説明

Fターム[5E346EE31]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層形成の方法 (8,890) | ビルドアップ型のもの (1,842)

Fターム[5E346EE31]の下位に属するFターム

Fターム[5E346EE31]に分類される特許

61 - 80 / 788


【課題】回路の損傷なしに、特定面にだけ凹凸を有する回路パターンを樹脂絶縁層内に転写して埋め込めるための回路転写用キャリア部材、これを用いたコアレスプリント基板、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア層の一面に、バリア層と、外側上端にだけ凹凸が形成されている回路パターンとを有するように構成された回路転写用キャリア部材を利用して回路パターンを樹脂絶縁層に転写して埋め込めることで、高密度、高信頼度のコアレスプリント基板を製作する。 (もっと読む)


【課題】接続バンプが狭小化された半導体チップであっても信頼性よく実装できる配線基板を提供する。
【解決手段】ガラス又はシリコンからなり、下面に開口した第1ホールH1と上面に開口した第2ホールH2とが連通してなるスルーホールTHを備えた基板層10と、第1ホールH1に形成された配線層20と、第2ホールH2に形成されて配線層20に接続された接続パッドPと、基板層10の下面に形成された絶縁層30及び他の配線層22とを含む。 (もっと読む)


【課題】樹脂絶縁層にクラックが発生しにくくて信頼性に優れた多層配線基板。
【解決手段】多層配線基板は、基板本体、内層配線パターン28、下層側樹脂絶縁層16、上層側樹脂絶縁層30を備える。内層配線パターン28は基板本体の面方向に沿って延びている。下層側樹脂絶縁層16は、内層配線パターン28の底面44側に接する。上層側樹脂絶縁層30は、下層側樹脂絶縁層16に隣接しかつ内層配線パターン28の上面43側に接する。内層配線パターン28は、下層側樹脂絶縁層16及び上層側樹脂絶縁層30の両方に対して埋まっている。内層配線パターン28の積層方向切断面における最大幅部位54が、パターン上端51とパターン下端52との間の位置に配置されている。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板に形成されるビア等の接続孔におけるめっき不良を抑止でき、接続信頼性を向上させることが可能なプリント配線板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板100は、異なるテーパ角を有する内壁部で構成されたビアホール20(貫通孔)を有する熱硬化性樹脂シート16(絶縁層)と、その熱硬化性樹脂シート16上に設けられた銅箔17(導体層)と、ビアホール20から露呈するように設けられており、かつ、ビアホール20を介して銅箔17と電気的に接続された配線パターン13(配線層)とを備えるものである。 (もっと読む)


【課題】電源インピーダンスを低くすることや、インピーダンスマッチングをとることが容易な無機材料を用いた配線基板、及び前記配線基板上に半導体チップを搭載した半導体パッケージを提供すること。
【解決手段】本配線基板は、無機材料からなる基板本体と、前記基板本体を厚さ方向に貫通する平板状の第1電極と、前記基板本体を厚さ方向に貫通する平板状の第2電極と、を有し、前記第1電極と前記第2電極とは所定の間隔を隔てて対向し、前記第1電極と前記第2電極との間には、前記基板本体を前記厚さ方向に貫通する信号電極が設けられ、前記第1電極と前記第2電極の何れか一方はグランド電極であり、他方は電源電極である。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性が高く、狭ピッチの接続端子を形成可能な配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板1は、無機材料からなる基板本体11に形成された配線パターン12と、前記配線パターンと電気的に接続され、半導体チップが搭載される外部接続端子15と、を備えた無機基板10と、絶縁層31、33、35と配線層32、34、36が積層された有機基板30と、熱膨張係数が前記無機基板よりも大きく前記有機基板よりも小さい材料からなる応力緩和層21と、前記応力緩和層を貫通する貫通配線22と、を備えた接合層20と、を有し、前記無機基板は、前記有機基板上に前記接合層を介して積層され、前記無機基板の配線パターンと前記有機基板の配線層とは、前記貫通配線を介して電気的に接続されている。 (もっと読む)


【課題】接続端子の狭ピッチ化を図ることのできる配線基板及びその製造方法、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】配線基板11の表面となる第1の主面と、前記第1の主面とは反対側に位置する第2の主面とを備えた第1の絶縁層14と、前記第1の絶縁層を前記第1の主面側から前記第2の主面側に貫通して設けられた開口部14Aと、前記開口部内から前記開口部の壁面を経由して前記第2の主面上に延出して設けられ、一体に形成された導体層と、前記導体層を被覆して前記第2の主面に設けられた第2の絶縁層21と、前記第2の絶縁層に設けられたビア24と、を有し、前記開口部内に設けられた前記導体層の、前記第1の主面に露出する部分が、接続端子15となり、前記導体層の、前記開口部の壁面を経由して前記第2の主面上に延出して設けられた部分が、配線パターン16となり、前記ビアが、前記第2の主面上に延出した前記配線パターンに接続されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、絶縁層の密着性に優れたプリント配線基板およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板と、絶縁基板上に配置される金属配線と、金属配線上に配置される絶縁層とを備えるプリント配線基板であって、金属配線と絶縁層との界面に式(1)で表される官能基を4つ以上有するチオール化合物の層が介在する、プリント配線基板。


