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Fターム[5F041CA04]の内容

発光ダイオード (162,814) | LED形式 (36,241) | 接合構造 (5,632) | ヘテロ (2,525) | ダブルヘテロ (2,400)

Fターム[5F041CA04]に分類される特許

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【課題】素子搭載基板からのケース及び封止部材の剥離発生を抑制することができる発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】発光装置1は、光取出側に開口するケース20、及びケース20内に充填された封止部材21を有する樹脂パッケージ2と、樹脂パッケージ2の封止部材21によって封止された発光素子4と、発光素子4を搭載するとともに、樹脂パッケージ2を素子搭載面3a側に形成する素子搭載基板3とを備え、素子搭載基板3は、ケース20及び封止部材21との間に互いに密着する凹凸部A〜Dを有する。 (もっと読む)


【課題】工程安全性が向上して電気的に連結された複数の発光セルを含む発光素子、発光素子パッケージ、ライトユニットを提供する。
【解決手段】支持基板70と、前記支持基板上に配置された、第1導電型の第1半導体層11、前記第1半導体層の下の第1活性層12、前記第1活性層の下の第2導電型の第2半導体層13を有する第1発光構造物10、前記第1発光構造物の下の第1反射電極17、前記第1反射電極のまわりに配置された第1金属層19と、前記支持基板上に配置された、第1導電型の第3半導体層21、前記第3半導体層の下の第2活性層22、前記第2活性層の下の第2導電型の第4半導体層23を有する第2発光構造物20、前記第2発光構造物の下の第2反射電極27、前記第2反射電極のまわりに配置された第2金属層29と、前記第1発光構造物の第1半導体層内部に接触して、前記第2反射電極と電気的に連結する第1コンタクト部43とを備える。 (もっと読む)


【課題】表示する画像の精細度を高めると共に、視域および奥行き再現範囲を拡大できるIP立体ディスプレイを提供する。
【解決手段】インテグラル・フォトグラフィー(IP)方式により、撮像側にて被写体を光学レンズが並置されたレンズ板を介して撮像した各要素画像から被写体の立体像を再生するIP立体ディスプレイ1は、各要素画像から被写体の立体像を再生するための撮像側に対応した光学レンズを並置したレンズ板を設けることなく、基板2上に要素画像を構成する要素画素5としての光線指向型発光素子10を設けて、光線指向型発光素子10から射出する光線の方向を、各要素画像から被写体の立体像を再生するための光学レンズのレンズ中心を通過する光軸によって規定される方向と同様になるように画素毎に設定したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】反射率の低下を防ぎ、高輝度発光が可能となる発光ダイオードおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の発光ダイオードは、基板1上に順に、反射層6と、複数のオーミックコンタクト電極7が離間して埋設された透明膜8と、電流拡散層25及び発光層24を順に含む化合物半導体層10とを具備する発光ダイオードであって、オーミックコンタクト電極7の基板1側の面の周縁部は透明膜8に覆われ、オーミックコンタクト電極7は反射層6及び電流拡散層25に接触している、ことを特徴とする (もっと読む)


【課題】発光効率を改善した発光素子を提供する。
【解決手段】発光サイリスタ10は、p型の半導体基板12と、p型の半導体多層膜反射鏡16と、p型の第1の半導体層18と、n型の第2の半導体層20と、p型の第3の半導体層22と、n型の第4の半導体層24と、半導体基板12の裏面に形成された裏面電極30と、第4の半導体層24上に形成された上部電極32とを有し、半導体多層膜反射鏡16は、選択的に酸化された酸化DBR16Aと、これに隣接する導電DBR16Bとを含み、酸化DBR16Aは、半導体基板による光の吸収を抑制し、導電DBR16Bは、半導体基板12と第1の半導体層18とを電気的に接続する。 (もっと読む)


【課題】リーク電流の増加を縮小可能な、窒化物半導体発光素子を作製する方法を提供する。
【解決手段】誘電体マスク35aを用いて犠牲膜33から金属膜31を介して窒化物半導体領域39までのエッチングを行って、リフトオフ層33a、電極31a及びエッチングされた窒化物半導体領域41を形成すると共に、窒化物半導体領域39の半極性主面39aをエッチングして半導体リッジ41aを形成する。このエッチング中に、リッジ部41aの形成のためにエッチングされるIII族窒化物半導体表面の面方位に依存して、エッチングされた表面41bにはピラー状の微小突起43が形成される。半極性面では、微小突起の生成がc面に比べて生成されやすい。エッチングにおける基板温度が摂氏60度以上摂氏200度以下の範囲にあるとき、微小突起の面密度の増大を避けることができる。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子の光取り出し効率を向上させる。
【解決手段】接合層180,220を介して支持構造体20と接合される発光構造体10は、接合層180,220の上に配置され、金属材料からなる反射層を備える第1反射部と、第1反射部の上に配置される発光層142を備える半導体積層部10sと、第1導電型クラッド層の光取り出し面となる面側の一部に配置される電極と、を有し、半導体積層部10sは、電極と第1導電型クラッド層との間に、屈折率の異なる2以上の半導体層を積層した第2反射部を備え、第2反射部の側面には、金属材料からなる第3反射部が設けられている。 (もっと読む)


