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【課題】グラニュラー構造の磁性層の結晶配向性を改善して、高記録密度化を達成可能な高S/N比の垂直磁気記録媒体を製造すること。
【解決手段】ガラス基板1と、ガラス基板1上に形成された六方晶金属を含む下地層5と、この下地層5上に形成され、六方晶金属を含む柱状の磁性結晶粒子および、酸化物を含み磁性結晶粒子を区画する粒界部を有する磁性層6とを含む垂直磁気記録媒体10の製造方法は、加熱された下地層5の上に磁性層6を成膜することを特徴としている。六方晶下地層が熱処理を受けていることにより、下地層5の垂直配向性が向上しているので、六方晶下地層(0002)面のΔθ50(結晶配向の程度を示す指標)は狭くなり、六方晶下地層の少なくとも六方晶磁性結晶粒子との境界部分についての膜応力を緩和することができ、大きな内部応力の発生を伴うことなく、磁性層6、下地層5を成膜でき、それらの結晶配向性を改善できる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高出力でかつ外部磁界に対する感度が良好な磁気抵抗効果素子、これを用いた磁気ヘッド、磁気記憶装置、および磁気メモリ装置を提供する。
【解決手段】GMR膜30は、下地層31、反強磁性層32、固定磁化積層体33、非磁性金属層37、拡散防止層38、自由磁化層39、保護層40が順次積層された構成からなる。自由磁化層39はMn系ホイスラー合金からなり、拡散防止層38はCoFeAlからなる。CoFeAlの組成は、三元系の組成図において、各組成の座標を(Co含有量,Fe含有量,Al含有量)として表すと、点A(55,10,35)、点B(50,15,35)、点C(50,20,30)、点D(55,25,20)、点E(60,25,15)、点F(70,15,15)として、点A、点B、点C、点D、点E、点F、および点Aをこの順にそれぞれ直線で結んだ領域内に設定されてもよい。 (もっと読む)


【課題】グラニュラー構造の磁気記録層を備えた磁気記録媒体の表面粗さを低くして、低浮上量化および高記録密度化を達成すること。
【解決手段】磁気記録媒体1の非磁性ガラス基板として表面粗さRaが0.3nm以下のものを用い、その上に形成されるグラニュラー構造の磁気記録層5を、CoCrPt合金に、酸化物材料としてギブス自由エネルギーの値が−800kJ/molより大きなTa25を用いた。ギブス自由エネルギーの値に基づき酸化物材料を選択することにより、磁気記録媒体1の表面粗さを非磁性ガラス基板の表面粗さ以下に低減でき、表面粗さRaが0.3nm以下の磁気記録媒体を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】 高S/N比の実現に適した粒径分布を持ち、互いに孤立して一様に分布する磁性粒子を有する垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板の上に、Ruを主成分とする六方最密充填構造の合金、またはRuからなる多結晶の下地層が配置されている。下地層の上に、中間層が配置されている。中間層は、Ruを主成分とする六方最密充填構造の合金、またはRuで形成され、面内に分布する複数の結晶粒で構成されている。結晶粒の各々の上面は、上方に向かって凸状の形状を有する。中間層の上に、磁気記録層が配置されている。磁気記録層内では、磁性材料からなる複数の磁性粒子が面内に分布し、相互に隣り合う磁性粒子同士が、両者の間に配置された非磁性材料からなる非磁性領域によって磁気的に分離されている。 (もっと読む)


【課題】高密度に記録可能で、S/N比が高い磁気記録媒体及びその効率的な製造方法、並びに情報記録再生能に優れた磁気記録再生装置の提供。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、化学合成により作製した磁性ナノ粒子を少なくとも含む分散液を、被加工面上に塗布して磁性膜を形成する磁性膜形成工程と、該磁性膜に対し、磁場中にて熱処理を行う第1熱処理工程と、該第1熱処理工程の後、前記磁性膜上に磁性材料をスパッタ法により堆積させる磁性材料堆積工程と、該磁性材料が堆積された前記磁性膜に対し、非磁場中にて熱処理を行う第2熱処理工程とを、少なくとも含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】書き込みヘッドに高い飽和磁束密度を有する磁気コアを用いてある場合でも、電磁変換特性(特にOW特性)を悪化させることなく、熱揺らぎ問題を解決し、SNRの改善およびPW50の狭小化により、高記録密度を達成する磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板1上に、磁気記録膜3と、軟磁性膜4と保護膜5とが備えられてなる磁気記録媒体であって、磁気記録膜3の保磁力が2500Oe以上であり、かつ軟磁性膜4の膜厚が0.2〜0.5nmの範囲であり、前記軟磁性膜4の飽和磁束密度が1.5T以上であることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。 (もっと読む)


