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Fターム[5E049GC01]の内容

磁性薄膜 (4,742) | スパッタリング法 (344) | スパッタリング法 (338)

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【課題】記録再生中、誤差が生ずることがない信頼性の高いパターンドメディア及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】パターンドメディアは、基板、軟磁性層、非磁性層、中間層及び記録層とを有する。記録層は非磁性材料と磁性材料からなるパターン構造を有し、非磁性材料のヤング率は磁性材料のヤング率よりも大きい。 (もっと読む)


【課題】高密度記録が可能であると共に、生産歩留まりの低下を回避し、さらには磁気記憶装置の信頼性を向上可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板11と、基板11上に、軟磁性裏打ち層12、シード層13、下地層14、記録層15、保護膜16、および潤滑層18を順次積層した構成とし、下地層14は、RuまたはRu合金からなる複数の結晶粒子14aからなり、結晶粒子14a同士を互い離隔する空隙部14bを介して基板面内方向に配置され、記録層15は下地層14の結晶粒子14a上に堆積した複数の磁性粒子15aからなり、磁性粒子15a同士を互い離隔する空隙部15bを介して基板面内方向に配置される。記録層15の磁性粒子15aは、下地層14の結晶粒子14a上に成長した構成を有する。 (もっと読む)


【課題】30nm以下の微小くびれ部を有する磁気抵抗効果素子を容易に歩留まり高く製造できる方法と、大きな磁気抵抗効果を有する磁気抵抗効果素子とを得る。
【解決手段】第1の磁性領域2と、第2の磁性領域3と、第1の磁性領域2と第2の磁性領域3とを接続していると共に、基板表面に平行な一方向と直交する方向に関する長さが第1の磁性領域2及び第2の磁性領域3よりも短い微小くびれ部4とで構成される連続体を形成する。微小くびれ部4は、RFスパッタエッチングによって狭小化された30nm以下の幅のものである。第1の磁性領域2及び第2の磁性領域3における微小くびれ部4近傍の区域の外形線は、それぞれ、微小くびれ部4を頂点として90°以下の角度をなすように形成される。 (もっと読む)


【課題】電磁環境において磁気センサを使用するとき、強い外部磁界によって磁気センサが障害をうけることがあり、また磁気センサをシールド材でシールドすると、被検出磁界が検出不能となる。
【解決手段】磁気センサを、臨界磁界強度を超えると急激に透磁率が増大する材料で作られた磁気シールド容器内に収納する。前記材料は、互いに異なる方向に磁気異方性を有する強磁性材料と反強磁性材料とを積層した構造を有し、前記強磁性材料と反強磁性材料との積層体を、非磁性材料を介して更に積層している。 (もっと読む)


【課題】
FeCuNbCrSiBからなる磁性コア及びこれを巻くコイルを含むマイクロインダクタが開示される。
【解決手段】
本マイクロインダクタは、FeCuNbCrSiBからなる磁性コアと、コイルを絶縁させる絶縁体と、磁性コア及びコイルを保持する基板、パッドなどを更に含む。絶縁体は、アルミニウムオキサイド又はポリイミドになることができる。
これにより、高い動作特性を有するマイクロインダクタを超小型に具現することができるようになる。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録媒体及び磁気記録装置に関し、磁性結晶粒を十分微細化且つ均一化し、再現性良く成長させて、S/N比を高める。
【解決手段】 Al系合金基板或いはガラス基板からなる非磁性基板1上に少なくともアモルファス膜2を介してCo層或いはCo合金層のいずれかからなるとともに、互いに分離し、Cr系下地層(4)で覆われた島状膜からなるシード層3を設ける。 (もっと読む)


【課題】 高飽和磁束密度を備えるとともに軟磁性特性にもすぐれ、高密度記録が可能な磁気ヘッドのライト磁極を構成する磁極材料を提供する。
【解決手段】 鉄FeとコバルトCoとを主成分とする磁性層10と、NiFe層20とを交互に積層して形成された積層磁性膜5であって、前記NiFe層20が不連続膜として形成されている。前記NiFe層20は、前記磁性層10の表面粗さと同等以下の平均の厚さに形成することにより、不連続膜として形成できる。 (もっと読む)