【課題】フォトルミネッセンスを用いることにより、発光素子を容易かつ迅速に識別するための発光素子の検査方法などを提供する。
【解決手段】検査工程は、発光素子1に通電を行わずに、通電により発光する波長(第1波長)より波長が短い光(第2波長の光)を励起光として照射する光照射工程(ステップ201)と、第2波長の光の照射により発光素子1が出射する光を検出する検出工程(ステップ202)と、発光素子1が出射する第1波長の光の強度に基づき、発光素子1の電流リークの状態を判別する判別工程(ステップ203)とを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】実施形態によれば、信頼性に優れた半導体発光装置及び発光モジュールを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体発光装置は、互いに分離された複数のチップと、p側外部端子と、n側外部端子と、半導体層よりも剛性の低い層とを備えている。チップのそれぞれは、半導体層とp側電極とn側電極とを含む。p側外部端子は少なくとも1つのチップのp側電極と第2の面側で電気的に接続されている。n側外部端子は少なくとも1つのチップのn側電極と第2の面側で電気的に接続されている。半導体層よりも剛性の低い層は、p側外部端子とn側外部端子との間の中点を通り、かつ、p側外部端子とn側外部端子を結ぶ線および発光層に対して垂直な中心線と、半導体層の延長線との交差部に設けられている。中心線上に半導体層は設けられず、複数のチップの間に前記中心線が位置する。 (もっと読む)


【課題】LEDのサイズを変えることなく発光サイズを小さくすることができ、また発光サイズを任意に切り替えることが可能となるLED素子を提供する。
【解決手段】LED素子であって、
基板上に、キャリヤ制御層、下部電流閉じ込め層、活性層、上部電流閉じ込め層がこの順で積層された積層構造を備え、
p型電極が前記上部電流閉じ込め層上に設けられ、
前記基板の面内方向において、2つのn型電極が前記p型電極を挟むようにして前記キャリヤ制御層に配設され、
前記p型電極と前記2つのn型電極のいずれか一方のn型電極間に通電することにより、LED発光面の通電したn型電極側を発光させる一方、
前記p型電極と前記2つのn型電極間に同時に通電することにより、LED発光面の全面を発光させるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】全方位出射型発光デバイスにおいて、透明封止樹脂内から、発光素子より出射された光の光路を遮る要因となる物を極力排除し、さらなる光取出し効率の向上を図ること。
【解決手段】発光デバイスを、発光素子と、該発光素子を埋設する透光性部材と、一端が前記発光素子に接続され、他端が前記透光性部材の外部へと引き出された1対の接続線とを有する構成とすることで、光取出し効率の低下を極限まで防ぐことが可能となった。 (もっと読む)


【課題】高温NH3雰囲気下においても耐久性が高い透明かつ導電性の中間膜を有し、半導体デバイスの製造に好適に用いられる複合基板およびその製造方法、ならびにかかる複合基板を用いた半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本複合基板1は、多結晶III族窒化物支持基板10と、多結晶III族窒化物支持基板10上に配置された中間GaN系膜30と、中間GaN系膜30上に配置された単結晶GaN系層21と、を含む。本半導体デバイス2は、複合基板1と、複合基板1の単結晶GaN系層21上に配置された少なくとも1層のGaN系半導体層40と、を含む。 (もっと読む)


【課題】光損失を低減することができ、光取出効率を高めることができる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置1は、回路パターン20,21を素子搭載面2aに有する素子搭載基板2と、素子搭載基板2の素子搭載側に搭載され、かつ回路パターン20,21に接続されたLED素子3と、LED素子3を封止して素子搭載面2aに接合された封止部材4と、封止部材4内で素子搭載基板2の素子搭載側を覆うコーティング層5とを備え、コーティング層5は、その屈折率が封止部材4の屈折率よりも低い屈折率に設定されている。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子の光取り出し効率を向上させることを目的とする。
【解決手段】n型半導体層と、通電により発光波長λの光を出射する発光層と、p型半導体層160と、発光層から出射される光に対する透過性および導電性を備えるとともに第1屈折率n1を有する透明導電層170と、発光層から出射される光に対する透過性および絶縁性を備えるとともに第1屈折率n1よりも低い第2屈折率n2を有する透明絶縁層180と、発光層から出射される光に対する反射性を備えるp金属反射層202とが積層された半導体発光素子1において、透明導電層170の第1膜厚t1は、(λ/4n1)×(A−0.5)≦t1≦(λ/4n1)×(A+0.5)の関係を有し、透明絶縁層180の第2膜厚t2は、(λ/4n2)×(B−0.5)≦t2≦(λ/4n2)×(B+0.5)の関係を有する。ただし、Aは正の偶数、Bは正の奇数である。 (もっと読む)