【課題】RTでの熱揺らぎ耐性と高温での書き込みやすさの相克を図れ、記録温度直下での保磁力の温度に対する変化を急峻にでき、低温形成、特定異方性軸配向、グラニュラー化が可能である熱アシスト磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】基板上に、TB<TWの高KAFの下層反強磁性膜300、TW<TCの高KFの記録再生層である上層強磁性膜400を順次積層した交換結合膜を含み、反強磁性体をTB<<TN、TB<TC<TNの関係を満たすよう構成し、TB、及びTB<<TNの特質を利用し、保磁力HC対温度の特性を、TW直下TBの温度で階段状に変化させる〔TW:記録温度、TC:キュリー温度、TN:ネール温度、TB:ブロッキング温度、KF:強磁性体の結晶磁気異方性エネルギー定数、KAF:反強磁性体の結晶磁気異方性エネルギー定数〕。 (もっと読む)


【課題】低抵抗領域(1平方ミクロンあたり1オーム以下の領域)において、巨大な磁気
抵抗比を持つCCP(current confined path: 電流狭窄)−CPP(current perpendicular to plane: 電流が面直に流れる形状)型の巨大磁気抵抗素子、および当該巨大式抵
抗素子を用いた磁気センサを提供する。
【解決手段】CCP−CPP型巨大磁気抵抗素子Aは、反強磁性層1と、磁化固定層3と、中間層7aと、磁化自由層5による積層構造を有し、膜面に対して垂直に電流が流れる構造に形成されている。このとき、中間層7aとして微小孔を有する(001)方位に優先配向した極薄酸化マグネシウム層を使用することにより、磁化自由層5から磁化固定層3(あるいはその反対方向)に流れる電流が微小孔中の金属により狭窄され、電極層の寄生抵抗の影響が相対的に減少するため磁気抵抗比が増大する。 (もっと読む)


本発明は、カソードスプレイングによって堆積された複合アセンブリを基板上に含み、かつ、垂直磁気異方性が大きい材料から作られる磁気層(2)であって、その磁化が、どのような電気的または磁気的な相互作用がない場合でも該層の平面の外部に配置される磁気層(2)と、先の磁気層(2)と直接接触し、スピン分極の比率が高い強磁性材料から作られる磁気層(3)であって、その磁化が、どのような電気的または磁気的な相互作用がない場合でもこの層の平面内に配置され、この層の該磁気層(2)との直接的な磁気結合が、2つの磁気層(2)および(3)を含むアセンブリの有効な消磁磁場の低減を誘起する磁気層(3)と、先の磁気層(3)と直接接触し、デバイスを通過する電子には分極性でない材料から作られる非磁気層(4)と、を含む薄層磁気デバイスに関する。本デバイスは、層の平面に対して実質的に垂直な方向でそれ自体中を電流が通過するようにさせる手段を含む。
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【課題】 高い磁気異方性エネルギーと微細な結晶粒を両立する、高密度磁気記録に適した情報記録媒体及びそれを装着した情報記録装置を提供する。
【解決手段】 本発明による情報記録媒体は、非磁性基板上に、軟磁性材料により形成された軟磁性裏打ち層、Y、Zr、Pd、Ti、Hf、Cr、PtあるいはY、Zr、Pd、Ti、Hf、Cr、Ptを主成分とする合金層で構成された非晶質の下地層上にCoを主成分とする層とPdを主成分とする層を交互に積層する積層膜からなる記録層及び保護層を具備する。 (もっと読む)


【課題】面内方向の磁場に対して等方性の高い応答を示し、かつスイッチ素子として利用可能な薄膜磁気抵抗素子を提供する。また、この素子を用いた実用的な薄膜磁気センサを提供する。
【解決手段】薄膜磁気抵抗素子については、絶縁基板1上に形成された内側軟磁性膜2、外側軟磁性膜3、薄膜磁気抵抗素子4及び必要な配線5を有し、内側軟磁性膜2の外縁部と外側軟磁性膜3の内縁部との間に形成された一定間隔の間隙6内に磁気抵抗効果膜4を形成するという構成にする。薄膜磁気センサについては、この薄膜磁気抵抗素子を可変抵抗とするブリッジ回路を組むという構成にする。外側軟磁性膜3には、半径方向に延びるスリット状の切欠部8を形成することもできる。 (もっと読む)


【課題】高周波領域での透磁率をより効果的に向上させることが可能な薄膜磁気デバイス、を提供する。
【解決手段】磁性膜14のうちの複数のスリット16に挟まれた帯状領域において、磁区14Dh(90°ドメイン)を帯状領域の幅方向(X軸方向)の両端に対配置させつつ、帯状領域の長手方向(Y軸方向)に沿って並んでいるようにする。一対の磁区14Dhに挟まれた磁区14Deにおける反磁場Hdに起因した共鳴周波数frの増加作用が、効果的に促進される。 (もっと読む)


【課題】生産性に優れているとともに、高い記録再生特性を有し、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板1上に、少なくともバリア層2、裏打ち層11、下地膜6、中間膜7及び垂直磁気記録膜8をこの順で有する垂直磁気記録媒体であって、裏打ち層11は少なくとも1以上の軟磁性膜を有しており、該軟磁性膜が、非晶質構造であって飽和磁束密度Bsが1.1(T)以上であるCoAlCr合金あるいはCoFeAlCr合金からなる。 (もっと読む)