(式(1)中、*は結合位置を表す。) (もっと読む)


【課題】コア基板の収容部内に内蔵部品を収容する際、複雑な加工を行うことなく内蔵部品の正確な位置決めが可能な部品内蔵配線基板を提供する。
【解決手段】部品内蔵配線基板10は、コア基板11と、コア基板11を貫通する収容部21と、収容部21に収容された内蔵部品50と、コア基板11の上下に積層形成した配線積層部12、13とを備えている。収容部21は、平面視で方向が異なる第1及び第2の内壁面を含むコア基板11の内壁面20によって画定され、内蔵部品50は、第1及び第2の内壁面のそれぞれと部分的に接した状態で収容部21に収容され、内壁面20と内蔵部品50との間隙部において内蔵部品50が第1及び第2の内壁面と接していない領域に樹脂充填材Fが充填されている (もっと読む)


【課題】コア基板およびビルドアップ層を備え、これらをその厚み方向に沿って断面ほぼ真円形で貫通する光導波路を備えた光導波路付き配線基板、および該配線基板を確実に製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁材からなり、表面3および裏面4を有するコア基板2と、該コア基板2の表面3および裏面に形成され、複数の絶縁層r1〜r6,s1,s2およびこれらの間に位置する配線層14〜21を含むビルドアップ層u1,u2と、上記コア基板2およびビルドアップ層u1,u2を厚み方向に沿って貫通し、クラッド11およびコア12からなる光導波路Lと、を備え、該光導波路Lは、上記コア基板2内に形成され、該コア基板2よりも被削性に優れた穴埋め材9を貫通している、光導波路付き配線基板1。 (もっと読む)


【課題】めっきの密着力に優れ、信頼性に優れる多層プリント配線板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】第1の絶縁層1、第1の導体層2a,2b,2c、脂環式オレフィン重合体を含有する第2の絶縁層3、及び、第2の導体層4a,4b,4c、がこの順に積層され、第1と第2の導体層を電気的に接続するビアホール5を有する多層プリント配線板の製造方法であって、第2の絶縁層に、ビアホール用開口を形成する工程、ビアホール用開口を含む第2の絶縁層表面に、アルカリ水溶液と有機溶剤とをそれぞれ接触させる工程、酸化剤水溶液を接触させる工程、ビアホール用開口表面を含む第2の絶縁層表面を、中和還元処理する工程、中和還元処理後に、アルカリ水溶液を接触させる工程、ビアホール用開口表面を含む第2の絶縁層表面に、めっき法により導体薄膜を形成する工程を含む、多層プリント配線板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】デスミア処理を行っても被めっき層が残存し、その表面の平滑性が維持されると共に、被めっき層上に形成される金属層の密着性が優れる多層基板を製造することができる、多層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】導電層付き基板の導電層側の表面に、熱、酸または輻射線により疎水性から親水性に変化する官能基を有する被めっき層を形成する工程(A)と、被めっき層を貫通し、導電層に達するようにビアホールを形成する工程(B)とデスミア処理液を用いたデスミア処理を行う工程(C)と、加熱、酸の供給または輻射線の照射を行い、官能基を疎水性から親水性に変換する工程(D)と、被めっき層にめっき触媒またはその前駆体を付与する工程(E)と、めっき触媒またはその前駆体が付与された被めっき層に対してめっき処理を行う工程(F)と、を有する多層基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】内蔵部品をビア導体を介して電気的に接続する際の接続信頼性を高めることが可能な部品内蔵配線基板を提供する。
【解決手段】本発明の部品内蔵配線基板10は、コア基板11に内蔵された板状の部品70と、絶縁層と導体層とが交互に積層されたビルドアップ層12(13)を備えている。部品70は、その両端部に側面部及び主面部を有する端子電極が形成され、主面部の側の絶縁層20(21)には、端子電極の側面部及び主面部と接続されるビア導体60(61)が形成されている。ビア導体60は、下方の端子電極に近接するほどビア径が小さくなるテーパ状に形成され、端子電極の表面部との接続箇所におけるビア径が端子電極の主面部の長さよりも大きい。これにより、ビア導体60と部品70の端子電極との接続面積を拡大し、かつ位置ずれに対する許容度を高めることで、接続信頼性が向上する。 (もっと読む)