【課題】半導体発光素子の光取り出し効率を向上させる。
【解決手段】接合層180,220を介して支持構造体20と接合される発光構造体10は、接合層180,220の上に配置され、金属材料からなる反射層を備える第1反射部と、第1反射部の上に配置される発光層142を備える半導体積層部10sと、第1導電型クラッド層の光取り出し面となる面側の一部に配置される電極と、を有し、半導体積層部10sは、電極と第1導電型クラッド層との間に、屈折率の異なる2以上の半導体層を積層した第2反射部を備える。 (もっと読む)


【課題】発光効率及び結晶欠陥が改善された発光素子を提供する。
【解決手段】発光素子は、第1半導体層120、第2半導体層150、及び前記第1半導体層と前記第2半導体層との間に配置された活性層を有し、活性層と第2半導体層150との間に、活性層での電子と正孔の再結合確率を高め、漏れ電流を防止する電子遮断層の機能をもつ、活性層より相対的に大きいバンドギャップを有する中間層140を備える。発光素子は、活性層の障壁層の構造を変更し、中間層のバンドギャップエネルギーに変化を与えて、活性層の正孔注入効率を改善することによって、発光効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】低減された順方向電圧のIII族窒化物半導体レーザ素子を提供する。
【解決手段】p型クラッド層におけるp型ドーパントの濃度がn型不純物の濃度より大きくなるように、p型クラッド層はp型ドーパント及びn型不純物を含む。p型クラッド層のバンドギャップより大きい励起光を用いた測定によるフォトルミネセンス(PL)スペクトルは、バンド端発光及びドナーアクセプタ対発光のピークを有する。このPLスペクトルにおけるバンド端発光ピーク値のエネルギE(BAND)と該PLスペクトルにおけるドナーアクセプタ対発光ピーク値のエネルギE(DAP)との差(E(BAND)−E(DAP))は、当該III族窒化物半導体レーザ素子11の順方向駆動電圧(Vf)と相関を有する。このエネルギ差(E(BAND)−E(DAP))が0.42eV以下であるとき、III族窒化物半導体発光素子の順方向電圧印加に係る駆動電圧が低減される。 (もっと読む)


【課題】n型GaN層の格子欠陥が抑制され、発光効率が向上した半導体素子及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
サファイア基板11と、サファイア基板11上に配置されたn型GaN層13と、n型GaN層13上に配置されたp型GaN層15とを有する半導体素子10であって、n型GaN層13には電子線が照射されている。Al(1-x)GaxN結晶と電子線との相互作用により、n型GaN層13の格子欠陥が抑制され、半導体素子10の発光効率が向上する。 (もっと読む)


【課題】 小型化を図ることが可能なLEDモジュールを提供すること。
【解決手段】 互いに反対側を向く主面11および裏面を有する基板1と、主面11に形成された主面電極2と、主面電極2につながり且つ基板1を貫通する複数の貫通電極31と、主面電極2に方向Xに沿って配列された複数のLEDチップ511,512,513と、主面11に配置され且つ主面電極2を囲むケース6と、を備え、複数のLEDチップ511,512,513は、赤色光、緑色光、および青色光をそれぞれ発する。。 (もっと読む)


【課題】発光動作時における効率低下や光出力の低下を回避しつつ静電破壊耐量の向上を図る。
【解決手段】支持基板30と、発光層12を含む半導体膜10と、光取り出し面側の表面に設けられた表面電極と、支持基板と半導体膜との間に設けられた光反射層20、から形成され、表面電極は、半導体膜とオーミック接触する第1の電極片43と、第1の電極片に電気的に接続され且つ半導体膜とショットキー接触する第2の電極片41と、を含み、光反射層に形成される反射電極は、第1の電極片と互いに重ならないように配置され半導体膜とオーミック接触する第3の電極片21Dと、第3の電極片に電気的に接続され半導体膜とオーミック接触し且つ第2の電極片と対向するように配置された第4の電極片とを含み、第1の電極片と第4の電極片との間の半導体膜の主面方向における最短距離は、第1の電極片と第3の電極片との間の同方向における最短距離よりも大きくする。 (もっと読む)


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