【課題】MR素子を構成する各層の面と交差する方向に電流が流されるMR素子におけるMR比を大きくし、且つ特性のばらつきを少なくする。
【解決手段】MR素子5において、固定層23とフリー層25は、それぞれホイスラー合金層332,52を含んでいる。ホイスラー合金層332,52は、それぞれ、互いに反対側を向く2つの四角形の面を有している。また、ホイスラー合金層332,52は、一方の面における4つの辺に接する1つの結晶粒を含んでいる。MR素子5の製造方法では、MR素子5となる積層膜を形成し、この積層膜をパターニングした後、積層膜中のホイスラー合金層となる膜に含まれる結晶粒が成長して、ホイスラー合金層となる膜の一方の面における4つの辺に接する1つの結晶粒が形成されるように、パターニング後の積層膜を熱処理する。 (もっと読む)


【課題】十分に高い強磁性層との交換結合を確保し、磁気抵抗効果ヘッドの歩留まりや信頼性を向上する。
【解決手段】斜め入射法により作製した傾斜結晶粒構造反強磁性膜23を用いることにより、強磁性膜24との高い交換結合磁界が得られる。それを適用した磁気抵抗効果ヘッドは歩留まり、信頼性に優れ、高い出力が得られる。 (もっと読む)


【課題】基板のテクスチャ効果を引き出し、円周方向に高い磁気異方性を持たせ、かつCr系下地層とCo系磁気記録層の格子定数を一致させると共に、2層以上の下地層の格子間隔の歪みに着目することにより、Co系磁気記録層の配向性を向上させる。
【解決手段】ガラス基板1(非磁性基板)上に、Crを主成分とする体心立方構造下地層3と、Coを主成分とする六方最密充填構造の磁性層4(磁気記録層)とがこの順に積層された磁気ディスクであって、体心立方構造下地層3は、ガラス基板1側にMnを含む第1の体心立方構造下地層3a(下部下地層)と、磁性層4側にMo又はTiを含む第2の体心立方構造下地層3b(上部下地層)との積層として構成され、体心立方構造下地層3の(002)面の平均格子面間隔に基いて求められる体心立方構造下地層3の平均格子定数は、第1の体心立方構造下地層3aの格子定数に比べて大きく、かつ、第2の体心立方構造下地層3bの格子定数に比べて小さく構成されている。 (もっと読む)


【課題】MR変化率および信頼性の向上が図れる磁気抵抗効果素子,磁気ヘッド,および磁気ディスク装置を提供する。
【解決手段】磁気抵抗効果素子が,磁化方向が実質的に一方向に固着される磁化固着層と,磁化固着層上に配置され,かつ絶縁層と,この絶縁層を貫通する金属導電体と,を有するスペーサ層と,スペーサ層上に,金属導電体と対向して配置され,かつ磁化方向が外部磁界に対応して変化する磁化自由層と,を具備する。 (もっと読む)


【課題】 高密度記録が可能な磁性ドットを有する磁気記録媒体及びその磁気記録媒体の簡便な製造方法を提供する。
【解決手段】 非磁性基体1上に、少なくとも下地層3、磁気記録層4及び保護層5が順次積層されてなる磁気記録媒体において、下地層3は、Ru又はRuを主成分とする合金からなり、かつその表面に頭頂部が複数のライン状に所定間隔で形成されてなるライン状起伏構造を有しており、磁気記録層4は、少なくとも強磁性を有する結晶粒子と非磁性成分を含み、磁気記録層4中の粒径4nm以上の結晶粒子からなる磁性ドット4−1が頭頂部のラインに沿って下地層3の表面上に配列し、かつ磁性ドット4−1の各々は非磁性成分4−2で隔てられている。 (もっと読む)


【課題】 めっきにより磁性膜を形成して磁極とする場合に、めっき膜の析出レートを安定化させ、磁極の形成精度のばらつきを抑え、軟磁気特性にすぐれた磁極を形成し、高密度記録が可能な磁気ヘッドとして提供する。
【解決手段】 Ruからなるめっきシード層22をめっき給電層として電解めっきにより磁性膜26を形成することにより、ライトヘッドの磁極を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記Ruからなるめっきシード層22を形成した後、めっきシード層22の表面に、めっき膜の析出レートを安定化させるキャップ層30を形成する工程と、前記めっきシード層22とキャップ層30をめっき給電層として前記磁性膜を形成する工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高密度記録が可能であると共に、生産歩留まりの低下を回避し、さらには磁気記憶装置の信頼性を向上可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板11と、基板11上に、軟磁性裏打ち層12、シード層13、下地層14、記録層15、保護膜16、および潤滑層18を順次積層した構成とし、下地層14は、RuまたはRu合金からなる複数の結晶粒子14aからなり、結晶粒子14a同士を互い離隔する空隙部14bを介して基板面内方向に配置され、記録層15は下地層14の結晶粒子14a上に堆積した複数の磁性粒子15aからなり、磁性粒子15a同士を互い離隔する空隙部15bを介して基板面内方向に配置される。記録層15の磁性粒子15aは、下地層14の結晶粒子14a上に成長した構成を有する。 (もっと読む)


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