【課題】半導体素子が有する寄生容量や寄生インダクタンスによる電力の損失を抑えるこ
とが出来る、整流回路の提供を課題とする。
【解決手段】入力された交流電圧の振幅に従い、前段の回路と該整流回路の間におけるイ
ンピーダンスを整合または不整合にする。入力される交流電圧が規定の振幅以下である場
合は、インピーダンスを整合にし、該交流電圧をそのまま整流回路に印加する。逆に入力
される交流電圧が規定の振幅よりも大きい場合は、インピーダンスを不整合にし、反射に
より該交流電圧の振幅を小さくしてから整流回路に印加する。 （もっと読む）

【課題】スタンバイ状態時における第１導電型のトランジスタでの劣化を抑制可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、第１導電型のトランジスタを含み縦列接続された複数の回路と、複数の回路の其々の入力端子のうち他の回路と接続された接続入力端子と接続し接続入力端子の電圧を制御するための制御信号の活性化に応じて、接続入力端子に、該接続入力端子から電圧を受け付ける回路内の第１導電型のトランジスタを非導通状態とする第１の電圧を供給する制御回路と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＬＳＩ素子の性能劣化及びヒューズ素子の欠陥の増加を抑制できる半導体記憶素子及び半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶素子１００は、第１ヒューズ線１１１と、第１ヒューズ線１１１と並列接続された第２ヒューズ線１１２とを有し、切断されているか否かによって２値のデータを保持するヒューズ素子１１０と、一端がワード線１３０に接続されており、ヒューズ素子１１０に電流を流すか否かを選択する選択素子１２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】直流電源配線に電流が流れたか否かを検出可能な回路を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置において、駆動回路ＢＬＤＵ，ＢＬＤＤ，ＢＬＢＤＵ，ＢＬＢＤＤは、電流磁界またはスピン注入によってトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢを第１の磁化状態に初期設定するために、制御信号線ＢＬ，ＢＬＢに直流電流を流す。電源配線ＤＬは、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢに近接して設けられる。ここで、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢは、電源配線ＤＬに直流電流が流れるときに生じる電流磁界によって第２の磁化状態に変化する。センスアンプ１０は、トンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢが第１の磁化状態から第２の磁化状態に変化したか否かを判定するために、制御信号線ＢＬ，ＢＬＢを介してトンネル磁気抵抗素子ＴＭＲ，ＴＭＲＢに流れる電流を検出する。 （もっと読む）

【課題】半導体チップのチップ面積の削減を図るとともに、半導体チップへの入力を記憶させる時間を短縮する。
【解決手段】本発明の半導体ウエハ１は、チップ領域１０に形成され、絶縁膜を有し、電圧の印加による絶縁膜の絶縁破壊により導通状態となる複数のアンチヒューズ１４を有するアンチヒューズ回路１２と、チップ領域１０を区画するダイシング領域２０に複数のアンチヒューズ１４の各々に対応して形成され、配線を有し、レーザー照射による配線の切断により非導通状態となる複数のレーザーヒューズ２４を有するレーザーヒューズ回路２２と、複数のアンチヒューズ１４のうち、半導体チップへの入力に応じて非導通状態とされたレーザーヒューズ２２に対応するアンチヒューズ１４の有する絶縁膜に、電源からの電圧を印加させて、そのアンチヒューズ１４を導通状態とする制御回路１３と、を有する。 （もっと読む）

【課題】データ出力バッファの正確なインピーダンスキャリブレーション動作を行う。
【解決手段】電源ラインＶＬ１とデータ端子２４との間に接続されたＰ型トランジスタユニット２０１と、電源ラインＶＬ１とキャリブレーション端子ＺＱとの間に接続されたＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４と、キャリブレーション端子ＺＱの電位が基準電位ＶＲＥＦと一致するよう、Ｐ型トランジスタユニット１１１〜１１４インピーダンスを調整し、一致した状態におけるＰ型トランジスタユニット１１１〜１１４の一つのインピーダンスをＰ型トランジスタユニット２０１に反映させるインピーダンス制御回路とを備える。これにより、基準電位ＶＲＥＦが電源電位ＶＤＤの半分のレベルからオフセットしたレベルに設定されている場合であっても、正確なキャリブレーション動作を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】配線間の寄生容量を削減可能にした半導体装置を提供する。
【解決手段】Ｘ方向に配列する複数のトランジスタについて、夫々が、対応するダミーゲートＤＧ１，ＤＧ２を挟む複数のソース拡散層Ｓ１，Ｓ２に接続する第２及び第３の金属配線Ｍ１２，Ｍ１３は、２つのＳ１，２つのＳ２に夫々接続する複数の第１のビアＶ１の両方を含む第１の幅Ｌ１と、Ｖ１を含まず、Ｌ１よりも短い第２の幅Ｌ２と、を有する。ドレイン拡散層Ｄ１に接続する第１の金属配線Ｍ１１と、Ｍ１２との間、並びにＭ１１及びＭ１３の間の夫々は、Ｌ１に対応する第１のギャップＳＰ１と、Ｌ２に対応する、Ｌ１よりも大きな第２のギャップＳＰ２と、を有する。好ましくは、Ｍ１１〜Ｍ１３の夫々と第２のビアＶ２を介して接続される第４〜第６の金属配線Ｍ２４〜Ｍ２６の夫々は、Ｌ１よりも短い第３の幅Ｌ３を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体チップの面積を縮小することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体チップを有する半導体装置では、半導体チップに設けられた内部回路のテストを行うテスト回路と、そのテストが行われている間は内部回路を駆動せず、テストが行われた後に内部回路を駆動する駆動回路とを有し、内部回路に接続された信号線が、テスト回路と駆動回路とで共用される。 （もっと読む）

