【課題】処理動作のタクトタイムを短縮することができ、且つ、ノズルのメンテナンス処理に起因する被処理基板の汚染を防止する。
【解決手段】被処理基板Ｇの幅方向に延びる吐出口を有し、前記処理ステージ上の前記基板の上方を基板搬送方向に沿って移動されると共に、前記吐出口から前記基板上に処理液を吐出するノズル３１と、前記ノズルを昇降移動可能であって、前記ノズルを基板搬送方向上流側または下流側に向けて移動可能なノズル移動手段３２と、基板搬送路４の下方に設けられ、前記ノズルの吐出口の状態を整えるノズルメンテナンス手段３５と、前記基板搬送路において前記処理ステージの上流側または下流側に所定長さの空き区間ｄを出没自在に形成可能な空き区間形成手段２１，２２，２３Ａ、２３Ｂ、３０とを備える。 （もっと読む）

【課題】空間を分離する際のシール性及びメンテナンス性に優れた駆動装置を提供する。
【解決手段】同軸上に２つの回転軸（外側出力軸１５０及び内側出力軸２５０）を有する駆動装置８０において、本体ケース３００と外側出力軸１５０との間に真空シール１７０を配置し、更に、外側出力軸１５０と内側出力軸２５０との間に真空シール２７０を配置することで、駆動装置８０の本体ケース３００内の空間と、本体ケース３００外の空間とを分離する。これにより、駆動装置８０を減圧環境下で用いる場合であっても、駆動装置８０の本体ケース３００内の空間（大気圧環境側）と減圧環境側の空間とを分離することができるので、駆動装置８０の減圧環境下での使用が可能となる。 （もっと読む）

【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）

【課題】基板処理装置を構成する搬送機構が有する基板支持具の設計動作及び検出動作をシミュレートした動画像を生成することにより、基板支持具の異常動作に関する原因判定材料を提供可能な動画像生成装置、動画像生成方法及び動画像生成システムを提供する。
【解決手段】動作データ生成部２１ｂは、受け付けた基板支持具に関する動作の履歴情報２Ｄに基づいて、基板支持具の検出動作データ４Ｄを生成する。抽出部２１ａは、基板処理装置に係るＣＡＤデータ１Ｄから基板支持具の形状データ５Ｄと設計動作データ６Ｄとを抽出する。動画像生成装置は、抽出した基板支持具の形状データ５Ｄ及び設計動作データ６Ｄ並びに生成した基板支持具の検出動作データ４Ｄに基づいて、基板支持具の設計動作と検出動作とをシミュレートした動画像を生成する動画像生成部２１ｅを備えている。 （もっと読む）

【課題】弁体を洗浄する際に基板処理システムを実質的に停止させる必要を無くすことができる弁体を提供する。
【解決手段】基板処理システムは、基板Ｓにドライエッチング処理を施すプロセスチャンバ１３と、基板Ｓを搬送するトランスファチャンバ１１とを備え、プロセスチャンバ１３及びトランスファチャンバ１１を連通する連通口１９ａを開放又は遮断する弁体２２は、移動可能な本体２３と、本体２３から取り外し可能に構成され、弁体２２が連通口１９ａを遮断する際、連通口１９ａを介してプロセスチャンバ１３と対向する対向部材４０から構成されるカバー部材２４とを備え、弁体２２が連通口１９ａを遮断する際、連通口１９ａを介してプロセスチャンバ１３側から弁体２２を眺めたとき、連通口１９ａ内において対向部材４０の全てを視認することができる。 （もっと読む）

【課題】貼り合わせ装置では、基板ホルダに付着する塵埃及び基板ホルダに加えられる熱、圧力等により、基板ホルダ及び基板ホルダに備えられた部品が劣化することが考えられる。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダの予め定められた指標の状態を取得する指標取得部と、状態が予め設定されたメンテナンス条件と合致するか否かを解析する解析部と、メンテナンス条件と状態が合致すると解析されたときに、メンテナンスを促す警告を行う警告部とを備える基板ホルダメンテナンス装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 回転機構を持たない基板処理装置であっても、基板と接触する部位を清掃することができる基板処理装置の清掃装置を提供する。
【解決手段】 清掃装置２は、処理されるウエハＷと同じ外形のベース４００と、ベース４００の下面の周縁部に下向きに植設された清掃具であるブラシ４０２と、ブラシ４０２を動かす駆動源の振動発生装置４０４とからなり、ハンド１１上で清掃装置２の振動発生装置４０４が振動してブラシ４０２が振動し、ハンド１１のウエハ支持部材８１の支持面８６ａを清掃する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された動力源から有効に放熱をすることが可能な回転駆動装置を提供すること
【解決手段】本発明の回転駆動装置は、隔壁と、駆動ユニットと、支持体とを具備する。隔壁は、搬送機構が収容されるチャンバに固定され、チャンバに導通する真空室を画成する。駆動ユニットは、真空室に収容され、搬送機構を駆動する。支持体は、上記真空室の外部に臨む放熱面を有し、上記隔壁に固定され上記駆動ユニットを支持する。
この構成により、真空室に収容された駆動ユニットにおいて発生する熱は、支持体に伝導し、放熱面から大気中に放熱される。このため、駆動ユニットにおいて発生する熱を有効に放熱させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板を保持するキャリアのクリーニングを行わなわずとも、高品質な被膜を基板に対して成膜することが可能であり、かつ、効率的な成膜を可能とする成膜装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗがキャリア２１からヒータ（アノードユニット）９０に移載された後、キャリアは成膜室１１から搬出される。基板をヒータに渡した後のキャリアは、成膜中は、仕込・取出室内で待機すればよい。この後、成膜室と仕込・取出室とを隔てるドアバルブを閉状態にする。 （もっと読む）

