【課題】シート状体へのレジスト液塗布時の飛散による問題を解決した搬送具を提供する。
【解決手段】シート状体１１を載置するための針状の複数の支持体１２と、その基部を固定するベース部１３とから構成する。ベース部１３は三角錐状の支持体受け部１４を有する。針状の支持体１２は、尖端がほぼ一線をなすように、かつ適宜間隔及び適宜配置で直立させて設ける。支持体受け部１４は、シート状体１１への塗布物が付着しにくいポリテトラフルオロエチレン等の樹脂製とする。塗布物（例えばレジスト）が飛散しても拭い取りやすい。ベース部１３の皿状の受け基部１５の隅部に、シート状体１１に塗布されずに支持体受け部１４上に落ちた塗布物を外へ引き出すための真空引き口１６を備える。レジスト等の塗布物は、針状の支持体１２、特にその尖端には付着、再付着しにくく、良好な搬送状態を実現できる。 （もっと読む）

【課題】清浄な表面処理を実行可能な基板処理システムおよび基板処理方法を提供する。
【解決手段】搬送ロボット室１１、第１ロードロック室２１、予熱チャンバ３１、処理チャンバ４１、冷却チャンバ５１および第２ロードロック室６１のいずれにおいても、その内部圧力が大気圧以上に調整される。また、予熱チャンバ３１内の圧力が搬送ロボット室１１内の圧力よりも低くなるように圧力調整が実行される。したがって、プリベーク処理時に発生した酸素や水分などが予熱チャンバ３１から搬送ロボット室１１に流入するのを効果的に防止することができ、プリベーク処理後の基板Ｗに対する酸素や水分の再付着が抑制される。その結果、酸素や水分が処理チャンバ４１に入り込むのを抑制することができ、各電子ビームキュアユニット４Ａ、４Ｂにおいて清浄なキュア処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の汚染を抑制しつつ、基板を長時間保管する。
【解決手段】保管装置３は、複数のウェハＷを上下方向に多段に収容し、内部を密閉可能な収容容器１１０を有している。収容容器１１０内には、複数のウェハＷの上方を覆うように拡散板１２０が設けられている。拡散板１２０には、当該拡散板１２０を厚み方向に貫通する貫通孔１２１が複数形成され、拡散板１２０は、給気口１３０から供給された不活性ガスを水平面内で均一に拡散させることができる。流路Ｒにおける収容容器１１０の下面には、給気領域Ａ１に不活性ガスを供給する給気口１３０が形成されている。排気領域Ａ３における収容容器１１０の下面には、排気領域Ａ３から収容容器１１０内の雰囲気を排気する排気口１３２が形成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置内の汚染を低減するとともに、スループットの向上を可能とする、レジスト塗布現像装置とＥＵＶ露光装置との間に好適なインターフェイス装置及び基板搬送方法を提供する。
【解決手段】インターフェイス装置３０は、開閉可能な第１搬送口１Ｖ３を通して露光装置との間で基板を受け渡す減圧可能な第１搬送室１ｂ；第２搬送口４Ｖ１を通して第１搬送室１ｂとの間で基板を受け渡し、第３搬送口４Ｖ１３を通して塗布現像装置２０との間で基板を受け渡す複数のロードロック室４ａ〜４ｄ；第４搬送口１Ｖ１を通して第１搬送室１との間で基板を受け渡す、第２搬送室１ａ；第２搬送室１ａと連通する第５搬送口を通して基板を受け渡す、基板を加熱する複数の加熱モジュール２ａ〜２ｃ；第２搬送室１ａと連通する第６搬送口を通して基板を受け渡す、基板を冷却する複数の冷却モジュール３ａ〜３ｃを含む。 （もっと読む）

【課題】 リフトピンによる被加工物の段階的な離脱の際に、被加工物が撓み、最後に離脱する被加工物の内周部は、最初に離脱する外周部よりも、吸着面の凸部の頂面との接触時間および摺動時間が長く、パーティクルを多く発生するという問題点があった。
【解決手段】 静電チャック１は、板状セラミック体２の一方の主面または内部に静電吸着用電極３を備えて他方の主面をウエハを吸着保持する吸着面２ａとし、吸着面２ａに多数の凸部６を有する静電チャック１において、凸部６は頂面８と周面１０との間がＲ面９であり、Ｒ面９の曲率が吸着面２ａの外周部の領域よりも内側の領域で大きい。 （もっと読む）

【課題】基板移送装置を提供する。
【解決手段】地面に対して平行に配される基板の少なくとも一領域を把持して、基板を強制に移送させる把持移送ユニットと、把持移送ユニットに隣接して配されて、基板を移送可能に支持する補助移送ユニットと、を含むことを特徴とする基板移送装置。本発明によれば、ノイズ発生及びパーティクルの発生を減らし、従来より効率的な構造で製作することができ、また基板に対する高速移送が可能である。 （もっと読む）