【課題】内層回路パターン部の不良時に、不良の該内層回路パターン部を有する印刷回路基板ユニットなどの廃棄に伴う製品の損失を防止し、生産性を向上させると共に製造費用を節減する。
【解決手段】複数の内層回路パターン部111を有する印刷回路基板ユニット110が複数にアレイされたワーキングパネル100を準備し、複数の内層回路パターン部111の中で不良の内層回路パターン部111aを取り除き、不良の該内層回路パターン部111aが除去された箇所に、良品の内層回路パターン部111bを使用し、印刷回路基板ユニット110に外層回路パターン部を形成する。 (もっと読む)


【課題】
1枚の集合配線基板から同時に製造できる電子部品の数量減少を防ぎ、もって作業効率低下やコスト増といった問題を解決することができるとともに、平坦な配線基板に半導体素子が搭載され、他の回路基板に良好に実装することが可能な電子装置を安定して供給することが可能な集合配線基板を提供すること。
【解決手段】
半導体素子15が搭載される搭載部8を上面中央部に有する複数の配線基板10と、前記搭載部8を囲繞する大きさの複数の貫通口24を有するフレーム20とを備え、前記配線基板10の上面周端部と前記フレーム20の前記貫通口24周辺部とを、前記搭載部8を前記貫通口24から露出させるように接合して成ることを特徴とする集合配線基板30。 (もっと読む)


【課題】 基板の補強材にガラスクロスを用いた場合、マイグレーションの発生に伴う電気的特性の悪化を招き、また、キャビティ形成時にガラスクロスの切断加工が必要で製造コストのアップを招く。
【解決手段】 複合多層基板20は、金属製材料からなる平板状のコア部材21と、コア部材21の表面と裏面を覆う表面側樹脂層22および裏面側樹脂層23と、表面側樹脂層22および裏面側樹脂層23のいずれか一方又は双方に形成された電極(第1及び第2の電極)と、コア部材21の表裏を貫通して形成された無底穴24または有底穴と、無底穴24または有底穴に実装する電子部品25とを備え、電子部品25に対する電気的接続を第1の電極を介して行うようにし、コア部材に対する電気的接続を第2の電極を介して行うようにしたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】接続信頼性に優れる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面及び裏面を有し、表面に半導体チップSが実装される配線基板1の製造方法であって、導体層21,22,31,32,131,132及び樹脂絶縁層33,34,133,134をそれぞれ1層以上積層し、表面側及び裏面側の表層にそれぞれ少なくとも1以上の接続端子T1,T11を有するビルドアップ層3,13を形成する工程と、表面側のビルドアップ層34,134上にフィルム状の第1のソルダーレジストを積層して第1のソルダーレジスト層4を形成し、裏面側のビルドアップ層上に第1のソルダーレジスト層4よりも厚みの厚いフィルム状の第2のソルダーレジストを積層して第2のソルダーレジスト層14を形成する工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】 多配線への対応及び電源強化を図りながら歩留まりが下がらない半導体実装部材を提供する。
【解決手段】 半導体実装部材100を第2基板110と第1基板10との2つのプリント配線板で構成するため、多配線への対応及び電源強化の目的で、1枚のビルドアップ基板の層数を増やしサイズを大きくするのと比較し、歩留まりが低下しない。第1基板10と第2基板110との間に支持体188が介在するので、第1基板10と第2基板110との間にアンダーフィルを充填させる必要が無い。 (もっと読む)


【課題】平滑な樹脂面であっても回路を形成する金属層との接着力を向上させることが可能で反りの発生が低減されたコアレス多層配線板の製法及びコアレス多層配線板。
【解決手段】コア基板作製工程、コア基板の両接着層X上に、接着層A1と絶縁樹脂層とからなる絶縁フィルムの絶縁樹脂層を貼り合わせ、硬化処理を施し積層する工程、それぞれの面をセミアディティブ法により回路形成する工程、各接着層A1に接着層A2と絶縁樹脂層とからなる絶縁フィルムを貼り合わせ、硬化積層する工程と、各接着層A2にビアホールを形成する工程、各接着層A2上に同時に又は逐次にセミアディティブ法により回路形成する工程、を経た後、コア基板の銅箔を接着層Xから剥離し、剥離後の接着層Xにビアホールを形成するビアホール形成工程、接着層X上にセミアディティブ法により回路形成する工程を含むコアレス多層配線板の製法及びコアレス多層配線板。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電気的信頼性を改善した配線基板およびその実装構造体を提供することによって上記要求を解決する。
【解決手段】本発明の一形態にかかる配線基板3は、第1ネック構造13aを介して互いに接続した、酸化ケイ素を含む複数の第1無機絶縁粒子14aと、該第1無機絶縁粒子14a同士の間に配された、シロキサン結合を骨格とする樹脂を含む樹脂部材15とを有する絶縁層を備える。また、本発明の一形態にかかる実装構造体1は、上記配線基板3と、該配線基板3に実装された電子部品2とを備える。 (もっと読む)


61 - 80 / 788