【課題】 表面処理装置において、搬入、搬出手段の選択の自由度を高められるようにする。
【解決手段】
表面処理装置３は、上側構造部１０と下側構造部２０とを備えている。下側構造部２０は昇降機構３０により、上側構造部１０に当接し上側構造部１０と協働して密封された処理室を形成する閉じ位置と、上側構造部１０から離間した開き位置との間で昇降され、この昇降に際して、垂直の複数のガイドシャフト４１，４２により案内される。下側構造部１０が開き位置にある時、構造部１０，２０間の搬入・搬出空間Ｓは、３方向にわたって連続した開口１００を有している。この連続開口１００に対応する位置に配置された第１のガイドシャフト４１は第２ガイドシャフト４２より短く、その上端が上側構造部１０から離れている。上側構造部１０は、第２ガイドシャフト４２の上端部に支持されるとともに、連続開口１００を横切らない支持機構５０により支持される。 （もっと読む）

【課題】転動部材が隣接する転動部材に乗り上がってしまうことを防止することができる自公転機構を備えた気相成長装置を提供する。
【解決手段】加熱手段によって加熱されるとともに駆動手段によって回転するサセプタ１１に、該サセプタの周方向に複数の基板保持部材２１を転動部材（ボール２２，２３）を介して回転可能に設け、前記サセプタの回転に伴って前記基板保持部材を回転させ、該基板保持部材に保持された基板１２をサセプタの回転軸に対して公転させながら自転させる自公転構造を備えた気相成長装置において、前記転動部材として、径が異なる転動部材（大径ボール２２及び小径ボール２３）を交互に配置する。 （もっと読む）

【課題】可動範囲が広く、位置決め精度やメンテナンス性に優れた搬送アーム装置を提供する。
【解決手段】基台２上に基部１１１を枢設された第１アーム１１と、その先端部１１２に基部１２１を枢設された第２アーム１２と、その先端部１２２に基部１３１を枢設されたハンド部１３と、第１アーム回動手段６と、第２アーム回動手段７とを有し、基台２に対する第１アーム１１および第２アーム１２の角度をそれぞれ変化させることでハンド部１３の基部１３１を所定の位置に移動させる搬送アーム装置１であって、第２アーム回動手段７が、基台２上に枢設され第１アーム１１と同一の回動中心１１４を有する回動部材１４と、回動部材１４と第２アーム１２とを連結する連結手段２０とを備えており、基台２に対して回動部材１４および第２アーム１２が同一方向に同一角度連動して回動するように構成した。 （もっと読む）

【課題】互いに仕切られ、積層された基板搬送領域にて気流の滞留を防ぐと共に各搬送領域のメンテナンス作業を容易に行うことができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】
積層された第１の基板搬送領域及び第２の基板搬送領域を仕切る仕切り位置に設けられ、内部に気体拡散室を備える仕切り板と、基板搬送領域の幅方向中央部から周縁部に寄った位置にて、前記仕切り板に前記気体拡散室に連通する清浄気体供給口に気体を供給する気体供給路と、前記気体供給路に設けられ、前記清浄気体供給口に供給する気体を清浄化するためのフィルタと、仕切り板の下面に形成され、気体拡散室にて拡散した気体を基板搬送領域に吐出するための多数の吐出口と、を備え、仕切り板は、メンテナンス時に第２の基板搬送領域から第１の基板搬送領域が見通せる開放状態とするために前記仕切り位置から退避できるように装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】露光装置の生産効率を落とさない塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】塗布膜が形成された、露光前の基板を一旦仮置きする仮置き部と、基板の搬送経路における、基板が置かれるモジュールについてメンテナンスを行うために、当該上流側の基板の搬送を停止する時間の長さを設定するための停止時間設定部と、前記仮置き部に置かれた基板の枚数が前記停止時間の長さに応じた、前記処理ブロックによる基板の処理枚数に達したか否かを監視し、達した後に仮置き部の上流側の基板の搬送を停止するように制御信号を出力する制御部と、を備えるように塗布、現像装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】ダミーウェハを適切に使用することで生産処理とダミー処理とを効率よく実行する基板処理装置を提供する。
【解決手段】ダミー基板と製品基板とを含む基板に処理を施す複数の処理室と、前記各処理室へ基板を基板保持部に保持して搬送する第一搬送手段を備えた第一搬送室と、大気圧状態で基板を搬送する第二搬送手段を備えた第二搬送室と、前記第一搬送室と前記第二搬送室を連結する減圧可能な予備室と、前記搬送室と前記予備室に対して設けられる排気手段と、複数の基板が収納された基板収納手段と前記処理室との間の前記第一搬送手段および前記第二搬送手段の搬送を制御する制御手段とを設けた基板処理装置である。前記制御手段は、複数のダミー基板の使用状態を個別に管理し、ダミー基板の使用状態が予め定められた使用状態に達したか否かを判定する。 （もっと読む）