【課題】 ウェハの除電を効率よく行うことができ、基板電流をより正確かつ精密に測定可能なウェハ除電方法を提供する。
【解決手段】 本発明のウェハの除電方法は、電子ビーム照射によりウェハＷＥＨに流れる基板電流を真空中の試料室内で測定する前に、Ｘ線イオナイザー１’を用いて軟Ｘ線を気流存在の条件下で、ウェハＷＥＨに向けて照射して、ウェハＷEＨに帯電している電子を除電する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハを横にして床面に水平状態で搬送する場合の弊害である、半導体ウエハへのパーティクル付着や半導体ウエハの割れ等による歩留まり等の低下を阻止すること、並びに占有床面積の小さな縦型半導体ウエハ製造装置に最適な半導体ウエハの搬送機構と搬送方法を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の半導体ウエハ５の搬送機構１は、円弧状の第１のアーム２と、先端部の両側面部が円弧状で全体が棒状の第２のアーム６と、第１のアーム２の円弧と同一円周上に載置されたカセット４からなり、第１のアーム２が回転することによりカセット４内の半導体ウエハ５をカセット４の上部に押し出し、逆方向に回転する第２のアーム６と共に、半導体ウエハ５を床面５０に垂直状態に支持し、その後、両アームが第１のアーム２の回転方向に回転し、回転軸７の上部の停止位置１９まで半導体ウエハ５を搬送し、また逆方向の搬送を行う。 （もっと読む）

【課題】フローティングユニットを用いて基板をフローティング状態に維持したままで基板の洗浄工程を行うことによって、基板の垂れによる破損を防止することができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】本発明の洗浄装置は、基板にプラズマを照射して基板上の異物を除去するプラズマ照射部、基板上に残っている異物を除去する異物洗浄部、基板を洗浄する仕上げ洗浄部、基板を乾燥させる乾燥部と、基板をアンローディングする基板アンローディング部を備え、プラズマ照射部には、プラズマを照射するプラズマ照射ユニット及び基板をフローティング状態に維持させるフローティングユニットを含む。 （もっと読む）

【課題】被処理基板が処理されるべき基板処理容器のチャンバーの容積を小さくすることができ、また、被処理基板の搬送にかかる時間が長くなってしまうことを防止できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、被処理基板Ｗが収容されるチャンバー３０ａを内部に有する基板処理容器３０と、基板処理容器３０に対して被処理基板Ｗの受け渡しを行う第１搬送ユニット４０と、第１搬送ユニット４０への被処理基板Ｗの受け渡しおよび第１搬送ユニット４０からの被処理基板Ｗの受け取りを行う第２搬送ユニット１４とを備えている。第１搬送ユニット４０は、被処理基板Ｗの上面に接触することなく当該被処理基板Ｗを上方から保持する非接触式のものである。第２搬送ユニット１４は、被処理基板Ｗに接触することにより当該被処理基板Ｗを保持する接触式のものである。 （もっと読む）

【課題】移送装置を提供する。
【解決手段】垂直軸線を形成するプロファイルと、プロファイルに隣接して設けられて被移送物を支持し、プロファイルの垂直軸線に沿ってプロファイルに対して相対的にアップ／ダウン移動するカーアセンブリーと、プロファイルとカーアセンブリーとのうち少なくとも何れか一つに設けられてカーアセンブリーのアップ／ダウン移動時、プロファイルに対するカーアセンブリーの移動経路を非接触式で案内する非接触式アップ／ダウン案内ユニットと、を含むことを特徴とする移送装置。本発明によれば、被移送物に対する高速移送が可能でありながらも、移送速度を安定的に維持及び制御し、かつ被移送物の移送過程中にパーティクルの発生を防止できるということはもとより、従来よりさらにノイズを減らせて、耐久性を向上させうる。 （もっと読む）

【課題】被吸着物に流れる漏洩電流が小さく、被吸着物の平面度を小さくすることができ、パーティクルの発生が少ない静電チャックを提供する。
【解決手段】直径２００ｍｍ以上の、円板状のセラミックス基材と、該セラミックス基材の一方の主面に形成された複数の突起と、該突起の間の主面に形成された電極と、該電極を被覆し、前記突起の間に形成された樹脂と、からなる静電チャック。複数の前記突起の頂部で形成される面の平面度が５μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板などの基板を収容して搬送または保管する際に用いられる基板ケースにおいて、ケース本体内に収容された基板の脱ガスによる汚染を低減する。
【解決手段】基板ケース１は、樹脂製の板材５１〜５５を接着剤で接合した一方のケース片５に対して、樹脂製の板材６１〜６５を接着剤で接合した他方のケース片６が着脱自在に取り付けられたケース本体２を有している。ケース本体２内には、基板収容空間３が形成されている。ケース本体２には、接着剤から発生する脱ガスをケース本体２の外部へ排出する排気孔７が設けられている。これにより、接着剤から発生する脱ガスを排気孔７からケース本体２の外部へ排出して除去することができる。 （もっと読む）