【課題】2種の合金材料を同時にメッキする必要の無い、新規なL10規則合金相を有する構造体の製造方法、磁気記録媒体および永久磁石を提供する。
【解決手段】Pt又はPdのいずれかの金属Xからなる膜面に対して垂直な多数の柱状部材11と、該柱状部材を取り囲むマトリックス2から成る薄膜を用意する工程と、該マトリックッス2の一部または全部を除去する工程と、該マトリックスの除去により露出した金属Xからなる柱状部材の表面をFe、Co又はNiのいずれかの金属Yで被覆する工程と、熱処理により金属X及び金属Yを含むL10規則合金相を形成する工程とを有する構造体の製造方法。微細なFePt等のL10規則合金相が内包された構造体を用いた磁気記録媒体および永久磁石。 (もっと読む)


【課題】飽和磁束密度が大きく且つ保磁力が小さい特性を安定して実現することのできる軟磁性膜を提供する。
【解決手段】磁気ヘッドの磁極層は、鉄・コバルト・ニッケル系合金よりなる軟磁性膜を含んでいる。軟磁性膜に含まれる鉄、コバルトおよびニッケルの合計を100重量%としたとき、軟磁性膜において、鉄の含有量は42重量%以上90重量%以下であり、コバルトの含有量は0重量%以上48重量%以下であり、ニッケルの含有量は10重量%以上20重量%以下である。また、軟磁性膜は、体心立方構造相と面心立方構造相との混晶である結晶構造を有する。軟磁性膜は、方向が交互に切り替わるめっき電流を用いて電気めっきによって製造される。 (もっと読む)


【課題】 製造技術が確立された、つづら折り状あるいはミアンダ状の磁性薄膜による感磁部を用いながら、更に磁界検出感度を向上させ、作製の容易な磁気検出素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 磁気インピーダンス効果を有する磁性体として磁性薄膜部を備える磁気検出素子において、その磁性薄膜部は互いに略平行な磁性薄膜コア10a,10b,10c,10d,10eを導体膜20a,20b,20c,20dで繋ぎ合わせた形状のつづら折り状若しくはミアンダ状であり、検出する外部磁界を前記磁性薄膜部へ収束させるための、その磁性薄膜部と同一工程で成膜される磁束収束部11a,11b,11c,11d,11e,11f,11g,11h,11i,11jからなる磁気レンズが設けられた磁気検出素子である。 (もっと読む)


【課題】非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する、データ記録で使用される磁気媒体を提供する。
【解決手段】磁気ディスク202は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面204を有する。ディスク202は、より薄い非磁性ギャップ404によって分離された磁気トラック部分402を有する。トラック部分402は、したがって、トラック幅(TW)を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分404は、NiFe、CoFeなどの材料を包含する。非磁性部分は、アルミナ(Al)、Si、Si(ON)などの材料を包含するか、または単に、部分404の磁性材料がトラック部分402に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。 (もっと読む)


【課題】軟磁性下地層SULと垂直記録層RLとの間の中間層ILを低スパッタ圧で形成すると、RLの凹凸を低減してディスクの耐食性を改善することができる。しかしながら、低スパッタ圧でILを形成すると、ディスクの保磁力が大きく低下するため記録性能が低下する。
【解決手段】垂直磁気記録ディスクは、酸化物を添加された粒状コバルト合金記録層RLと、軟磁性下地層SUL上に形成された交換ブレーク層としての中間層IL、およびILとRLの間に形成された極薄核生成膜(NF: Nucleation film)を有する。同ディスクの作製においては、ILを従来に比べてかなり低スパッタ圧で堆積させ、それによってRLとその上のオーバーコートOCの凹凸度を低減する。NFとRLは、かなり高いスパッタ圧で堆積させる。その結果、良好な記録特性を有し、改善された耐食性を有するディスクが得られる。 (もっと読む)


【課題】面内磁気記録ヘッドで記録可能であり、且つ、熱的に安定であり、しかも、SNRが高い磁気記録媒体を得る。
【解決手段】非磁性支持体12と、該非磁性支持体12の少なくとも一方の面に形成されたシード層14と、該シード層14上に形成された下地層16と、該下地層16上に形成された磁性層18とを有し、磁性層18は、CoPtを主成分とする強磁性体微粒子が酸化物で分離されたグラニュラ構造を有する層であり、酸化物は、酸化ケイ素と酸化クロムの混合物である。酸化ケイ素と酸化クロムの混合比は、9:1〜1:9の範囲である。前記強磁性体微粒子の平均粒子径は、円形換算で6〜10nmφである。 (もっと読む)