【課題】貫通穴内にリフトピンが設けられたサセプタが配置された基板処理室内を腐食性物質でクリーニングしても、リフトピンとリフトピン挿通用穴部との間の摺動抵抗が著しく増大するという事態が発生しない基板処理装置、該基板処理装置の基板処理室のクリーニング方法、および当該基板処理装置を用いた電気光学装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置４００および基板処理室４１０のクリーニング方法では、基板１０ｓが無い状態でリフトピン４４０を下降させ、リフトピン挿通用穴部４３３をリフトピン４４０の頭部４４３によって塞いだ状態で、基板処理室４１０の内部にフッ素ラジカルを発生させる。この状態で、リフトピン挿通用穴部４３３のピン受け部４３５と頭部４４３とが全周で接する。ピン受け部４３５は平坦面になっているのに対して、頭部４４３の下面４４４には凹部４４６（環状凹部４４６ａ）が形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送機構の搬送先の位置調整を単純な構成で低コストにできる基板処理装置の調整方法を提供する。
【解決手段】
調整工程においては、ピン75に代えて、治具100を使用する。治具100は、取付穴72ａにはめ込むことが可能な直径６ｍｍの円筒形の胴部101と、その胴部101と同軸に形成された直径８ｍｍの円筒形の頭部102とからなる。ウエハＷがサセプタ72上に載置されるべき正しい位置から外れて載置されたときにはそのウエハＷと治具100が接触するので、オペレータはハンドＨがウエハＷを治具100に接触せずに載置できるように、ハンドＨの位置等を調整する。 （もっと読む）

【課題】 大型化によって重量が増加したドアに対して、ドア駆動時に発生するモーメントに抗し得る構造を有するロードポート装置を提供する。
【解決手段】 ロードポートの取付け面に対して垂直に突出して該取付け面に対して平行に延在する一対の長方形状のメインベースを連結シャフトにて結合し、該取付け面と面にて密着可能なＩ形プレートによりこの構造体を該取付け面に固定する。ドア駆動機構及び載置テーブル等の機構は、この構造体における一対のメインベースの内側に配置する。 （もっと読む）

【課題】開閉蓋の不用意な落下を防止し、作業性よく開閉操作することが可能な真空処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係る真空処理装置は、操作部２７に入力された回転操作力の伝達を規制する第１の状態と規制を解除する第２の状態とを互いに切り替える規制機構２９を具備している。この規制機構２９により、第１の方向Ｑへの回転操作力は規制されず蓋の回動軸に伝達され蓋が重力に抗する方向に開けられる。第２の方向Ｒへの回転操作力は規制されて回動軸に伝達され蓋が閉じられる。従って規制機構による回転操作力の規制を適宜設定することで、自重により蓋が不用意に落下することを防止することができる。第１の方向Ｑの回転操作力は規制されないので、重力に抗する方向に蓋を開けるために必要な回転操作力が大きくなることはない。この結果作業性よく開口部の開閉操作をすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】真空搬送室に、基板を処理するための複数の処理室を接続した基板処理装置において、装置の大型化を抑え、フットプリントの増大を抑制する技術を提供すること。
【解決手段】真空雰囲気に維持された真空搬送室１３の周囲に、基板に対して真空処理が行なわれる複数の処理室３０を設ける。前記処理室３０は容器本体３１の上部開口を蓋体３２で開閉するように構成されている。蓋体開閉機構６を、複数の処理室３０の各々の蓋体３２の開閉位置を通りながら前記真空搬送室１３の外周に沿って移動するように設ける。前記蓋体３２には被保持部５が設けられており、蓋体開閉機構６に設けられた蓋体保持機構７を前記開閉位置にて上昇させることにより、処理室３０から蓋体３２を持ち上げる。 （もっと読む）