半導体ウエハーや基板のような処理対象物を洗浄、食刻など湿式処理する湿式処理装置及び方法、並びにそれに使用される流体拡散板及びバレルを開示する。本発明による対象物の湿式処理装置は、処理対象物が収容されて処理される処理槽と、前記処理槽の内部に回転可能に設けられ、表面には対象物を前記処理槽の底面と垂直方向に立てて支持する複数のスロットが形成された棒状の対象物支持棒と、前記対象物支持棒に連結されて前記対象物支持棒を回転させることで前記対象物を回転させる回転手段と、を備え、前記対象物支持棒には、前記対象物に処理流体を噴射する処理流体噴射口、及び前記処理流体噴射口に処理流体を供給する処理流体流路が形成されている。本発明によれば、処理槽内のデッドゾーンを除去して処理流体の均一且つ円滑な流れが可能になり、処理効率及び処理均一度が向上する。 （もっと読む）

【課題】保持する対象試料の損傷、および対象試料の汚染を抑制するとともに、保持する対象試料を、比較的大きな吸着力で安定して吸着保持する。
【解決手段】静電気力によって試料を吸着して保持する試料保持具であって、基体と、前記基体の一方主面に設けられた電極層とを有し、前記電極層の表面が、Ｓｉを主成分とする半導電性膜によって被覆されていることを特徴とする試料保持具を提供する。 （もっと読む）

【課題】コンテナ部材内の汚染防止、係合手段の点検、補修、洗浄の簡素化、ドア部材の薄型化を図る。
【解決手段】ドア部材２をコンテナ部材１に係合する係合手段３を、ドア部材２及びコンテナ部材１の外面に設け、係合手段３を、シャフト部材４と、シャフト部材４をコンテナ部材１側に軸支する支持部５と、シャフト部材側の係合部６ｃを有するシャフト係合部材６及びドア部材側の係合部２ｂとを有する構成とし、シャフト部材４の軸線方向の移動に連動しシャフト部材側の係合部６ｃがドア部材側の係合部２ｂに対して係合する係合位置と解除位置とを移動する構成とし、このように係合手段３をドア部材２及びコンテナ部材１の外面に設け、係合手段をドア部材に内蔵する構成としないことで、ドア部材２内に汚染物が溜まるのを無くし且つドア部材２を分解しないで係合手段３の点検、補修、洗浄を行い且つドア部材２内に係合手段を収容する空間を不要とする。 （もっと読む）

【課題】基板の周縁部を保持する保持溝の内部を好適に洗浄することのできる基板処理装置を提供する。
【解決手段】起立させた基板５０を収容する処理槽１０と、基板５０の周縁部５２を保持する保持溝２２を有し処理槽１０に対して昇降移動する基板昇降部（リフタ）２０と、処理槽１０に収容された基板５０を保持溝２２の溝壁面および溝底面から脱離させるとともに、基板５０の外周面５４が保持溝２２の溝底面に対向した状態で基板５０を保持する槽内保持部１２と、槽内保持部１２に保持された基板５０の周縁部５２と保持溝２２との間に、周縁部５２に沿って洗浄液Ｗを流通させる保持溝洗浄部３０と、を備える基板処理装置１００。 （もっと読む）

【課題】基板との接触する部分が少なく、かつ基板のキズ、パーティクルの発生を防止することができる基板保持方法及び基板保持治具を提供することを目的とする。
【解決手段】基板外縁の片面側端部又は両面側端部を、錐体状保持部の錐面とのみ複数位置で接触させることによって、基板を錐体状保持部の底面と垂直方向に保持する基板保持方法、及び、対向する側板と、側板に両端が接続された３以上の支持部材とを有し、基板を側板と平行に保持する基板保持治具であって、支持部材は錐体状保持部を有し、基板外縁の片面側端部又は両面側端部を、錐体状保持部の錐面とのみ複数位置で接触させることによって、基板を錐体状保持部の底面と垂直方向に保持するものである基板保持治具。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムにおいてポッドの蓋に付随する極微小な塵等のミニエンバイロンメント内への拡散を抑制するポッド及び該ポッドに応じたFIMSシステムを提供する。
【解決手段】ポッドの蓋外側面内に被係合部を配置し、ポッド開口周囲に配される該蓋が嵌合可能なフランジ部に対して外部空間より該被係合部にアクセス可能となる挿通孔を配する。ラッチ機構はフランジ部におけるポッド本体側の面においてフランジ側壁に平行な方向に摺動可能に支持され、該ラッチ機構における係合部は該挿通孔を介して被係合部に至り、該ラッチ機構の移動に応じて係合及び非係合の状態変化を為す。 （もっと読む）

【課題】耐蝕性部材およびその製造方法に係り、高い耐蝕特性を有し、体積抵抗率が低いセラミック部材からなるジョンセン・ラーベック力を利用した吸着力の強い静電チャックを提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態においては、酸化イットリウムを主成分とし、セリウムの元素を含有し、非酸化雰囲気での焼成により得られるセラミック部材からなる静電チャックとすることで、高い耐蝕特性を有し、体積抵抗率が低いセラミック部材からなるジョンセン・ラーベック力を利用した吸着力の強い静電チャックを提供できるようになる。 （もっと読む）