題】低コストで耐久性や表示特性、生産性に優れる高品質の電気泳動表示シート及びこれを用いた電気泳動表示媒体が提供する。
【解決手段】光透過性の基板材料１０に形成された光透過性の電極面１１に、絶縁性材料の隔壁１５によって構成されるセル状構造体２０を形成し、該セル状構造体２０内部に電気泳動インク２５を充填し、封止接着層又は封止粘着層３０が形成されたフィルム３５を上記電気泳動インク層２０に貼合することを特徴とする電気泳動表示シートＡ。 （もっと読む）

【課題】低コストで耐久性や表示特性、生産性に優れる高品質の電気泳動表示シート及びこれを用いた電気泳動表示媒体が提供する。
【解決手段】光透過性の基板材料１０に形成された光透過性の電極面１１に、絶縁性材料の隔壁１５、１５…によって構成されるセル状構造体２０を形成し、該セル状構造体２０内部に電気泳動インク２５を充填し、封止前駆体層３０が形成されたフィルム３５を上記電気泳動インク層２０に貼合した後、該封止前駆体層３０を硬化させることにより封止層３１を形成して電気泳動インク層２０を封止した後、上記フィルム３５を封止層３１から剥離することを特徴とする電気泳動表示シートＡ。 （もっと読む）

【課題】異物の発生や付着の少ない透明複合基板およびかかる透明複合基板を効率よく製造し得る製造方法、および前記透明複合基板を備えた信頼性の高い表示素子基板を提供すること。
【解決手段】本発明の透明複合基板の製造方法は、ガラスクロス２と、ガラスクロス２に含浸した樹脂材料３と、を有する透明複合基板１の製造方法であって、ガラスクロス２に樹脂ワニス３０を含浸させ、含浸体１０１を得る工程と、含浸体１０１の両面にシート状の支持部材７１を重ねた後、含浸体１０１の外縁部１２を除く部分（中央部１３）に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、仮硬化体１０２を得る工程と、仮硬化体１０２を支持部材７１から剥離する工程と、仮硬化体１０２の外縁部に紫外線を照射して未硬化の樹脂ワニス３０を硬化させ、本硬化体（透明複合基板）を得る工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ＡＭ−ＯＬＥＤ等に比べて構成要素の膜厚管理を厳密に管理しなくても、高い発光効率と優れた光取り出し効率で駆動でき、幅広い発光波長で良好な駆動を期待できる自発光型表示装置を提供する。さらにＬＣＤやＰＤＰよりも軽量・薄型化でき、屋外での長時間使用にも耐えうる、高輝度で高画質を期待できる自発光型表示装置を提供する。
【解決手段】
基板２の上にＴＦＴ配線部３、パッシベーション膜４、第一蛍光体層６ａ、第一平坦化層７ａを積層し、その上に透明アノード電極１００、発光層１０１、透明カソード電極１０２を順次積層した発光体１０を配設する。発光層１０１はＺｎＯ系またはＧａＮ系等材料で構成し、発光面（上面）の面積に対する側面の総面積の割合を１／１０以上に設定する。これにより表示装置１を得る。 （もっと読む）

【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板１１上に形成された駆動回路層１２の表面を平坦化する平坦化膜１３と、平坦化膜１３上に積層された上部電極層１４Ｐと、上部電極層１４Ｐ上に形成され上部電極層１４Ｐを画素形成領域ごとに配置された上部電極１４として分離形成するためのパターニングされたレジスト２０とを準備する第１工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り２０Ｎに対し、２６６ｎｍの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り２０Ｎを除去する第２工程と、当該第２工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト２０をマスクとしてエッチングする第３工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】狭額縁の表示装置、表示装置用基板、及び、表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、第１基板と、第２基板と、表示層と、シール部と、凸部と、間隔調整層と、を含む表示装置が提供される。前記表示層は、前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる。前記シール部は、前記第１基板と前記第２基板との間において前記表示層を囲む。前記凸部は、前記第１基板の前記表示層に面する第１主面上の前記シール部の外側において前記シール部の外縁に沿って設けられる。前記間隔調整層は、前記シール部の前記外側において前前記外縁に沿って設けられ、前記第１基板から前記第２基板に向かう方向に沿ってみたときに前記凸部と重なる部分を有し前記凸部と接する。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板にＯＬＥＤのような発光素子を含む画素回路を形成する。
【解決手段】画素回路が配列する表示部１００と、表示部１００から離間して囲むように設けられ、複数の画素回路を駆動する走査線駆動回路１４０、データ線駆動回路１５０とがシリコン基板に形成される。Ｎウェル１０４は、表示部１００にわたって連続的に形成される。複数の画素回路の各々は、それぞれ複数のトランジスターを有し、当該トランジスターはＮウェル１０４に共通に形成されるとともに、基板電位を共通である。表示部１００におけるＮウェル１０４は導電型の異なるＰ型半導体基板領域１０２で囲まれる。 （もっと読む）