【課題】 膜厚と酸化状態の均一性が改善されたトンネルバリア層の形成方法、ならびにそのようなトンネルバリア層を備えたTMRセンサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 TMRセンサのトンネルバリア層28を、下部Mg層25/MgO層26/上部Mg層27という3層積層構造にする。MgO層26は、下部Mg層25の表面を自然酸化させて形成する。このため、膜厚と酸化状態の均一性が改善される。また、上部Mg層27を追加したことで、隣接するフリー層29の酸化を防止できる。AlOX からなるトンネルバリア層を備えた従来のTMRセンサと比べて、低いRA値であっても高いMR比が得られる。 (もっと読む)


【課題】 Co−Zr−Ta系で、高い透磁率を有する磁性膜を製造する。
【解決手段】 まず、基板10上にCo−Zr−Ta系の磁性膜14をスパッタリングにより形成する。基板10は、Siからなる基体11と、基体11の上面に形成されたSi酸化膜12から構成されている。次に、磁性膜14を375℃以下の温度で加熱する。これにより、加熱前に比べて磁性膜14の透磁率を確実に上昇させることができる。磁性膜14を160℃以上350℃以下の温度で加熱すれば、磁性膜14の透磁率を加熱前に比べて十分に高めることができる。 (もっと読む)


【目的】装置改良に技術的な工夫をほとんど必要としない希土類薄膜磁石の製造方法を提供することを目的とする。
【構成】アモルファス薄膜状に作製した希土類化合物を熱処理で結晶化させる段階で磁界をかけながら熱処理(光照射または電気炉を用いたヒーター加熱)を行うことにより、結晶化させることを特徴とする希土類薄膜磁石の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高周波数領域で透磁率が高く、磁気ヒステリシス損失が小さい磁性膜及び該磁性膜を有する磁気デバイスを提供する。
【解決手段】磁性膜は、コバルト及びイリジウムを含有する合金からなる磁性粒子を含有し、コバルト及びイリジウムを含有する合金の磁気異方性定数は、負である。 (もっと読む)


【課題】 記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性層を、短時間で厚く皮膜形成が可能でかつ、錯体の錯化状態が変化せず安定して連続めっきが可能な合金めっき法を用いて形成させることにより、スパイクノイズや軟磁性層ノイズが低減された垂直磁気記録媒体を高生産性で安定して得る。
【解決手段】 アルミニウム板またはアルミニウム合金板に非晶質Ni−P合金めっき層を設けた基板またはガラス基板に、下から順に、Co−Ni−P合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層、Ni−Fe合金とCo−Feの2層からなる軟磁性バッファー層、反強磁性層、下地層、垂直磁気記録層を順次形成せて垂直磁気記録媒体とする。 (もっと読む)


【課題】高記録密度を有する垂直磁気記録媒体の量産を安定して行うためには、軟磁性下地層の特性を劣化させることなく成膜を行う技術が必要である。
【解決手段】基板1上に密着層2を形成し、次に第一軟磁性層31及び第二軟磁性層32をそれぞれ25nm形成し、非磁性層33であるRuを形成し、第三軟磁性層34及び第四軟磁性層35をそれぞれ25nm形成して軟磁性下地層3を作製した。第一軟磁性層31と第二軟磁性層32及び第三軟磁性層34と第四軟磁性層35はそれぞれ強磁性的に結合しており、第二軟磁性層32と第三軟磁性層34はRu非磁性層33を介して反強磁性的に結合している。その後、基板半径方向に磁界を印加しながら冷却を行い、次に、中間層4であるRuを形成し、記録層5を形成し、保護膜6を形成した。 (もっと読む)


【課題】垂直通電型の磁気抵抗素子において、抵抗変化量の大きい磁気抵抗効果素子、及びこれを用いた磁気ヘッド、磁気再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気抵抗効果素子の強磁性層の層中あるいはこれらと非磁性スペーサ層との界面に、酸化物あるいは窒化物からなる極薄の薄膜層を挿入することにより、この薄膜層の近傍における強磁性層のバンド構造を変調させて、電子のスピンフィルタ作用を得ることができる。 その結果として、素子抵抗を上昇させることなく、室温あるいはそれよりも昇温した温度範囲において、MR変化率の高い磁気抵抗効果素子を提供することができる。 (もっと読む)


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