【課題】無線通信により交信可能な半導体装置において、個体識別子を容易に付けることができるようにする。
【解決手段】薄膜トランジスタ１１９と、薄膜トランジスタ上に第１の層間絶縁膜１５６と、第１の層間絶縁膜上の、ソース領域またはドレイン領域の一方に電気的に接続される第１の電極１１４と、ソース領域またはドレイン領域の他方に電気的に接続される第２の電極１１０と、第１の層間絶縁膜、第１の電極、及び第２の電極上に形成された第２の層間絶縁膜１３５と、第２の層間絶縁膜上の、第１の電極または第２の電極の一方に電気的に接続される第１の配線１７７と、第２の層間絶縁膜上の、第１の電極または第２の電極の他方に電気的に接続されない第２の配線１７８とを有し、第２の配線と前記第１の電極または第２の電極の他方は、第２の層間絶縁膜中の分断領域１６９によって、電気的に接続されない半導体装置及びその作製方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】適切に電源電圧を負荷回路に供給することができる、半導体装置を提供する。
【解決手段】電圧トランスファ２０及びセンスノード配線３３が設けられており、電圧トランスファ２０は、各Ｓｕｂ−Ａｒｒａｙに応じて設けられたＮＭＯＳトランジスタＴＲにより、ノード３２とノード３０との間が接続される。電圧トランスファ２０のトランジスタＴＲは、ソース及びドレインの一方が電源線３１の各Ｓｕｂ−Ａｒｒａｙに応じた位置に接続されており、ソース及びドレインの他方がセンスノード配線３３に接続されている。また、トランジスタＴＲのゲートには、対応するＳｕｂ−Ａｒｒａｙのデコード信号Ａ０〜ＡＸが入力される。 （もっと読む）

【課題】フリップフロップ追加による利益と、スキャンＦＦの段数増加による不利益と、を考慮に入れ、スキャンテスト回路の設計を行う半導体設計方法が、望まれる。
【解決手段】複数のスキャンＦＦから構成されるスキャンテスト回路の設計方法は、複数のスキャンＦＦ間の遅延値を抽出することで、スキャンテスト回路の動作レート候補値を複数算出する第１の工程と、中継用フリップフロップの追加を仮定し、複数の動作レート候補値をそれぞれ使用して、スキャンテストの実施に必要な時間をスキャンシフト時間として算出し、スキャンシフト時間に基づき、中継用フリップフロップを追加することの効果が最も高い動作レート候補値を、中継用フリップフロップの追加後のスキャンテスト回路に適用する動作レートとして選択する第２の工程と、動作レートを満たすように、複数のスキャンＦＦ間に中継用フリップフロップを追加する第３の工程と、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】
実施形態は、解析が簡便な半導体装置を提供する。
【解決手段】
本実施形態の半導体装置は、内部信号を伝送可能な第１配線１０１と、第１配線１０１
と電気的に接続された測定電極１００と、測定電極１００と隣接するように配置され、内
部信号を計測するときに接地電位ＶＳＳが印加され、内部信号を計測する以外のときに所
望の電圧が印加されたダミー電極１０２，１０３とを備える。
例えば、測定電極１００は、環状に形成されており、ダミー電極は、第１電極１０２と
第２電極１０３とを有し、第１電極１０２は、測定電極１００の内側に形成された空間に
隣接するように配置され、第２電極１０３は、測定電極１００の外側に隣接するように配
置される。 （もっと読む）

【課題】寿命が長い半導体装置を提供する。
【解決手段】このＬＳＩは、２つのＣＰＵ１，２と、ＣＰＵ１，２のうちのいずれか１つのＣＰＵを示す論理レベルのデータ信号が書き込まれた記憶回路４と、リセット信号ＲＥが非活性化レベルにされてＬＳＩのリセットが解除された場合、記憶回路４の記憶データの論理レベルに対応するＣＰＵのみに電源電圧を供給するとともに、記憶回路４の記憶データを現在の論理レベルと異なる論理レベルのデータ信号に書き換える制御回路３，５とを備える。したがって、故障の検知や、厳密なタイミング制御を必要とせずに、ＣＰＵの長寿命化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】残渣による配線間のショートの発生を防ぐ。
【解決手段】本発明の半導体装置は、高誘電率材料を含む第１のゲート絶縁膜４と第１のゲート絶縁膜４上に形成された第１のメタルゲート電極５とを備える第１のトランジスタが形成される半導体基板上の第１の領域と、高誘電率材料を含む第２のゲート絶縁膜４と第２のゲート絶縁膜上に形成された第２のメタルゲート電極１２とを備え、第１のトランジスタとは閾値電圧の異なる第２のトランジスタが形成される半導体基板上の第１の領域に並ぶ第２の領域と、電位の異なる第１および第２の配線と、を有し、第１の領域と第２の領域との境界が、第１および第２の配線の少なくとも一方としか重ならない。 （もっと読む）