【課題】曲げによる外力が働いた場合であっても基板間に電気光学材料を良好に封止できる信頼性の高い封止構造を備えた電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器を提供する。
【解決手段】互いが対向配置され、それぞれが可撓性を有する第１基板３００及び第２基板３１０と、第１基板３００及び第２基板３１０の間に配置される電気光学層３２Ａと、第１基板３００又は第２基板３１０の一方に形成され、電気光学層３２Ａを注入するための注入穴Ｈと、注入穴Ｈを介して第１基板３００及び第２基板３１０間に注入された電気光学層３２Ａを封止する封止材１１０と、を備えた電気光学装置１００に関する。封止材１１０は、注入穴Ｈが形成されない他方の基板３１０側まで到達した状態に設けられる。 （もっと読む）

【課題】用途に合わせて要求される電気的特性を備えた酸化物半導体層を用いたトランジスタ、及び該トランジスタを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】ソース電極層又はドレイン電極層に接する第１の酸化物半導体層と、第１の酸化物半導体層上に設けられ第１の酸化物半導体層とは異なるエネルギーギャップを有する第２の酸化物半導体層と、を少なくとも含む酸化物半導体積層を用いてトランジスタを構成する。第１の酸化物半導体層と第２の酸化物半導体層とは互いに異なるエネルギーギャップを有すればよく、その積層順は問わない。 （もっと読む）

【課題】新規な偏光子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材上２に、配向層３、偏光層４及び保護層７がこの順で設けられた偏光子１であり、偏光層４が、重合性液晶化合物、二色性色素、重合開始剤及び溶剤を含む組成物から膜を形成する工程と、膜から溶剤を除去する工程と、溶剤を除去した膜に含まれる重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態とする工程と、重合性液晶化合物がスメクチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させる工程とを有する製造方法により製造されたものである。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴの信頼性向上を図りつつ、良好なコントラスト特性を得ることのできる表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の表示装置は、透光性基板と、前記透光性基板の一部に形成された不純物ドープ層と、前記不純物ドープ層及び前記透光性基板上に形成された絶縁膜と、前記絶縁膜上に形成された複数のＴＦＴを含むＴＦＴ回路と、前記ＴＦＴ回路により駆動される複数のシャッターを有するシャッターアレイと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】着色層パターンの画素ズレや画像表示時の混色を極力抑制でき、視認性の良好な反射型カラー表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、外光の反射光を表示用として用いる単色表示可能な反射型表示装置と、この反射型表示装置の表示面側に設けられた着色層パターンとにより、カラー表示が可能な反射型カラー表示装置であって、反射型表示装置の表示面を構成する表面基材の上部に着色層パターンを形成した。 （もっと読む）

【課題】コンパクトでありながら、より安定した動作を行う薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】この薄膜トランジスタは、ゲート電極と、絶縁膜を介してゲート電極と対向して配置された有機半導体層と、この有機半導体層の上に設けられた絶縁性構造体と、互いに離間して配置され、かつ、有機半導体層の上面の一部とそれぞれ接するソース電極およびドレイン電極と、絶縁性構造体を覆い、ソース電極と接続されると共にドレイン電極と分離された導電性材料層とを有する。 （もっと読む）

【課題】ゲートスルーホールに接続される配線部のカバレジが不足するとともに、ゲートスルーホール端部において、配線部のショートが生じる場合がある。
【解決手段】表示装置であって、基板上の所定の位置に形成された電極層と、電極層上に形成された絶縁膜に設けられたゲートスルーホールを介して電極層と接続される配線膜と、を有し、前記ゲートスルーホールは、前記積層方向に順に水平方向に対して、第1のテーパ角を有する第１のテーパ部と、前記第１のテーパ角と異なる第２のテーパ角を有する第２のテーパ部と、前記第２のテーパ角と異なる第３のテーパ角を第３のテーパ部と、を含む。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を使用する薄膜トランジスタの特性を向上させることができる薄膜トランジスタ表示板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ表示板を提供する。本発明の一実施形態に係る薄膜トランジスタ表示板は、基板の上に配置するゲート配線層、前記ゲート配線層の上に配置する酸化物半導体層、及び前記酸化物半導体層の上に配置して、前記ゲート配線層と交差するデータ配線層を含み、前記データ配線層は銅を含む主配線層、及び前記主配線層の上に配置して、銅合金を含むキャッピング層を含む。 （もっと読む）

【課題】被蒸着膜を高精細なパターンで形成することが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】蒸着用マスクは、１または複数の第１開口部を有する基板と、この基板の一主面側に設けられると共に、各第１開口部と対向して１または複数の第２開口部を有する高分子膜とを備える。蒸着の際には、蒸着材料が第１開口部および第２開口部を順に通過することにより、第２開口部に対応した所定のパターンで被蒸着膜が形成される。基板と高分子膜とを組み合わせて用いることにより、機械的強度を保持しつつも、金属膜のみで構成されている場合に比べ、第２開口部において微細かつ高精度な開口形状を実現できる。 （もっと読む）