【課題】デカップリング容量素子の信頼性と、フラッシュメモリの動作モードに対応した供給電流の補償を損なわずに、フラッシュメモリの面積増加を抑制する。
【解決手段】本発明に係る半導体集積回路１０は、フラッシュメモリ部１２と、フラッシュメモリ部１２に電圧を供給する昇圧回路１３と、昇圧回路１３の出力に一端が接続されたデカップリング容量素子１５と、フラッシュメモリ部１２の動作モードに応じて、デカップリング容量素子１５の他端の電位を制御する制御回路１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】安定したチャージポンプ動作を行う。
【解決手段】ノードＡ，Ｂを有するコンデンサＣ１と、ＶＤＤレベルからＶＳＳレベルの間で振幅するポンピング信号ＰＵＭＰ１をコンデンサＣ１のノードＡに供給するポンピング回路１１０と、コンデンサＣ１のノードＢをＶＰＰｅｘｔレベルにプリチャージし、ポンピング信号ＰＵＭＰ１がＶＳＳレベルからＶＤＤレベルに変わった時に、コンデンサＣ１のノードＢをＶＰＰｅｘｔレベルよりも高いレベルに駆動する出力回路１２０とを備える。本発明によれば、コンデンサＣ１のノードＡをポンピングするための電圧と、コンデンサＣ１のノードＢをプリチャージするための電圧が異なっていることから、昇圧電圧を効率よく生成することできる。 （もっと読む）

【課題】高品質な半導体装置を提供する。
【解決手段】第１の絶縁膜１１１、第１の電極１１２、第２の絶縁膜１１３、及び第２の電極１１４を含むゲート構造を有するメモリセルＭＣが複数設けられた記憶部１１と、少なくとも外部１００からのデータを受信し、記憶部にデータを供給する端子１５と、第１の絶縁膜、第１及び第２の電極とを含むゲート構造を有し、電流経路の一端に第１の電圧が印加される第１導電型の第１のトランジスタ１６ａ、一端が第１のトランジスタの電流経路の他端に接続され、他端が端子に接続される第１の抵抗素子１６ｂ、一端が端子及び第１の抵抗素子の他端に接続される第２の抵抗素子１６ｃ及び、ゲート構造を有し、電流経路の一端が第２の抵抗素子の他端に接続され、電流経路の他端に第２の電圧が印加される第２導電型の第２のトランジスタ１６ｄを含む第１の回路１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】設計する回路の中で電流の多く流れる信号線を容易に見つけ出すことができ、容
易にその部分の電流を測定できるスタンダードセルを提供することを課題とする。
【解決手段】電流検出用テストパッドを少なくとも２つ有するスタンダードセルを自動レ
イアウトで配置する。そして、２つのテストパッド間を接続する配線を切断することで、
該２つのテストパッドを電流測定用テストパッドとして利用する。なお、スタンダードセ
ル内の２つのテストパッド間は、過電流が流れることにより電流の流れる経路が遮断され
る配線によって接続される構成としてもよい。また、２つのテストパッド間をつなぐ配線
部にメモリ又はアナログスイッチを設ける構成としてもよい。 （もっと読む）

【課題】エラー箇所の特定を実施する際に、システムを停止しないでエラー発生前の高信頼性までシステム性能を復帰させる。
【解決手段】同一動作を行う複数個の再構成可能な集積回路ユニットを備え、複数の該集積回路ユニットのそれぞれに複数のバンクを有する論理回路において、入力されたデータを、複数個の前記集積回路ユニットの各バンクに振り分けて入力する入力データ制御部と、複数個の集積回路ユニットの各バンクから出力されるデータを比較して、データ間の不一致を検出するエラー解析部と、エラー解析部から、データ間の不一致の通知を受けた場合に、複数個の集積回路ユニットの該当するバンクの再構成を行う構成情報制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】チップ面積が小さく低コストで誤動作が発生し難い半導体チップを提供する。
【解決手段】半導体チップ１をパッケージ３に搭載する場合は８０個のパッドＰＡをパッケージ３の８０個の端子ＴＡに接続し、半導体チップ１をパッケージ５に搭載する場合は１００個のパッドＰＡ，ＰＢ，ＰＣをパッケージ５の１００個の端子ＴＡに接続する。半導体チップ１の内部回路は、電極Ｅ１，Ｅ２が絶縁されている場合は８０端子のマイクロコンピュータ４として動作し、電極Ｅ１，Ｅ２がボンディングワイヤＷの端部によって短絡されている場合は１００端子のマイクロコンピュータ４として動作する。したがって、パッケージの端子数を設定する専用パッドが不要となる。 （もっと読む）